「注入処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

先ず裏面にポリシリコン膜１７を形成したシリコンウェーハ１２の内部に酸素イオン１１を注入した後に、このウェーハ１２に熱処理を施してウェーハ１２内部に埋込み酸化膜１３を形成することにより埋込み酸化膜１３上のウェーハ１２表面にＳＯＩ層１４を形成してＳＩＭＯＸ基板１６を作製し更に全面に酸化膜１８を形成する。例文帳に追加

After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface. - 特許庁

マスクで第１領域保護し、アルミイオンをイオン注入し、熱処理することにより、ゲート誘電体層（２）と、Ｎ＋ポリシリコンゲート（４）との間に、ＡｌｘＯｖの高誘電率界面誘電体層（３）が形成され、フェルミピニング効果が強化され、結果として、Ｎ＋ポリシリコンのＰ−ＭＯＳの仕事関数は、Ｐ＋ポリシリコンゲートの関数に近い値に調整される。例文帳に追加

The first region is protected by a mask, an aluminum ion is injected, and heat treatment is performed, thus forming a high-dielectric-constant interface dielectric layer 3 of AlxOv between the gate dielectric layer 2 and the N+ polysilicon gate 4, strengthening Fermi pinning effect, and hence adjusting a work function of the P-MOS of N+ polysilicon to a value close to the function of a P+ polysilicon gate. - 特許庁

細胞洗浄遠心装置２０の装置洗浄液生成手段３０は供給された生理食塩水４１ａから電気分解によりアルカリ水および酸性水を含んだ洗浄液を生成し、これらの生成洗浄液を、モータ１を一定時間回転中に、順次、連続して装置内に注入し、装置の洗浄処理工程を実行する。例文帳に追加

In the washing liquid preparation means 30 of the centrifugal apparatus 20 for washing cells, a washing liquid containing an alkaline water and a washing liquid containing an acidic water are prepared by electrolyzing a physiological saline solution 41a and they are continuously poured into the apparatus 20 one after the other in a predetermined period of time when a motor 1 is running to carry out a washing process in the apparatus 20. - 特許庁

一方、インキュベータの滅菌処理終了後、加湿部を滅菌する場合、電磁バルブＢを開いて、電磁バルブＡと電磁バルブＣを閉じることで、電磁バルブＤを通過した滅菌ガスは、電磁バルブＢを通過して、加湿空気導入部７２側に流れ込み、加湿部の内部に注入される。例文帳に追加

Meanwhile, when sterilizing a humidifying part after finishing the sterilization treatment of the incubator, the culture device enables the sterilizing gas which has passed the solenoid valve D to flow into a humidified air-introducing part 72 side, by passing through the solenoid valve B so as to be flowed into the inside of the humidifying part, by opening the electromagnetic valve B and closing the electromagnetic valves A and C. - 特許庁

抄紙機等から排出される白水をセットリングタンク６または浮上濃縮タンクに送り、パルプと上澄水に固液分離して該パルプを再利用するにおいて、白水供給ポンプ１からの白水にオゾナイザ３からオゾンを注入し、オゾン滞留槽２で酸化処理した後にセットリングタンク等に送る。例文帳に追加

In reusing pulp by sending white water discharged from a paper making machine or the like to a settling tank 6 or a floating concentration tank and separating it into the pulp and a supernatant, ozone is injected from an ozonizer 3 into the white water coming from a white water feed pump 1 to treat the white water to oxidize in an ozone retaining tank 2 and subsequently the white water is sent to the settling tank or the like. - 特許庁

セル２は被処理面のアモルファスシリコン層２１の表面積よりも遙かに少ない面積の開口部４を備えた円筒状のセル本体３と、その開口部４の外周全周に形成された所定の幅のつば５と、セル本体３の上方に形成された２本のガス注入口６ａ、６ｂとからなる。例文帳に追加

The cell 2 comprises a cylindrical cell body 3 provided with an opening 4 whose area is much smaller than the surface area of an amorphous silicon layer 21 of the surface to be processed, the flange 5 of a prescribed width which is formed around the entire outer periphery of the opening 4, and two gas injection ports 6a and 6b formed above the cell body 3. - 特許庁

硫化物含有排水に酸化鉄又は酸化鉄を含む金属酸化物を注入する装置と、硫化物含有排水と金属酸化物を混合する装置と、混合液の高分子凝集剤による凝集装置と、凝集物含有液を沈殿により固液分離する装置から構成されることを特徴とする硫化物含有排水処理装置。例文帳に追加

