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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > After processの意味・解説 > After processに関連した英語例文

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After processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8069



例文

And, an image processor 35 performs the gradation process at the image data for the evaluation by using the gamma curve after the regulation, and the printer 33 prints the image for the evaluation on a transmission type monochrome film based on the image data for the evaluation after the gradation process.例文帳に追加

そして、画像処理部35が、調整後のガンマカーブを用いて評価用画像データに階調処理を施し、印刷部33が、階調処理後の評価用画像データに基づく評価用画像を透過型モノクロフィルムに印刷する。 - 特許庁

Moreover, from a viewpoint of improved weatherability, it is subjected to a caustic treatment after the surface washing process 10 or it is also desirable to perform scrub washing using slurry of colloidal silica after the surface polishing process 9.例文帳に追加

また耐候性を改善する観点からは、表面洗浄処理工程10の後に脱アルカリ処理を施したり、或いは表面研磨工程9の後にコロイダルシリカのスラリを使用してスクラブ洗浄処理を行うのも好ましい。 - 特許庁

The control means 26 carries out the pressure keeping process of the time duration established after heating the cooking pot 3 and carries out a pressure reduction process to cool the cooking pot 3 compulsorily by the cooling fan 21 after the time duration.例文帳に追加

制御手段26は、調理鍋3の加熱終了後、設定された継続時間の保圧工程を実行し、この継続時間の経過後冷却ファン21により調理鍋3を強制的に冷却する減圧工程を実行する。 - 特許庁

The method for straightening curly hair using the curly hair straightening composition includes: an application process of applying the curly hair straightening composition to hair; a drying process of drying the hair after the application; and a straightening process of heating and clamping the hair between a pair of flat plates after the drying process to straighten the hair.例文帳に追加

また、このような縮毛矯正用組成物を用いた縮毛矯正方法として、縮毛矯正用組成物を毛髪に塗布する塗布工程と、塗布後の毛髪を乾燥させる乾燥工程と、乾燥後の毛髪を一対の平板間で加熱挟持してストレート化するストレート工程とを含んで、縮毛矯正を行うようにした。 - 特許庁

例文

The manufacturing method of the silicon carbide semiconductor device includes a process for forming passivation film on the silicon carbide wafer, before a process in which silicon carbide dust adheres to the silicon carbide wafer, a process for removing the silicon carbide dust by plasma etching, after the silicon carbide dust has adhered on the passivation filn, and a process for removing the passivation film after the plasma etching step.例文帳に追加

SiC粉塵がSiCウェハに付着する工程の前に、SiCウェハ上に保護膜を形成する工程と、SiC粉塵が保護膜上に付着した後にプラズマエッチングによりSiC粉塵を除去する工程と、前記プラズマエッチング後に前記保護膜を除去する工程を含む炭化珪素半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁


例文

The method comprises a process for performing heating treatment for a semiconductor device with a layer insulation film containing impurities, a process for executing a treatment for making impurity concentration distribution of an upper layer part of the layer insulation film 2 uniform after the heating treatment process and a process for polishing a layer insulation film by CMP after the uniformization treatment of impurity concentration distribution.例文帳に追加

不純物を含む層間絶縁膜を有する半導体装置を加熱処理する工程と、その加熱処理工程の後、層間絶縁膜2の上層部の不純物濃度分布を均一にするための処理を行う工程と、不純物濃度分布の均一化処理の後に、層間絶縁膜をCMPにより研磨する工程とを備える。 - 特許庁

After passing through such sequential process, the high-strength cold-rolled steel sheet having strength of ≥590 MPa TS and excellent in the chemical-processing property and the corrosion-resistance after electrostatic-deposition coating, is obtained.例文帳に追加

このような一連の工程を経ることにより、TS≧590Mpaの強度を有する、化成処理性および電着塗装後耐食性に優れた高強度冷延鋼板が得られる。 - 特許庁

A sheet S that falls after the sheet S is ejected from an image forming device main body 100, or a sheet stack falling after a process has been performed is stacked on a sheet stacking portion 325.例文帳に追加

画像形成装置本体100から排出された後、落下するシートS、或は処理が施された後、落下するシート束をシート積載部325に積載する。 - 特許庁

The manufacturing process comprises slicing off only epicarps with oil cells from the residues of citrus fruits after the juices are squeezed, cutting them into fine pieces and distillating them after adding water, to obtain essential oils.例文帳に追加

香酸カンキツ類の果汁搾汁後の残滓から油胞付き外果皮のみ切り取り、それを細かく裁断して、それに加水し蒸溜分離によって精油を得る。 - 特許庁

例文

To precisely recognize an alignment mark after post electrode formation in a fabrication process of CSP (chip size package).例文帳に追加

CSPの製造工程において、ポスト電極形成後においてアライメントマークを確実に認識することができるようにする。 - 特許庁

例文

The surface 3 to be processed after the laser piercing is bleached at 70°C by a pickling solution, by which a pickling process is executed (b).例文帳に追加

