「3 beam method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In a laser beam machining method by an ultrashort pulse laser beam, the protective material 3 is mounted on the surface of the workpiece 4 and then the workpiece 4 is machined.例文帳に追加

超短パルスレーザ光によるレーザ加工方法において、被加工物４の表面に保護材３を装着して被加工物４を加工する。 - 特許庁

Accordingly, the measurement according to the parallel beam system can be performed, by removing the mask 3 and by substituting the parallel beam optical system for the concentration method optical system 4.例文帳に追加

マスク３を外し、さらに集中法光学系４を平行ビーム光学系に代えれば、平行ビーム法の測定を行うことができる。 - 特許庁

In performing tracking servo with a 3 beam method, auxiliary light-receiving areas for D3-1, D3-2, D8-1, D8-2 are arranged.例文帳に追加

３ビーム法でトラッキングサーボを行う際に、Ｄ3-1，Ｄ3-2，Ｄ8-1，Ｄ8-2の補助受光領域を設ける。 - 特許庁

In the method for damping vibrations of a static beam structure (1) of the paper machine, the cardboard machine or a subsequent treatment device thereof, a beam (1) is provided with a mass damper (3).例文帳に追加

抄紙機若しくは板紙抄紙機又はそれらの後処理装置の静的ビーム構造（１）の振動を減衰する方法では、ビーム（１）はマスダンパ（３）が設けられる。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device with a semiconductor laser element for light pickup having an excellent 3-beam return light countermeasure, having large mass productivity and using a 3 beam method having high accuracy, and its manufacturing method.例文帳に追加

３ビーム戻り光対策に優れ、且つ量産性が大きく、精度の高い３ビーム法を用いた光ピックアップ用の半導体レーザ素子を有する半導体レーザ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

As a laser beam machining method, in the case of forming an optical system provided with an aperture 3 in the optical path of a laser beam from a laser generator 4 to the lens, an intensity distribution is detected for the laser beam passing through the aperture 3 and, on the basis of the detected information, the laser beam diameter through the aperture 3 is adjusted for the machining.例文帳に追加

レーザ加工方法として、レーザ発振器４からレンズまでの間のレーザビームの光路中にアパーチャ３を設けた光学系を形成する場合に、前記アパーチャ３を通過する前記レーザビームの強度分布を検出し、この検出情報に基づき前記アパーチャ３での前記レーザビーム径を調節して加工を行うもの。 - 特許庁

A beam control 20 calculates and outputs each phase shift of variable phase shifters 3-1-3-N to conduct adaptive beam control, using a predetermined adaptive beam control method which turns the main beam of the array antenna 100 to a predetermined direction based on the signals after time division processing.例文帳に追加

ビーム制御回路２０は、時分割処理後の信号に基づいてアレーアンテナ１００の主ビームを所定の方向に向けるような所定の適応ビーム制御法を用いて、可変移相器３−１乃至３−Ｎの各移相量を計算して出力して適応ビーム制御を行う。 - 特許庁

This device is equipped with a LO beam lamp 3, a HI beam lamp 4 by a projector method adjacent to it and a deflecting and projecting means to project the light onto the lens surface 17a of the HI beam lamp 4 by deflecting a part of the light from the LO beam lamp 3.例文帳に追加

本発明に係る車両用前照灯装置は、ＬＯビームランプ３と、これに隣接するプロジェクター方式のＨＩビームランプ４と、ＬＯビームランプ３の光を一部変向させてＨＩビームランプ４のレンズ面17ａに投光する変向投光手段を備えて構成される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the T-beam, one or more methods among the next methods of (1)-(3) are used in accordance with the size of a product as the decreasing method for the residual stress in the stage of the H-beam.例文帳に追加

Ｈ形鋼の段階での残留応力低減方法として、製品サイズによって次の（１）〜（３）の方法の内１つ以上用いるＴ形鋼の製造方法。 - 特許庁

To provide a light source device that can adopt the 3-beam method and the operating push-pull method as the tracking error detection method for lights emitted from different light emission spots.例文帳に追加

異なる発光点から出射した光に対して、トラッキングエラー検出方法としての３ビーム法，作動プッシュプル法を適用可能にする。 - 特許庁

In this laser beam heating method, metal plates 3, 3 are heated and welded while scanning laser beams L emitted from a laser apparatus 7 of a laser beam welding equipment 1 in the direction of an arrow B.例文帳に追加

本発明に係るレーザ加熱方法は、レーザ溶接装置１のレーザ装置７から出射したレーザ光Ｌを矢印Ｂ方向に走査しながら金属板３，３を加熱、溶接する方法である。 - 特許庁

Subsequently, the binding of the organic foreign matter 2 and the carbon membrane 3 is irradiated by a laser beam to heat evaporate and strip the organic foreign matter 2 and the carbon membrane 3 as a body from the substrate 1 by using the laser beam method.例文帳に追加

