「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

The dish storage apparatus is separately composed of a tray part for putting dishes thereon and leg parts to be fitted to the tray part in the after-process.例文帳に追加

食器を乗せる為のトレイ部分と、脚部分を別部品とし、脚部品を後工程でトレイ部分に嵌め込む構成とする。 - 特許庁

After the position of the insert is determined in the recess, the additional forging and a finishing process are applied on a complex of the club head and the insert.例文帳に追加

凹部内にインサートを位置決めした後、クラブヘッドとインサートとの結合体は付加的な鍛造及び仕上げ工程を受ける。 - 特許庁

In a bottom press procedure after the cover tucking-up process, a pressure to be brought to bear on the side is low, hence no possibilities of damaging the IC tag inlet 10.例文帳に追加

くるみ工程の後のボトムプレスではサイドに掛かる圧力が弱いので、ＩＣタグ用インレットが破損する恐れがない。 - 特許庁

This method uses a seal leaving no trace after peeling as the display member 4 to dispense with cleaning in a recycling process.例文帳に追加

表示部材４として剥がすと痕跡が残らないシールを用いることができるので、リサイクル工程で洗浄が不要になる。 - 特許庁

After the formation of a liquid reservoir in this manner, movement of the slit nozzle into a scanning direction is initiated, thereby initiating the coating process.例文帳に追加

このようにして液溜まりが形成された後に、スリットノズルの走査方向への移動を開始して塗布処理を開始する。 - 特許庁

To reduce the production cost of a filter by omitting a seal member attaching process after a filter main body is manufactured.例文帳に追加

フィルタ本体を製造した後のシール部材の取付け工程を省略できるようにして、フィルタの製造コストを低減させる。 - 特許庁

To make a space smaller and to decease the volume of the water to be used in a rinsing process step after degreasing, pickling and plating in a continuous surface treatment line.例文帳に追加

連続表面処理ラインにて、脱脂、酸洗、めっき後のリンス工程にてスペースが小さく、使用水量を少なくする。 - 特許庁

To provide a washing-drying machine and a clothes drying machine capable of providing a feeling more approximating a feeling of sun drying after a drying process.例文帳に追加

乾燥工程後に、より天日干しに近い感覚を得ることができる洗濯乾燥機および衣類乾燥機を提供する。 - 特許庁

After the rinse process finishes, hot air is supplied into the washing tank from the blower drier 13 to dry pellets.例文帳に追加

すすぎ工程終了後、同じ送風乾燥装置１３から洗浄槽内に温風を供給することにより乾燥させる。 - 特許庁

To provide a curing device which can eliminate products in process after curing of a coating material and further, save an installation space.例文帳に追加

コーティング材を硬化させた後の仕掛り品をなくすことができ、しかも設置スペースを削減できる硬化装置を提供する。 - 特許庁

After a process in which the second silicon oxide film is remained on the sidewalls of the gate electrode, an impurity diffusion layer is formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

第２シリコン酸化膜をゲート電極の側壁部に残す工程の後、半導体基板に不純物拡散層を形成する。 - 特許庁

To provide a high-k gate dielectric which maintains a constant threshold voltage even after a high temperature process in a CMOS integration step.例文帳に追加

ＣＭＯＳ集積過程での高温処理の後であっても一定の閾値電圧を維持する高ｋゲート誘電体の提供。 - 特許庁

To alleviate the stress to be added to a bump and the periphery thereof in a cooling process after a semiconductor apparatus and a substrate are connected.例文帳に追加

半導体装置と基板とを接続した後の冷却の過程でバンプ及びその周辺に加わる応力を緩和する。 - 特許庁

After removing the first mask material, a lower electrode is formed in the first and second capacitor holes by a single film formation process.例文帳に追加

第１のマスク材料除去後、１回の成膜工程で、第１及び第２のキャパシタ孔内に下部電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method of smoothly performing a process to apply chemicals to the end faces of a pair of bonded substrates after cutting.例文帳に追加