レーザ穿孔後、加工しようとする面3を酸洗い溶液に70℃でさらし、酸洗いプロセスが実施される(b)。 - 特許庁

In a transfer process, the condition of ink having contacted with a recording medium is maintained for a fixed time after pressing.例文帳に追加

転写工程において、圧着後、インクと記録媒体が接触した状態を保持した状態を一定時間保つ。 - 特許庁

After the above process, the non-woven fabric and the film, causing heat contraction, produce a tension on the rear face of the extremely thin tatami.例文帳に追加

これら作業の後には不織布とフィルムは熱収縮を起こして極薄畳の裏面に張力が発生している。 - 特許庁

An encoding process and the like of the image data on a layer area basis after the down-converting are executed to be output from an output part 30.例文帳に追加

ダウンコンバート後のレイヤ領域毎の画像データの符号化処理等を行い出力部30から出力する。 - 特許庁

From the robot position after the predetermined point movement process, a coordinate system Σv1 indicating the direction of a visual axis 40 is obtained.例文帳に追加

各所定点移動処理後のロボット位置から視線40の方向を表わす座標系Σv1の方向を求める。 - 特許庁

Data after the process are separated by referring to the beam allocation pointers PB0, PB1, PB2 which are set for every beam.例文帳に追加

処理後のデータは、各ビーム毎に設定されたビーム割振りポインタPB0,PB1,PB2を参照して分離される。 - 特許庁

In the CVD process, the supply of the oxidizing agent is carried out for a prescribed period after the start of the reaction, and is thereafter stopped.例文帳に追加

CVD工程において、酸化剤の供給は、反応開始から所定期間行われ、その後停止される。 - 特許庁

Electrical inspection is performed after the second punching process is finished to measure whether or not there is electrical conduction between the terminals 13.例文帳に追加

2回の打ち抜き工程が終了した後に電気検査を行い、前記端子間13の導通の有無を測定する。 - 特許庁

A filter is checked when a stirring operation is conducted after performing an auxiliary water-pouring operation in each process in the washing machine.例文帳に追加

本発明の洗濯機は、各工程において補注水動作が行われた後の撹拌動作時に、フィルタチェックを行う。 - 特許庁

When the disk is in the process of reproduction at the time of disk insertion, the disk auxiliary data are preserved in the memory after waiting until the sleep period.例文帳に追加

デイスク挿入時に、ディスク再生中であれば、スリープ期間までまってから、ディスク補助データをメモリに保存する。 - 特許庁

The heat for hardening the adhesive layer 5 can be taken from the drying stage after the coating in the wheel manufacturing process.例文帳に追加

接着層5を硬化させる場合の熱は、ホイール製造時における塗装後の乾燥工程を利用することができる。 - 特許庁

To easily and correctly adjust a folding position when conducting a folding process of a printed medium after image formation.例文帳に追加

画像形成後の印刷媒体の折り処理を行う際に、折り位置の調整を容易且つ正確に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a microcomputer and an on-vehicle system capable of reducing the time of an initialization process that is implemented after resetting.例文帳に追加

リセット後に実行される初期化処理の処理時間を短縮可能なマイクロコンピュータ及び車載システムを提供する。 - 特許庁

The density of the extracted principal area after the density correction process is calculated and set as a reference density value.例文帳に追加

抽出された主要部領域の、濃度補正処理後の濃度を算出し、その濃度を濃度基準値に設定する。 - 特許庁

After removal of the resist 7, a groove pattern is formed on the inorganic anti-reflection film 6 by the photolithographical process with use of a resist 8.例文帳に追加

レジスト7除去後、無機反射防止膜6上に、フォトリソグラフィによりレジスト8を用いて溝パターンを形成する。 - 特許庁

To provide process cheese having thermostable firmness and good cook aptitude excellent in releasability after cooked.例文帳に追加

耐熱保形性を有し、加熱調理後の剥離性も良好な加熱調理適性を有するプロセスチーズを提供すること。 - 特許庁

After this sample preparation process, the reaction containers are transported to the analysis mechanism at a predetermined timing, and the samples are analyzed.例文帳に追加

そして、試料調整過程を経た反応容器は、所定のタイミングで分析機構に移送され、試料は分析される。 - 特許庁

A difference D(=d_rE'(k)-f_0) between a disturbance estimated value d_rE' after pulse removing process and a functional value f_0 in step 250.例文帳に追加

ステップ250では、脈動除去処理後の外乱推定値d_rE′と関数値f_0 との差D(=d_rE′(k)−f_0 )を求める。 - 特許庁

After laminating respective layers 19-21, the etching process is carried out until the front surface of the silicon insulating film 18 is exposed.例文帳に追加

そして、各層19〜21を積層した後、シリコン絶縁膜18の表面が露出するまでエッチング処理する。 - 特許庁

After the completion of the introduction of the first process gas SiH_4, purge gas Ar is introduced and simultaneously plasma is generated.例文帳に追加

