「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A process of selecting printing heads corresponding to colors and a process of selecting whether or not printing is to be executed again by changing conditions after finishing printing are added to a printing data development process part.例文帳に追加

上記課題を解決するために、プリントデータ展開処理部には、色に対応したプリントヘッドを選択する処理及び印刷終了後に条件を変えて再度印刷を実行するか否かを選択する処理を付加する。 - 特許庁

It is also preferred that a baking temperature in the Al baking process is set higher than a growth temperature in the growth process of the silicon nitride film, and a temperature at which the after-baking process is conducted.例文帳に追加

また本発明においては、Ａｌ焼成工程における焼成温度が窒化シリコン膜の成長工程における成長温度および該後焼成工程の温度よりも高く設定されることが好ましい。 - 特許庁

The image is estimated by applying an optimizing process using a performance function comprising a plurality of constraint conditions in a probability theory to images after pre-processing of a filtering process and a binarizing process to an acquired original image.例文帳に追加

撮像した元画像にフィルタリング処理および2値化処理を施した前処理後の画像に対して、複数の拘束条件からなる評価関数を確率論的に最適化処理を行って画像を推定する。 - 特許庁

To provide a microbicidal method in a water system in a reducing atmosphere, especially in a pulp reducing bleaching process including wastepaper recovery of papermaking process, processes after pulp reducing bleaching and a starch slurry preparation process.例文帳に追加

還元性雰囲気下にある水系、特に製紙工程の古紙回収を含めたパルプの還元漂白工程、パルプの還元漂白後の工程およびデンプンスラリー調製工程における殺微生物方法を提供する。 - 特許庁

The method has also a cooling process step of cooling the substrates 1 by applying a cooling liquid to the substrates 1 during the period of at least part of the period when the substrates are moved to a position where the plating cleaning process step is carried out after the plating immersion process step.例文帳に追加

また、メッキ浸漬工程後、メッキ洗浄工程を行う位置まで移動する期間のうち少なくとも一部の期間中に、基板１に冷却液を掛けて、基板１を冷却する冷却工程とを備える。 - 特許庁

To provide a packaging process of electronic components which joins an electronic component to a board with good productivity and high reliability, without a resin sealing process or bump leveling process after the circuit board and electronic components are bonded.例文帳に追加

回路基板と電子部品との接合後、封止樹脂工程やバンプレベリング工程を必要とせず、電子部品を基板に生産性良くかつ高信頼性で接合する電子部品の実装方法を提供する。 - 特許庁

After forming a semiconductor film 100 made of an amorphous silicon film on a substrate 50 formed of glass or the like with a low-temperature process (film-forming process), lamp annealing is performed to thereby make the film 100 polycrystalline (crystallization process).例文帳に追加

ガラス製等の基板５０上に低温プロセスで非晶質シリコン膜からなる半導体膜１００を形成した後（成膜工程）、ランプアニールを施して半導体膜１００を多結晶化させる（結晶化工程）。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer cleaning system and its cleaning liquid supply method for removing a process by-product and impurities remaining on a wafer, so that process failures can be prevented, before and after each process.例文帳に追加

各工程を行う前後に工程不良を防止できるようにウェーハ上に残存する工程副産物及び不純物を除去し得る半導体ウェーハ洗浄システム及びその洗浄液供給方法を提供する。 - 特許庁

The method has a first process of allowing a reducing agent for electroless gold plating to act on the silicon surface and a second process of forming the electroless gold plating film after the first process.例文帳に追加

上記のごとく従来は金めっき膜を形成するために前処理として銅又はニッケルなどの金属膜を形成し、その上に金めっき膜を形成するのみであり工程がかかり単価上昇につながる。 - 特許庁

The manufacturing method of the negative electrode is provided with a coating process to coat the negative electrode mixture slurry on the negative electrode current collector and a solvent removal process in which, after the coating process, the solvent of the negative electrode mixture slurry is evaporated.例文帳に追加

負極合剤スラリーを負極集電体に塗布する塗布工程と、前記塗布工程の後に、負極合剤スラリーの溶媒を蒸発させる溶媒除去工程と、を備える負極の製造方法。 - 特許庁

After the second process, the active layer 3 is exposed by etching the etching stopping layer 4 in the depth direction by using the mask (third process) and a gate electrode is formed on the active layer 3 by using the same mask (fourth process).例文帳に追加