次にレーザービーム法を用いてレーザービームを結合した有機系異物２と炭素膜３に照射して、有機系の異物２を炭素膜３と一体に基板１から熱蒸発させて剥離させる。 - 特許庁

An ion beam machining method includes the steps of: dispersing nanoparticles 2 in an adhesive agent 1 and applying the agent to a work surface 3; radiating a gas cluster ion beam 4 to the work surface 3 while the nanoparticles 2 are fixed to the work surface 3; and machining the work surface 3 other than parts masked by the nanoparticles 2.例文帳に追加

接着剤１中にナノ粒子２を分散させて加工面３に塗布し、ナノ粒子２が加工面３に固定された状態で加工面３にガスクラスターイオンビーム４を照射し、ナノ粒子２によるマスク部分を除く加工面３を加工する。 - 特許庁

A carbon membrane 3 is vapor deposited to entrap the foreign matter 2 in the carbon membrane 3 by using the ion beam method to an organic foreign matter 2 attached on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に付着した有機系の異物２に対してイオンビーム法を用いて炭素膜３を蒸着して、炭素膜３に有機系異物２を取込む。 - 特許庁

Further, an electron beam irradiated film 1a is formed on the CaF_2 buffer layer 3 by irradiating an electron beam to make a CuCl thin film grown with MBE method.例文帳に追加

さらに、ＣａＦ_２ｂｕｆｆｅｒ層３上に、電子線を照射しながらＣｕＣｌ薄膜をＭＢＥ法によって成長させ、電子線照射膜１ａを形成する。 - 特許庁

The method for adjusting the passage of the intermediate column 3 provided on the beam 2 comprises directly positioning the intermediate column 3 at the jig 1 put in contact with and fixed to the outside face 21 and the upper face 22 of the beam 2 for adjusting the passage of the intermediate column 3.例文帳に追加

また、梁２の上に設けられる間柱３の通りを合わせる方法であって、梁２の外側面２１および上面２２に当接固定した治具１に、間柱３を当接位置決めして間柱３の通りを合わせるものである。 - 特許庁

The thickness and radius of the coil spring 3 formed by a focused ion beam-induced chemical vapor growth method is controlled by controlling the raw material gas pressure or beam current to be supplied, or scanning direction and speed to have an appropriate spring constant.例文帳に追加

適切なバネ定数になるように、供給する原料ガス圧やビーム電流や走査方向・速度を制御して集束イオンビーム誘起化学気相成長で作製するコイルバネ3の太さ及び半径を制御する。 - 特許庁

A method for correcting proximity effects is used for correcting proximity effects, which occurs at the formation of a pattern on a wafer 3 by electron beam exposure.例文帳に追加

本方法は、電子線露光によりウエハ３上にパターン形成する際に生じる近接効果を補正する方法である。 - 特許庁

Thus, in the special disk, a tracking error signal by the 3-beam method is secured in a practical range.例文帳に追加

これにより前記特殊ディスクにおいて３ビーム法によるトラッキングエラー信号が実用可能なレンジに確保されるようにしている。 - 特許庁

The semiconductor inspection device 50 irradiates the semiconductor device (DUT (Device under Test)) 3 with a laser beam, and specifies a failure part of the semiconductor device (DUT) 3 using the DLS (Dynamic Laser Stimulation) method.例文帳に追加

半導体検査装置５０は、半導体デバイス（ＤＵＴ）３にレーザ光を照射し、ＤＬＳ法を用いて半導体デバイス（ＤＵＴ）３の故障箇所の特定を行う。 - 特許庁

By calculating the position of the microphone 3 with a triangulation method, by using the period t1 and t2, a beam of singing voice is output to the position of the microphone 3.例文帳に追加

そして、この時間ｔ１，ｔ２を用いて、三角測量法によりマイクロフォン３の位置を算出して、このマイクロフォン３の位置に向けて、歌唱音声のビームを放音する。 - 特許庁

In the laser beam welding method, a butted part 3a of galvanized steel plates 3, 3 is welded while scanning laser beams L emitted from a laser apparatus 7.例文帳に追加

レーザ溶接方法は、レーザ装置７から出射したレーザ光Ｌを走査しながら、亜鉛メッキ鋼板３，３の突き合わせ部３ａを溶接するレーザ溶接方法である。 - 特許庁

In an execution method of an underground beam to be executed between foundation piles 3 and 3 of a viaduct, the foundation pile 3 is built, a steel pipe having a joint on a head part of the foundation pile is installed, and a steel plate 9 is pressed-in the ground through the joint to execute the underground beam.例文帳に追加