一対の貼り合わせた基板を切断した後にその端面に薬剤を塗布する工程を円滑に行う方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing process of an active matrix thin film transistor element substrate, a gate insulation film is formed after a gate electrode is patterned.例文帳に追加

アクティブマトリックス型薄膜トランジスタ素子基板の製造工程において、ゲート電極をパターンニング後、ゲート絶縁膜を成膜する。 - 特許庁

The process of the use queue is returned to an executable state by the means 200 after the end of the reconnection processing.例文帳に追加

使用待ち行列のプロセスは、再接続手段２００により、再接続処理終了後、実行可能状態に戻される。 - 特許庁

To provide a wiping method wherein a defect mending operation and a blushing removal operation are not required before and after a wiping process.例文帳に追加

ワイピング工程の前後に欠点の補修作業やかぶりの除去作業を行う必要のないワイピング方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, since the diffuser parts 4, 5 are formed after the catalyst carrying process, thermal deformation is not generated, and re-forming of the opening part is unnecessary.例文帳に追加

さらに、触媒担持処理のあとディフューザ部を形成するので、熱変形が発生せず、開口部の再成形などを要しない。 - 特許庁

To solve the problem that water is efficiently removed from hides during squeezing after tanning process in leather industry.例文帳に追加

皮革工業において鞣された革の絞り工程中に皮革から水を効率良く排出する問題に解決を与える。 - 特許庁

After discharging the pure water, a second rinse process is carried out by charging up pure water on the substrate from a pure water nozzle 6.例文帳に追加

純水を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして２回目のリンス工程が行われる。 - 特許庁

If verification is successful (Yes in S30e), normal title reproduction process is started (S30g) after waiting for end of decoding (S30f).例文帳に追加

検証が成功すると（Ｓ３０ｅでＹｅｓ）、デコード終了を待ち（Ｓ３０ｆ）、通常のタイトル再生処理を開始する（Ｓ３０ｇ）。 - 特許庁

After the completion of the introduction of the second process gas WF_6, purge gas Ar is introduced for a period T6 and simultaneously plasma is generated.例文帳に追加

この第２のプロセスガスＷＦ_６の導入終了後に、パージガスＡｒを期間Ｔ６導入し、同時にプラズマを発生させる。 - 特許庁

After that, roughness of a resist mask 7 formed on the surface 5a is removed by a plasma process before a BG tape 25 is attached.例文帳に追加

その後、ＢＧテープ２５の貼付前に表面５ａに形成されたレジストマスク７の荒れをプラズマ処理により除去する。 - 特許庁

After that, the substrate 10 is cut in each of the blocks 11a-11d into plural sub-TFT substrates in the primary cutting process.例文帳に追加

その後、１次カット工程において、基板１０をブロック１１ａ〜１１ｄ毎に切断して複数のサブＴＦＴ基板とする。 - 特許庁

Thereby, time to perform reticle inspection, reticle cleaning, etc. in a light exposure process can be made after the fact.例文帳に追加

これにより、露光工程においてレチクル検査やレチクル洗浄等を実施するための期間を事後的に創出することができる。 - 特許庁

To provide a testing process of a semiconductor device capable of confirming degradation of the semiconductor device after inspection.例文帳に追加

本発明は検査後の半導体装置の劣化を確認できる半導体装置の試験方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a coating process (step ST3), the upper and lower faces 11, 12 of the piston ring wire material 10 after forming clearances are coated.例文帳に追加

続くコーティング工程（ステップＳＴ３）では、隙間発生後のピストンリング線材１０の上下面１１，１２にコーティングを施す。 - 特許庁

The barrier layer is formed through a process of introducing oxide into a film constituting the barrier layer, after depositing the film.例文帳に追加

前記バリア層は、バリア層を構成する膜を堆積した後に、該膜中に酸素を導入する工程によって形成される。 - 特許庁

The second heat treatment for releasing the stress generated in the substrate in the first heat-treatment process is conducted after the heat treatment.例文帳に追加

この熱処理後に、第１熱処理工程において基板に発生するストレスを開放するための第２の熱処理を行う。 - 特許庁

The temperature of the dough after the kneading process can be sustained at about 27-29°C and preferable dough is obtained.例文帳に追加