しかる後、前記マスクを用いてエッチング停止層を深さ方向にエッチングして活性層を露出させ（第３の工程）、次いで前記マスクを用いて活性層上にゲート電極を形成する（第４の工程）。 - 特許庁

This construction method comprises a substrate treatment process for removing deteriorated parts of a water channel wall surface and foreign matter, and a coating process for applying high elastic special mortar to the water channel wall surface after the substrate treatment process.例文帳に追加

水路壁面の劣化部分や異物等を除去して下地処理する下地処理工程と、同下地処理工程にて下地処理した水路壁面に高弾性特殊モルタルを塗工する塗工工程とを具備している。 - 特許庁

The carburizing treatment process includes a heat treatment process for heat treating a component 1 to be subjected to carburizing treatment in a heat treating surface after a coating process for coating a sliding surface 3 of the component 1 to be subjected to carburizing treatment with an agent 4 which contributes to carburization.例文帳に追加

浸炭加工部品１の摺動面３に、浸炭寄与剤４を塗布する塗布工程後に、浸炭処理部品１を熱処理炉内で熱処理する熱処理工程を有する浸炭処理工程を備える。 - 特許庁

To provide a polyester multifilament yarn which is not broken in an embroidering process, has good dimensional stability after an embroidered lace-finishing process and a dyeing process, and gives a lace substrate having a soft hand.例文帳に追加

刺繍工程中の糸切れがなく、かつ得られた刺繍レースの仕上げ工程や染色工程後の寸法安定性がよく、風合いをよりソフトとしたレース用基布を得るためのポリエステルマルチフィラメント糸を提供する。 - 特許庁

This method for producing the modified soybeans includes a moisture increasing process of increasing a moisture content of soybeans after threshing, and a moisture decreasing process of decreasing a moisture content of the soybeans subjected to the moisture increasing process.例文帳に追加

本発明は、脱穀後の大豆の水分含量を上げる水分上昇工程と、水分上昇工程を行った大豆の水分含量を下げる水分下降工程とを伴う改質大豆の製造方法である。 - 特許庁

A subordinate CPU lights all the light emitting elements (except the light emitting element to be turned off in the first interrupt process) when the first interrupt process is executed after the start of execution of a light emission control main process.例文帳に追加

サブＣＰＵは、発光制御メイン処理の実行開始後、最初の割込処理を実行するとき、全ての発光素子を点灯制御する（但し、最初の割込処理にて消灯制御する発光素子を除く）。 - 特許庁

A process wherein the raw unhulled rice is exposed to warm air, while being irradiated with a microwave, and a process wherein the raw unhulled rice is cooled after completion of the above process, are conducted one time respectively or repeated until the rice reaches the prescribed moisture value.例文帳に追加

生籾にマイクロ波を照射しながら温風を当てる工程と、該工程の終了後に前記生籾を冷却する工程とを、生籾が所定の水分値に達するまで、各一回または繰り返して行う。 - 特許庁

By doing so, the electric contact of the apparatus body does not drop from an electric contact of the process cartridge even when the feedable range of the process cartridge is narrow and even during or after completion of attachment of the process cartridge.例文帳に追加

そうすることにより、プロセスカートリッジの給電可能範囲が狭くとも、プロセスカートリッジの装着途中あるいは完了後においても、装置本体の電気接点がプロセスカートリッジの電気接点から脱落することは無い。 - 特許庁

Filter coefficients of the blurring process accompanied with the reduction process are set so that the number of pixels of a diameter after the blurring process becomes equal to a value resulting from multiplying the value of a blurring amount parameter by the reduction rate.例文帳に追加

縮小処理を伴うぼかし処理のフィルタは、ぼけの大きさの直径の画素数が、（ぼかし量パラメータの値）×（縮小率）の値に等しくなるようなフィルタ係数を設定してぼかし処理を行う。 - 特許庁

This manufacturing method includes: a coating process for coating a nucleus material surface gasified by heating with a film containing a powder-like lithium ion storage member; and a heating process for gasifying the nucleus material after the coating process.例文帳に追加

また、製造方法は、加熱によりガス化する核材表面に、粉状のリチウムイオン吸蔵部材を含有する膜を被覆する被覆工程と、被覆工程の後に核材をガス化させる加熱工程とを有する。 - 特許庁

The process for forming the first concave section 21 includes: a process for cutting a region where the first concave section 21 is formed; and a process for adjusting the precision of the first concave section 21 by punching after cutting.例文帳に追加