高架橋の基礎杭（３），（３）間に施工される地中梁の施工方法において、基礎杭（３）を構築後、基礎杭頭部に継手を取り付けた鋼管（８）を設置し、前記継手を通して鋼板（９）を地中に圧入設置して地中梁を施工するようにしたものである。 - 特許庁

To realize an entirely novel beam synthesizing prism which can be inexpensively realized and with which synthesis of ≥3 optical beams is easy and to realize a novel beam synthesizing method, a multibeam scanning light source device and a multibeam scanner by using this beam synthesizing prism.例文帳に追加

安価に実現でき、３以上の光ビーム合成も容易な全く新規なビーム合成用プリズムを実現し、このビーム合成用プリズムを用いて、新規なビーム合成方法・マルチビーム走査用光源装置、マルチビーム走査装置を実現する - 特許庁

The method for adjusting an optical axis is a method for adjusting the optical axis of a laser beam from a laser machining apparatus having a laser beam oscillator 1 and an optical system 3 movable over a predetermined range, and includes a first step and a second step.例文帳に追加

この光軸調整方法は、レーザ発振器１及び所定の範囲で移動可能な光学系３を有するレーザ加工装置のレーザ光の光軸を調整するための方法であって、第１工程及び第２工程を含む。 - 特許庁

In this method, the setting parameter for changing the beam diameter of ion beam of the rare gas at the time of colliding with each electrode face of the lead out electrode system 3 is adjusted, and by converging the ion beam of the rare gas within an effective setting range of beam diameter that has a high strength of sputtering the insulating film, the insulating film is uniformly removed.例文帳に追加

本発明の方法では、引出電極系３の各電極面に衝突する際の希ガスのイオンビームにおけるビーム径を変化させる設定パラメータを調整し、絶縁膜をスパッタする強度が高いビーム径の有効設定範囲に希ガスのイオンビームを集束させて、絶縁膜を均一に除去する。 - 特許庁

The film-forming method comprises continuously forming an organic EL layer on the anode 3 with a vacuum deposition method, and forming a cathode on the organic EL layer with an ion beam sputtering method, by using the apparatus 10.例文帳に追加

この装置１０を用いて、陽極３上に蒸着法により有機ＥＬ層と、この有機ＥＬ層上にイオンビームスパッタリング法により陰極とを連続して成膜することができる。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

This laser quenching method includes quenching the inner surface 11a of a cylinder bore by irradiating the inner surface with a laser beam 3 while rotating a condensing head 9 and inserting it into the cylinder bore.例文帳に追加

集光ヘッド９をシリンダボア内に挿入しつつ回転させながら、シリンダボア内面１１ａにレーザ光３を照射して焼き入れを行う。 - 特許庁

A mark 3 is formed in the marking area MA of a semiconductor wafer 1 by a hard marking method in which a marking substance is physically scattered and removed by projecting a laser beam 15 upon the substance.例文帳に追加

半導体ウエーハ１のマーキング領域ＭＡに、レーザ光１５の照射で物理的に飛散除去させるハードマーキングによりマーク３を形成する。 - 特許庁

This forming method includes irradiating a metallic complex 2 with an energy beam 3 to form the metallic nanoparticles 4 made from a metal composing the metallic complex 2.例文帳に追加

金属錯体２にエネルギービーム３を照射することによって、金属錯体２を構成する金属からなる金属ナノ粒子４を生成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the shape material comprises a process for forming the small hole 4 by irradiating the base body 1 to form the shape material 5 with the converged energy beam 3.例文帳に追加

型材５となる基体１に対して収束されたエネルギービーム３を照射して細孔４を形成する工程を有する、型材の製造方法。 - 特許庁

The method further comprises the steps of laminating an insulating film 8 on the surface, irradiating the part of accessing holes of the films 8 and 11 with a laser beam to form openings 3.例文帳に追加

その表面に絶縁性フィルム８を積層し、絶縁性フィルム８、１１のアクセスホールとなる部分にレーザー光を照射して開口部３を形成する。 - 特許庁

The laser beam machining method includes a main machining stage for cutting a workpiece 3 by laser and a pre-machining stage to be performed before the main machining stage.例文帳に追加

このレーザ加工方法は、ワーク３をレーザで切断加工する本加工工程と、当該本加工工程の前に行われる前加工工程とを備える。 - 特許庁

The method for locally exciting the phonon in the thermal nonequilibrium condition uses the step for irradiating a soft X-ray photon beam having a photon energy of 10 eV to 3 keV.例文帳に追加

フォノンを非熱平衡状態で局所的に励起させる方法として、光子エネルギー10eVから3keVの軟Ｘ線光子ビームを照射する方法を用いる。 - 特許庁

To provide an optical head device capable of surely compensating TE offset caused when a 3-beam method is employed for detecting a tracking error signal.例文帳に追加