The facility for treating sulfide-containing waste water comprises an apparatus for throwing iron oxide or a metal oxide containing iron oxide into sulfide-containing waste water, an apparatus for mixing the sulfide-containing waste water with the metal oxide, an apparatus for subjecting the mixed liquid to flocculation with a polymeric flocculant and an apparatus for subjecting the resulting flocculate-containing liquid to solid-liquid separation by precipitation. - 特許庁

シリコン基板１に酸素イオンを注入した後、酸素を含む不活性ガス雰囲気中で熱処理を行なってシリコン基板中に埋め込み酸化膜７を形成するＳＯＩ基板の製造方法であり、不活性ガスは、アルゴンと窒素とを含み、アルゴンと窒素との合計流量に対する窒素の流量が１％以上５０％未満でアルゴンと窒素とを混合したものである。例文帳に追加

In the method for manufacturing an SOI substrate by implanting oxygen ions in a silicon substrate 1 and then forming a buried oxide film 7 in the silicon substrate by performing heat treatment in an inert gas atmosphere containing oxygen, an inert gas contains argon and nitrogen admixed at such a ratio as the flow rate of nitrogen to the total flow rate of argon and nitrogen is not less than 1% and less than 50%. - 特許庁

極短パルス高電圧加電式ガス浄化装置の排ガス中に印加するパルス電圧を、その排ガス中の性状によって、その浄化装置内に発生するスパークなどの電極間短絡を防止し、ガス状汚染物質をコロナ放電で処理するに充分な放電電力が注入できるようにする。例文帳に追加

To stably operate and obtain high cleaning performance without causing generation of sparks or the like even when an electric discharge inhibitory substance, such as moisture, exists in an exhaust gas while securing discharge electric power with which gaseous contaminants in the exhaust gas can be sufficiently cleaned in an ultra-short pulse high voltage applying-type gas cleaning apparatus. - 特許庁

疎水性に表面処理された酸化チタン微粒子が電荷発生層に含有されることにより、アルミ基体欠陥からの正電荷注入を防止する事が出来、黒班状の画像欠陥が発生せず、且つ高感度で残留電位が小さいデジタル複写機及びプリンター用に適した電子写真感光体を提供する。例文帳に追加

To provide such an electrophotographic photoreceptor that injection of positive charges from defects of an aluminum substrate can be prevented by incorporating titanium oxide fine particles subjected to the surface treatment to impart hydrophobicity into a charge generating layer, that the photoreceptor does not generate image defects in black speckles but has high sensitivity and low residual potential and that the photoreceptor is suitable for a digital copying machine and printer. - 特許庁

シリコン基板の一方の主面からシリコン基板内部に酸素イオンを注入した後、アニール処理してシリコン基板の一方の主面から所定の深さの領域に埋込み酸化層を形成し、埋込み酸化層上の基板の一方の主面にＳＯＩ層を形成するＳＯＩ基板の製造方法の改良である。例文帳に追加

This improved manufacturing method of an SOI substrate is such that, after oxygen ions have been implanted into a silicon substrate through one of its main surfaces, the silicon substrate is annealed to form an embedded oxide layer in a region in the silicon substrate at a prescribed depth from the one main surface. - 特許庁

ゲート電極３ａおよび抵抗素子３ｂとなる多結晶シリコン膜それぞれに不純物を注入した後に、ゲート電極３ａおよび抵抗素子３ｂとなる多結晶シリコン膜それぞれを酸化膜７で被覆した状態で、ゲート電極３ａおよび抵抗素子３ｂとなる多結晶シリコン膜それぞれ内の不純物を活性化するための熱処理を行なう。例文帳に追加

Heat treatment for activating impurities in respective polycrystalline silicon films, which become gate electrodes 3a and resistance elements 3b, is effected under a condition that respective polycrystalline silicon films are coated with an oxide film 7 after implanting the impurities into the polycrystalline silicon films respectively. - 特許庁

精密機械産業等で使用された揮発性有機塩素化合物で汚染された土壌や地下水を微生物を活性化して有機塩素化物を分解して浄化するにあたり、炭素源を地盤中に注入して微生物の活性化を行うが、土壌への適切な浸透性を有し、広範囲の処理を効果的に行い得る土壌、地下水用浄化剤を提供する。例文帳に追加

To provide a decontaminating agent for soil and ground water having appropriate permeability into soil and effectively performing treatment in a wide range, when activating microorganisms by injecting a carbon source into ground, for decontaminating soil or ground water polluted with a volatile organic chlorine compound used in precision machinery industry by activating microorganisms and decomposing the organic chlorine compound. - 特許庁