また第１の凹部２１を形成する工程は、第１の凹部２１が形成される領域を切削する工程と、切削後にパンチングを行って第１の凹部２１の精度出しを行う工程とを含むこととする。 - 特許庁

After the ozone discarding process, a process or confirming the absence of ozone in order to avoid the occurrence possibility of the explosion of ozone in the ozone chamber beforehand is provided or only the confirming process is merely provided.例文帳に追加

オゾン廃棄プロセス後に、オゾンチャンバー内にオゾン爆発が生じる可能性を事前に回避するためにオゾンが存在していないことを確認するプロセスを設けること、または単に確認プロセスのみを設けることも含む。 - 特許庁

Otherwise, this method mainly comprises the process of specifying and collecting dioxin, the process of heating and extracting the dioxin from the collected matter, and the process of determining the concentration of the dioxin after heating extraction.例文帳に追加

また、主としてダイオキシン類を特定採取する工程と、前記採取物からダイオキシン類を加熱抽出する工程と、前記加熱抽出後のダイオキシン類の濃度を確定する工程とからなることを特徴としている。 - 特許庁

Based on a predetermined function specifying a relationship between a pixel value of a viewpoint pixel as a pixel in the course of the visual process and the pixel value after the visual process, a visual processing part 120 for carrying out the visual process by the image unit is provided.例文帳に追加

視覚処理中の画素である着目画素の画素値と前記視覚処理後の画素値との関係を定めた所定の関数に基づいて、画素単位で視覚処理を行なう視覚処理部１２０を設ける。 - 特許庁

After a menu for checking booking or for changing flight is selected (b), biological information is read at a check-in terminal (process c) for acquiring the biological information of the user (process d), and biological information inside a boarding server 5 is searched (process e).例文帳に追加

予約確認または便変更のメニュー選択（ｂ）後、チェックイン端末で生体情報を読取り（工程ｃ）、利用者の生体情報を取得し（工程ｄ）、搭乗サーバ５内の生体情報を検索する（工程ｅ）。 - 特許庁

If there is no change, the process proceeds to a step S8 for the pretreatment, and after the image is processed in a step S9, the process proceeds to a step S10 to output the processed image.例文帳に追加

変更がない場合にはＳ８に進み前処理を行い、Ｓ９において画像処理を行った後に、Ｓ１０に進み画像処理済みの画像を出力する。 - 特許庁

A tuning request which is stored in the tuning request storage section 205 during a tuning process is erased by a tuning request erasure section 208 after the tuning process.例文帳に追加

選局要求消去部２０８は、選局要求格納部２０５において選局処理中に格納された選局要求を、当該選局処理後に消去する。 - 特許庁

After forming a mask in the process S107, in the process S108, a current confinement structure is formed matched with the position of the desired periodic structure using the mask.例文帳に追加

工程Ｓ１０７でマスクを形成した後に、工程Ｓ１０８では、このマスクを用いて所望の周期構造の位置に合わせて電流閉じ込め構造を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method for the lithographic printing plate precursor which is provided with a photosensitive layer containing an infrared ray absorbent on a support body with at least the ends of facing two sides being chamfer-treated comprises sequentially performing a development process and a gumming process after an exposure to light.例文帳に追加

また、赤外線レーザー光での直接描画、高速処理でエッジ汚れの発生しない平版印刷版原版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

After the practice process is performed, practice of the measures extracted in the practice setting process is directed in the frequency corresponding to the difference between the maximum practice frequency.例文帳に追加

そして、練習処理を実行すると、練習設定処理にて抽出した小節について最大練習回数との差分に相当する回数分の練習を指示する。 - 特許庁

The automatic programming means 4 performs nesting by using component plate material feeding procedure information 46 to a working device 52 in the next process and in the process after the next of the plate material working machine 1.例文帳に追加

自動プログラミング手段４は、板材加工機１の次のさらに次の工程の加工装置５２への部品板材供給順情報４６を用いてネスティングを行う。 - 特許庁

After the restoration work of the trouble has been achieved, the continuous length sheets discharged from the lamination process, are successively delivered from the continuous length sheet relay stocker and then, the operation takes over a normal process.例文帳に追加

トラブルが復旧した後にラミネート工程から排出された長尺シートを長尺シートの中継ストッカから順次繰り出し通常作業に移行する。 - 特許庁

To provide a booklet forming apparatus which suppresses effects to a forming process given by a reaction force from a booklet while enabling the booklet to be transferred with the back at the head after the forming process.例文帳に追加