トラッキングエラー信号の検出に３ビーム法を採用した場合に発生するＴＥオフセットを確実に補償可能な光ヘッド装置を提供すること。 - 特許庁

The exposure method comprises introducing the exposure beam B reflected by the reflection structure 3 to a face forming an angle with respect to the surface of a substrate 21.例文帳に追加

露光方法については、反射構造体３にて反射された露光ビームＢを基板２１の表面と角度をなす面に導くという構成にする。 - 特許庁

In the method for producing a film, an organic material or an inorganic material charged to a hearth 3 in a vacuum tank 12 is irradiated with an electron beam with an electron beam generator 2, and the organic material or inorganic material is physically vaporized.例文帳に追加

真空槽１２中でハース３に入れられた有機材料または無機材料に電子ビーム発生器２により電子ビームを照射して物理的に前記有機材料または前記無機材料を気化する。 - 特許庁

The method and device for scanning the sample (i) by using the light beam (2) of the light source (3) preferably in a conforcal scanning type microscopic method, in which the light beam (2) is deflected by using a beam deflector (4) and the scanning operation is controlled by a controller (5).例文帳に追加

本発明は、好ましくは共焦点走査型顕微鏡法において、光源（３）の光ビーム（２）を用いて、試料（１）を走査するための方法および装置に関し、光ビーム（２）がビーム偏向装置（４）を用いて偏向され、走査動作が制御装置（５）によって制御される方法および装置に関する。 - 特許庁

In the laser beam machining method for performing the laser beam machining of a surface of a work or a part in the vicinity thereof by using laser beams, the laser beam machining of the work 2 along the surface shape is performed by controlling the beam intensity distribution 4 in the vicinity of a laser beam condensing position 3 by controlling the laser pulse energy or the numerical aperture of a condensing lens.例文帳に追加

レーザビームを用いて被加工物の表面またはその近傍にレーザ加工を施すレーザ加工法において、レーザビームの集光位置３近傍の光強度分布４を、レーザパルスエネルギもしくは集光レンズの開口数の制御により被加工物２の表面形状に沿って制御することで、被加工物２の表面形状に沿ったレーザ加工を行う。 - 特許庁

In this method for cutting at least one optical fiber at a prescribed angle, an optical fiber 3 is inserted to a holding and positioning device 7 first, and then the optical fiber 3 is cut by a laser beam LS.例文帳に追加

少なくとも１本の光ファイバを所定角度で切断する方法は、まず光ファイバ３を保持及び位置決め装置７内に挿入し、次にレーザビームL_Sにより光ファイバ３を切断する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a magnetic material thin film, the magnetic material thin film is deposited to be a specimen 3, and then the specimen 3 is irradiated with an ion beam 2 at a current density in a value range at which a perpendicular magnetic anisotropy coefficient value becomes positive by the irradiation of the ion beam 2.例文帳に追加

磁性材料薄膜の製造方法は、磁性材料薄膜を成膜した後、それを試料３として、垂直磁気異方性定数の値がイオンビーム２の照射によって正となるような数値範囲の電流密度でイオンビーム２を試料３に照射する。 - 特許庁

A metallic foil joining method is disclosed in which the end faces 3a of a plurality of laminated metallic foils 3 are irradiated with a laser beam 4 and joined to each other, wherein the metallic foils 3 are fused by irradiation of the laser beam, and the fused parts 3b is pressurized by a pressing member 5.例文帳に追加

積層された複数の金属箔３同士の端面３ａにレーザ光線４を照射して互いに接続する金属箔の接続方法であって、金属箔３にレーザ光線を照射して金属箔３を溶融させるとともに、この溶融部３ｂを押圧部材５により押圧する。 - 特許庁

In the cleaning method of the outer circumferential surface (3) of the welding metal tube (1), a laser beam (7) focused on the outer circumferential surface (3) is used for fusing, evaporating, and/or sublimating the fouling and flaw which are present at the outer circumferential surface (3).例文帳に追加

溶接金属管（１）の外周面（３）のクリーニング方法において、該外周面（３）上に存在する付着物質、及び傷を融解、蒸発、及び／又は昇華させるために、該外周面（３）上に焦点を合わせたレーザービーム（７）を用いる。 - 特許庁

According to the building seismically reinforcing method, the seismically reinforcing material 2 is fixed to columns 5 or to a wall and a beam 7 around the opening section 4 facing the outside of a multiple dwelling building 3 so as to be astride the columns 5 or the wall and the beam 7.例文帳に追加

建物の耐震補強方法は、集合住宅建物３の外部に面した開口部４の周りの柱５又は壁と梁７とに跨って当該柱５又は壁と梁７とに耐震補強材２を固定した。 - 特許庁