シート基材２０の複数の縁を縫い合わせてほぼ袋形態の表皮材２を形成すると共にその表皮材２の内部空間に発泡樹脂を注入して発泡させる表皮一体発泡成形方法に用いられる前記表皮材２であって、少なくとも片面に起毛処理を施して毛羽立たせた帯状のシール材６を、前記シート基材２０の縁に宛って一緒に縫い合わせるようにした。例文帳に追加

A band-shaped seal material 6, at least one side of which is fluffed by the raising treatment is sewn together with the seat base materials 20 along the edges of the sheet base materials 20. - 特許庁

超音波診断装置１は、内部に強反射体を含む流体を注入した穿刺針２５を被検体Ｐに穿刺した状態で超音波を送信し、超音波反射信号を受信する超音波プローブ３と、超音波プローブ３により受信された超音波反射信号から穿刺針２５内部における流体の視認が可能な画像信号を生成するデータ処理部１２、１３とを有する。例文帳に追加

The ultrasonic diagnostic apparatus 1 includes: an ultrasonic probe 3 which transmits ultrasound with a subject P punctured with the puncture needle 25 filled inside with a fluid containing a strong reflector and receives ultrasound reflected signals; and data processing parts 12, 13 for generating image signals for making the fluid inside the puncture needle 25 visible from the ultrasound reflected signals received by the ultrasonic probe 3. - 特許庁

硬化材注入量を増大することなくガイドホール削孔時の余掘りを短くし、削孔にかかる時間の短縮及びコストの削減を実現できるとともに、削孔が不可能な硬質地盤でも支持層として利用し着底改良することができる高圧ジェット噴射混合処理工法用装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for a high pressure jet ejection mixing treatment method capable of shortening overbreak at the time of guide hole drilling without increasing a hardener injection volume, realizing reducion of drilling time and cost, making use as a support layer even a hard ground impossible to drill and attaching to the bottom to improve. - 特許庁

画像表示領域に対し特定の角度を有して斜めに配向処理が付与された一対の基板間に強誘電液晶を狭持した強誘電液晶表示素子であって、注入口を除いた周辺シールの少なくともラビング線上にある一角にラビング線と直交した辺を設けた強誘電液晶表示素子とする。例文帳に追加

The ferroelectric liquid crystal display element has ferroelectric liquid crystal sandwiched between a couple of substrates which are orientation treated obliquely at a specified angle to an image display area, the ferroelectric liquid crystal display element being characterized in that a side orthogonal to a rubbing line of a peripheral seal except an injection hole is provided at one corner at least on the rubbing line. - 特許庁

多結晶シリコンのゲート電極４及びソース・ドレイン拡散層領域を７覆うコバルトシリサイド膜８を形成する工程の後に、ソース・ドレイン拡散層領域とチャネル領域との間の領域に不純物イオンを注入してこれを熱処理してＳＤエクステンション６１を形成する工程を備える。例文帳に追加

After a process, in which a cobalt silicide film 8 which covers a source/drain diffusion layer region 7 as well as a gate electrode 4 of a polycrystal silicon is formed, there are provided process where an impurity ion is implanted in the region between the source/drain diffusion layer region and a channel region, which is thermally processed to form an SD extension 61. - 特許庁

前記ガス注入装置（１４０）は、前記第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスを、前記処理チャンバ（１００）の第１の位置及び第２の位置から導入するように構成されており、前記第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスの少なくとも一方は、前記第１の位置と第２の位置とから、交互にかつ連続に導入される。例文帳に追加

The gas injection system (140) is configured to introduce the first process gas and the second process gas to the process chamber (100) at a first location and a second location, where at least one of the first process gas and the second process gas is alternatingly and sequentially introduced between the first location and the second location. - 特許庁

酸素イオン２２を注入する工程とアニール処理する工程の間に、第１酸化膜１７を薄層化して厚さが埋込み酸化膜以上の第２酸化膜１９を形成するか又は第１酸化膜１７と同一の部分に第１酸化膜１７に代えて第２酸化膜を形成する工程を含む。例文帳に追加

It further comprises a process of forming a second oxide film 19 having the thickness above that of the embedded oxide film, by making the first oxide film 17 thinner or forming the second oxide film instead of the first oxide film 17 at the same portion as that of the first oxide film 17 between the process of implanting the oxygen ion 22 and the process of annealing. - 特許庁

本発明の透明導電性膜の表面処理方法は、透明導電性膜にプラズマ中のイオンを照射した後、輝度消失のしきい値エネルギー以上の電子線を選択的に照射することにより、透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与することを特徴とする。例文帳に追加