その結果、捏ね行程後のパン生地温度を約２７から２９℃の範囲にすることが可能となり良好なパン生地ができた。 - 特許庁

Then after the process (a), (b) the paper money processor rotates the paper money 180° around the first direction to the paper money.例文帳に追加

そして、工程（ａ）の後に、（ｂ）紙幣処理装置が、紙幣を、紙幣に対する第１の方向を軸として１８０度回転させる。 - 特許庁

To rapidly cool an object after thermal process from an annealing temperature to a room temperature, related to a vertical diffusion device.例文帳に追加

縦型拡散装置において、熱処理済みの被処理物をアニール温度から室温に高速に冷却することを可能にする。 - 特許庁

More specifically, after etching process is finished, all the wafers obtained from one and the same ingot are measured for the thickness and then are held temporarily (21).例文帳に追加

具体的には、エッチング工程終了後、同一のインゴットから得られた全ウェハを厚さ測定後に一時的に保持する（21）。 - 特許庁

A transparent film 10 is formed on the coating film 6 so as to cover the dried film-shaped coating after finishing the fifth process.例文帳に追加

第５の工程の終了後に、乾燥した膜状塗料を覆うように塗膜６上に透明膜１０を形成する。 - 特許庁

Next, the thick-walled 1 after heated and dried is rapidly heated to 140-160°C suitable for biaxial stretching (second heating process).例文帳に追加

次に、加熱乾燥後の厚肉プリフォーム１を二軸延伸に適した140〜160℃の温度まで急速加熱する(第２の加熱工程)。 - 特許庁

In a dividing process of the surface acoustic wave apparatus, it is cut so that the width of the piezoelectric substrate may become smaller than the width of the support substrate after division.例文帳に追加

これにより、圧電基板に欠けなどの欠陥を与えることなく、良質な弾性表面波装置を得ることが出来る。 - 特許庁

After the paper is cut, the guide plate 47 and paper retainer plate 48 are rotated downward to a cutting process position, where a cutting waste is dropped.例文帳に追加

切断後は、ガイド板４７及び紙押え板４８を下方に回転させ切断処理位置にし、切断屑を落下させる。 - 特許庁

To obtain sufficient adhesion and durability of a decorative layer, even when a coating process after transfer is omitted, in a hydraulic transfer method.例文帳に追加

水圧転写方法にて、転写後の塗装工程を省いても、十分な装飾層の接着性及び耐久性を得る。 - 特許庁

After a jointing material undercoating process, an undercoated image is acquired by an electronic camera, and undercoat height data are obtained by a laser displacement gauge.例文帳に追加

接合材下塗布工程ののち、電子カメラで下塗布画像を取得し、レーザ変位計により下塗布高さデータを取得する。 - 特許庁

The control right may be acquired before the receiver is authenticated, or after the authentication process is successful.例文帳に追加

制御権は受信者が認証される前に獲得されても良いし、あるいは認証プロセスが成功した後に獲得されても良い。 - 特許庁

To improve bearing performance by suppressing dimensional change after a re-pressing process, thereby improving the dimensional accuracy.例文帳に追加

再圧工程後の寸法変化を起こりにくくし、その結果として寸法精度を向上させて軸受性能をより向上させる。 - 特許庁

After removing the resist pattern 7, an oxide film 9 is grown on the exposed surface of the conductive film 5 by effecting oxidizing process.例文帳に追加

レジストパターン７を除去した後、酸化処理を行うことによって導電膜５の露出面に酸化膜９を成長させる。 - 特許庁

Next, after the photosensitive film pattern is removed, an annealing process is performed and the ITO film in an amorphous state is quasi-crystallized.例文帳に追加

次に、感光膜パターンを除去した後でアニーリング工程を実施して、非晶質状態のＩＴＯ膜を準結晶化する。 - 特許庁

To provide a process for producing optical devices subjected to mirror surface finishing without being subjected to intricate mirror surface finishing after division.例文帳に追加

分割した後の煩雑な鏡面加工を行わずに、鏡面加工が施された光学デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