この第1のプロセスガスSiH_4の導入終了後に、パージガスArを導入し、同時にプラズマを発生させる。 - 特許庁

After the resist 106 is eliminated, the metal thin film 104 is etched, and a bump electrode forming process is completed.例文帳に追加

次に、レジスト106を除去し、その後、金属薄膜104のエッチングを行い、バンプ電極形成工程は完了する。 - 特許庁

After this curing process, the reaction completed product is cooled to a temperature of 40°C or below (corresponding to the use temperature of the plastic lens).例文帳に追加

この硬化工程後、40℃以下の温度(プラスチックレンズの使用温度に相当)に反応完結生成物を冷却する。 - 特許庁

To eliminate post cure inflation just after a vulcanization process, and to improve high speed durability and road noise.例文帳に追加

加硫工程直後のポストキュアインフレーションが不要で高速耐久性、ロードノイズを改善した空気入りラジアルタイヤの提供。 - 特許庁

After the stop process time T passes, an operation time electric system 71 is shut off, and an ignition 7 is turned off.例文帳に追加

また、停止過程時間Tが経過した時点で、運転時電気系統71を遮断してイグニッション7をOFFにする。 - 特許庁

After that, the remaining intermediate outer diameter part is bulged into a peak by reducing wall thickness by a hydraulic bulge process.例文帳に追加

その後に、残された中間外径の部位を液圧バルジ加工によって減肉を与えつつ山部に張り出し成形する。 - 特許庁

To achieve reliable cleaning of a substrate with a tape by removing an adhesive material remaining after the process of cleaning with a tape.例文帳に追加

テープによる洗浄処理に際して残留した粘着材を除去して、確実なテープによる洗浄を可能にする。 - 特許庁

After the OS ends, the process of the device driver is restarted to change the mode of a processor (150, 152) and then a batch program is started.例文帳に追加

OSが終了するとデバイスドライバの処理が再開され、プロセッサのモードを変更(150,152)した後にパッチプログラムを起動する。 - 特許庁

This information is inputted in the memory unit 44 of the process cartridge B after final information measurement in the assembly stage.例文帳に追加

プロセスカートリッジBのメモリユニット44への情報の入力を、組立工程の最終情報計測の後に行なう。 - 特許庁

To provide substrate treatment equipment wherein the treatment atmosphere of a substrate can be controlled suitably before and after an exposure process.例文帳に追加

露光工程の前後において、基板の処理雰囲気を好適に制御できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

A straight line detection processing part 75 detects a straight line in the image after the second blackening process based on the coordinate value.例文帳に追加

直線検出処理部75は、座標値に基づいて2回目の黒抜き処理後の画像中の直線を検出する。 - 特許庁

To form a line and space structure where pattern collapse does not occur in a drying process after liquid cleaning.例文帳に追加

液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。 - 特許庁

To prevent the internal temperature of a high-pressure tank from being non-uniform in the process of filling the tank with hydrogen gas and immediately after filling.例文帳に追加

水素ガスの充填中および充填直後に、高圧タンクの内部温度が不均一となることを防止する - 特許庁

After via holes 7 are formed, a glass removing process is performed for removing a glass fiber thread 2 remaining in the via holes 7.例文帳に追加

ビアホール7形成後に、ビアホール7内に残留するガラス繊維糸2を除去するためのガラス除去処理を行う。 - 特許庁

To eliminate removal work for soil in after work by removing the soil attached on stems and roots 7b in a harvesting process.例文帳に追加

茎根7bについている土を収穫過程で落とすようにし、後作業での土落しを不要にしたものである。 - 特許庁

In each MH tank 11-14, the occlusion process is carried out after the hydrogen is supplied to the on- vehicle tank of one vehicle.例文帳に追加

そして,各MHタンク11〜14は,1台の車両の車載タンクに水素を供給したら吸蔵過程を行う。 - 特許庁

A heating process is applied to the base plate 30 on which the slurry is applied in a sintering furnace after drying the painted slurry (a step S130).例文帳に追加

塗布スラリーを乾燥させた後、スラリー塗布済みの基板30を、焼結炉にて加熱処理する(ステップS130)。 - 特許庁

The rendering process for the second-type polygon is performed using the clip space by the far value or the near value after setting.例文帳に追加

そして、当該設定後のファー値、ニア値によるクリップ空間を用いて第2種ポリゴンの描画処理を実行する。 - 特許庁

After the mask member are removed, the metal foil etching process is conducted with the electrolytic plating surface-layer NM as an etching resist.例文帳に追加

マスク材を除去した後に、電解メッキ表面層NMをエッチングレジストとした、金属箔のエッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can be brought into a mirror package after an assembling process without replacing a bonding wire.例文帳に追加

ボンディングワイヤを入れ替えることなく、組み立て工程後にミラーパッケージとすることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

例文

The subpixel of the triple magnified image after the filtering process is assigned to 3 emitting light elements that constitute one pixel and displayed.例文帳に追加

フィルタリング処理後の3倍画像データのサブピクセルを、1画素を構成する3つの発光素子に割り当てて、表示する。 - 特許庁




  
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