The surface treatment method for the transparent conductive film comprises selectively changing the charge injection efficiency of the transparent conductive film by irradiating the transparent conductive film with ions in a plasma and then selectively irradiating it with electron beams having energy of a threshold value or larger for luminance disappearance, and, in turn, granting the desired luminescent pattern thereto. - 特許庁

二枚の導電性基板の導電面側の周縁部をシール剤で貼り合せることによりエレクトロクロミックミラー用セルを作成する工程、次いで当該セル中に電解質を注入し、該セルを密封する工程、そして電解質が密封されたセルにアニール処理を施す工程を含むことを特徴とするエレクトロクロミックミラーの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the electrochromic mirror comprises a stage for making the cell for the electrochromic mirror by sticking peripheral parts on the conductive surfaces sides of two sheets of conductive substrates with a sealing agent, a stage for injecting an electrolyte into the cell and sealing the cell and a stage for subjecting the cell in which the electrolyte is sealed to annealing treatment. - 特許庁

半導体基板１上に形成されたポリシリコン抵抗１０を形成する工程において、ポリシリコン中のに注入する不純物濃度を１×１０^20ｃｍ^-3以上としＦＧガス雰囲気で処理する際にポリシリコン抵抗１０の少なくとも一部の上に水素の拡散を阻害する膜あるいはアルミニウム配線９を配置する。例文帳に追加

In a process to form a polysilicon resistor 10 formed on a semiconductor substrate 1, the concentration of an impurity into polysilicon is set at 1×1020 cm-3 or more, and a film or an aluminum wiring 9 is arranged at least on a part of the polysilicon resistor 10 to prevent diffusion of hydrogen when the concentration is treated in an FG gas atmosphere. - 特許庁

シリコン基板１上にゲート酸化膜３、ゲート電極となるポリシリコン膜４、サイドウォール５を形成し、イオン注入による不純物導入によってソース、ドレイン領域を形成した後、コバルト膜６を堆積し、第１の熱処理で第１相のコバルトシリサイド膜７をシリコン基板１およびポリシリコン膜４上に形成し、未反応のコバルト膜６を除去する。例文帳に追加

A gate oxide film 3, a polysilicon film 4 becoming a gate electrode, and a sidewall 5 are formed on a silicon substrate 1, a source-drain region is formed by introducing impurities by ion implantation, and then a cobalt film 6 is deposited, and a first phase cobalt silicide film 7 is formed by first heat treatment on the silicon substrate 1 and the polysilicon film 4 before the unreactive cobalt film 6 is removed. - 特許庁

加熱手段が外周に配置された遠心薄膜乾燥機の上部から洗濯廃液を流下させるとともに分散翼により前記洗濯廃液を筒内壁に分散させ、前記遠心薄膜乾燥機内に注入されるオゾンガスまたは過酸化水素と接触させることにより洗濯廃液を処理する。例文帳に追加

Laundry wastewater is made to flow downward from above the centrifugal thin-film drier, having a heating means disposed around the outer periphery and is dispersed onto the inner wall of a tube by dispersion blades, and by having ozone gas or hydrogen peroxide injected into the centrifugal thin-film drier to cause the laundry wastewater to be brought into contact with ozone gas or hydrogen peroxide, the laundry wastewater is treated. - 特許庁

取鍋１の底に配置された球状化処理剤（Ｍｇ合金粉末）２を、ＳｉＣ粉末と該ＳｉＣ粉末の溶湯中での浮上及び沈降を抑えるＦｅ系材料よりなるＳｉＣ保持材（ポンチ屑）とからなるカバー材３により被覆した状態で、取鍋１内に球状化黒鉛鋳鉄の溶湯を注入する。例文帳に追加

Molten iron for spheroidal graphite cast iron is poured into a ladle 1 under covering state of the spheroidize-treating agent (Mg alloy powder) 2 disposed at the bottom of the ladle 1 with a covering material 3 composed of SiC powder and SiC holding material (punch waste) made of Fe base material for restraining the float-up and the deposition of the SiC powder in the molten iron. - 特許庁

高分子水溶液を直接地盤中に注入あるいは高分子水溶液と土砂を攪拌混合処理するものであって、強度が高く、遮水性に優れ、かつ地震や車輌通過時などの振動による変形歪みにも追随し得る柔構造を与える地盤又は土砂の改良用ポリマー材を提供すること。例文帳に追加

To provide a polymer material for improving the ground or earth and sand which gives a flexible structure exhibiting high strength and excellent water-shielding properties and capable of following deformation or distortion caused by oscillation by an earthquake, passage of a vehicle, or the like, the polymer material comprising an aqueous solution of a polymer to be directly poured into the ground or mixed with earth and sand with stirring. - 特許庁