成形処理後に背を先頭に冊子を搬送可能としつつ、冊子からの反力が与える成形処理への影響を抑制した冊子成形装置を提供する。 - 特許庁

The surface part of the flesh thawed with epidermis in the thawing process is promptly frozen by coldness accumulated in core of the flesh after end of the decortication process.例文帳に追加

解凍工程において表皮とともに解凍された果肉の表面部分は、剥皮工程終了後に、果肉内部に蓄積された冷熱によって速やかに凍結する。 - 特許庁

The manufacturing method also desirably has a process for removing an oxide film generated on the surface of the electroplated film 6 after the process of peeling the plated resist 2.例文帳に追加

また、めっきレジスト２を剥離する工程の後には、電解めっき膜６の表面上に生成した酸化皮膜を除去する工程を有していることが好ましい。 - 特許庁

To prevent drying within a housing after sterilization while preventing detachment of a member to close a liquid port during the sterilization process in the process of manufacturing a liquid separator.例文帳に追加

液体分離器の製造工程において滅菌処理時に通液口を閉鎖する部材が外れることを防止しつつ、滅菌処理後のハウジング内の乾燥を防止する。 - 特許庁

This sterilizing method includes a sterilizing process in which the mist b of hydrogen peroxide is guided into the container 1, and a hydrogen peroxide discharging process in which the hydrogen peroxide after the sterilization is discharged to the outside of the container.例文帳に追加

容器１内に過酸化水素のミストｂを導入する殺菌工程と、殺菌後に過酸化水素を容器外に排出する過酸化水素排出工程とを含む。 - 特許庁

After the positions of the reference patterns 3a, 3b, 3c are recorded, a process region 4 including the defect is determined and the extent of the process region 4 and a reference point 5 are recorded.例文帳に追加

参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃの位置を記録した後、欠陥を含む加工領域４を設定し、加工領域４範囲及び基準点５を記録する。 - 特許庁

To suppress the generations of the global steps caused by unbalance in the residue-film thicknesses after a CMP process, when making semiconductor elements by performing an STI-CMP process.例文帳に追加

ＳＴＩ−ＣＭＰ工程を行って半導体素子を製造するに当たり、ＣＭＰ工程後の残膜厚の不均衡によるグローバル段差の発生を抑制する。 - 特許庁

Furthermore, the method has (d) a process of reacting the silicon of the second impurity diffused layer 8 with nickel, by annealing to form the silicide layer 11, after the process (c).例文帳に追加

そして、（ｄ）工程（ｃ）の後に、熱処理により第２の不純物拡散層８のシリコンと、ニッケルとを反応させてシリサイド層１１を形成する工程を備える。 - 特許庁

A current evaluation circuit is activated, before a reading process and automatically inactivated, immediately after finishing the reading process by a circuit (STAD) for automatic inactivation.例文帳に追加

電流評価回路は、自動的に不活性化する為の回路（ＳＴＡＤ）により読み工程の前に活性化され、読み工程の終了直後、自動的に不活性化される。 - 特許庁

A temporary delay process is added to the command of the power generation (target generation torque) to control the generator in such a way that the current is generated that corresponds to the command of the power generation after this process.例文帳に追加

発電指令（目標発電トルク）には一次遅れ処理を施し、この処理後の発電指令に相当する発電電流を発生するように、発電機を制御する。 - 特許庁

After the confirmation, a verification inputting screen is displayed (S708), and either a re-mounting process (S715) or a mounting process for the next part by skipping a part (S719) is made selectable.例文帳に追加

確認後は、確認入力画面が表示され（Ｓ７０８）、再搭載処理（Ｓ７１５）か、又は部品スキップして次の部品の搭載処理（Ｓ７１９）かを選択可能とする。 - 特許庁

In cooking, a worker selects a control process of a desired pattern in a job necessary for every process and activates it after inputting a parameter.例文帳に追加

作業員は、調理を行うときに、各プロセス毎に必要な作業における所望のパターンの制御プロセスを選択すると共にパラメータを入力した後に起動させる。 - 特許庁

After a first cleaning process for a deposit A attaching to an inner wall surface or the like of a chamber 1 using a first gas, a second cleaning process takes place using a second gas.例文帳に追加

チャンバー１内壁面などの付着した付着物Ａを第１のガスを用いて第１のクリーニング処理を行った後、第２のガスを用いて第２のクリーニング処理する。 - 特許庁