現場にて回収したアスベスト含有建材Ａを袋体Ｆで梱包して溶融処理施設１まで搬送し、この袋体Ｆ内に助燃性の液体であるグリセリンＧを注入すると共に、貯蔵ブース２に所定時間放置して袋体Ｆ内のアスベスト含有建材Ａ内部にグリセリンＧを浸透させる。例文帳に追加

The asbestos-containing building material A recovered at a job site is packed up with a bag body F and is conveyed to melting treating facilities 1, glycerol G which is a combustion improving liquid is poured into the bag body F and the bag body F is left at a storage booth 2 for a predetermined time to infiltrate the asbestos-containing building material A in the bag body F with glycerol G. - 特許庁

本発明の目的は、水素注入効果を向上させるのに必要な白金族元素の使用量を低減させ、且つ、その処理作業を容易にでき、更にＥＣＰ低下による酸化皮膜からの放射能放出を低減させる原子力プラント炉内構造物の応力腐食割れ緩和方法及び原子力プラントを提供することにある。例文帳に追加

To provide a stress corrosion cracking relieving method of a nuclear power plant in-pile structure and a nuclear power plant for reducing a using quantity of a platinum group element required for improving a hydrogen injection effect, facilitating the processing work, and reducing emission of radioactivity from an oxide film by reduction in ECP. - 特許庁

ディーゼルエンジンから排出される排ガスを酸化触媒に通過させることにより、排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）の一部を二酸化窒素（ＮＯ_２）に酸化せしめ、次いで該排ガス中にアンモニアまたはアンモニア前駆体を注入した後、脱硝触媒を通過させて排ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を還元除去する排ガスの処理方法において、前記排ガスが酸化触媒を通過する前に、排ガス中の粒子状物質を除去することを特徴とするディーゼル排ガスの処理方法。例文帳に追加

This treatment method removes particulate matters in the exhaust gas first, then oxidizes a part of nitrogen monoxide (NO) in the gas into nitrogen dioxide (NO_2) by getting through an oxidation catalyst, injects ammonia or its precursor in the gas, and then gets through a denitrification catalyst to remove nitrogen oxides (NOx) in the gas while reducing. - 特許庁

プラズマにより、表面処理をせずに完全分散できるナノ粒子を作ること、また、等電位点を酸性側にシフトさせ中性域での分散性を極めて高めるため、必要に応じて結晶構造中に異種金属イオン又は原子を注入せしめて一体化するとともに、活性酸素を排出させない結晶構造を創製せしめて、同時に超音波分散又は及び遠心分離法により所望の微粒子を得る。例文帳に追加

Nanoparticles which can be fully dispersed are made by plasma without carrying out surface treatment, and moreover, in order to shift an equipotential point to an acid side and to raise dispersibility in a neutral region extremely, while making a dissimilar metal ion or atom pour in and unify in a crystal structure when needed, a crystal structure which does not make active oxygen discharge is created, and simultaneously desired fine particles are obtained by an ultrasonic wave dispersion or centrifuge method. - 特許庁

画素内に反射領域および透過領域とが並列に配置された第１基板１０Ａにフォトスペーサ２２を形成した後に配向膜１１を塗布し、配向膜１１に対し配向膜１１に吸収される波長帯域の紫外光を照射して、配向膜１１の配向処理を行い、第１基板１０Ａに対し第２基板１０Ｂを所定の基板間隔をもって貼り合わせ、第１基板１０Ａおよび第２基板１０Ｂの間に液晶を注入し、配向制御力により液晶分子が配向された液晶層を形成する。例文帳に追加

A second substrate 10B is stuck to the first substrate 10A at a prescribed interval between substrates, a liquid crystal is injected between the first and the second substrates 10A and 10B and a liquid crystal layer wherein liquid crystal molecules are aligned by alignment controlling force is formed. - 特許庁

本発明方法は、セメント系の地盤改良材に、重金属類と結合して難溶性の化合物を生成し地盤の改良体中に沈殿・固定する作用を強化するためのアルカリ性を呈する硬化剤を付加混合する液状硬化剤の混合工程と、この液状硬化剤の付加混合されたセメント系改良材を地盤に注入しつつ撹拌翼で撹拌して改良体を構築する混合処理工程とからなる。例文帳に追加

The method comprises a mixing process of mixing a cement type ground-improving material with a liquid hardening agent which combines with heavy metals to produce only slightly soluble compounds and exerts alkalinity enhancing the action of precipitation and fixing within improved ground and a mixing treatment process of injecting the cement type improving material added and mixed with the liquid hardening agent into the ground while stirring with a stirring blade to construct improved matter. - 特許庁