「After process」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing the garlic having no odor after eating comprises the following processes: (S104) a process of boiling raw garlic with heated milk; (S106) a process of washing the boiled garlic with water; (S108) a process of eliminating water attaching to the washed garlic; and (S110) a process of frying the garlic with oil.例文帳に追加

本発明の食後無臭ニンニクの製造方法は、加熱状態の牛乳で生ニンニクをゆでる工程（Ｓ１０４）と、ゆでたニンニクを水洗する工程（Ｓ１０６）と、水洗されたニンニクに付着した水分を除去する工程（Ｓ１０８）と、ニンニクを油で揚げる工程（Ｓ１１０）とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the integrated circuit device includes a first process to form a first insulating film 40 above a platinum group metal film 6, a second process to form a hole 44b reaching the platinum group metal film 6 in the first insulating film 40, and a third process which applies chemical mechanical polishing to the first insulating film 40 after the second process.例文帳に追加

白金族金属膜６の上方に第１の絶縁膜４０を形成する第１の工程と、第１の絶縁膜４０に、白金族金属膜６に達する孔４４ｂを形成する第２の工程と、第２の工程の後に、第１の絶縁膜４０に化学的機械的研磨を施す第３の工程を有する。 - 特許庁

This producing method of the substrate comprises: a process for preparing a base material wherein a nickel layer is formed on a copper layer by a plating method; a process for heat-treating the nickel layer at 800 to 1,000°C; and a process for epitaxially growing a coating layer on the nickel layer after the process for heat-treating the nickel layer.例文帳に追加

本発明は、めっき法を用いて銅層上にニッケル層が形成された基材を準備する工程と、前記ニッケル層を８００〜１０００℃で熱処理する工程と、前記ニッケル層を熱処理する工程の後に前記ニッケル層上に被覆層をエピタキシャル成長させる工程とを備えた、基板の製造方法に関する。 - 特許庁

This production method of the catheter tube is provided with a core wire preparation process for preparing a core wire having a thick diameter portion and a thin diameter portion, a cover body formation process for forming a cover body by covering synthetic rein on the core wire, and a core wire removal process for removing the core wire embedded in the cover body after the cover body formation process.例文帳に追加

太径部と細径部を有する芯線を準備する芯線準備工程と、芯線上に合成樹脂を被覆して被覆体を形成する被覆体形成工程と、被覆体形成工程後に被覆体に埋没した芯線を除去する芯線除去工程とを有するカテーテル用チューブの製造方法とする。 - 特許庁

The command sequence is so set that an authenticating process command is executed precedently to a ciphering process command, so only a recorder and reproducer after the authenticating process is able to store or reproduce contents in or from the recording device and the use of contents by illegal equipment before the authenticating process can be eliminated.例文帳に追加

コマンドシーケンスは、認証処理コマンドを暗号処理コマンドに先行して実行するように設定されているので、認証処理の済んだ記録再生器のみが記録デバイスに対するコンテンツの格納、または再生処理が実行でき、認証処理の済まない不正な機器によるコンテンツ利用が排除できる。 - 特許庁

This optical measurement method includes a homogenizing process performed after a liquid diluent is added to a sample containing the measurement target, a filtering process for removing a solid substance, an adding process for adding insoluble fine particles not causing the emission due to an excitation wavelength to a specimen in a concentration of 1-10% and a process for measurement and evaluating the measurement target.例文帳に追加

測定対象物を含有する試料に希釈液を加えて行う均質化工程と、固形物を取り除く濾過工程と、励起波長による発光がない不溶性微粒子を検体に対し濃度１〜10％となるよう加える添加工程と、測定対象物の測定評価工程を備える。 - 特許庁

This method for producing the alcoholic drink is characterized in that a fermentation process comprises the primary unrefined Shochu-maturing process for adding a malted raw material and the yeast to a material to be fermented and the secondary unrefined Shochu-maturing process for adding a basidiomycete-cultured liquid and a main raw material after the finish of the primary unrefined Shochu-maturing process.例文帳に追加

発酵工程が、まず被発酵物に麹原料、酵母を添加してなされる一次もろみ熟成工程と、該一次もろみ熟成工程の終了後に担子菌培養液、主原料を添加してなされる二次もろみ熟成工程と、からなることを特徴とするアルコール飲料の製造方法を提供できる。 - 特許庁

The method for applying the above composition comprises a process for blending the above bleaching composition, a process of forming the above activating agent system, a process of bringing the applicator in contact with the bleaching composition, and a process for applying the composition by using the applicator on the surfaces of one or more teeth to be bleached immediately after the contact with the bleaching composition.例文帳に追加

上記漂白組成物を配合する工程；上記活性剤系を形成する工程；アプリケーターを漂白組成物に接触させる工程；およびアプリケーターを、本質的に漂白組成物との接触後すぐに、漂白されるべき１またはそれ以上の歯の表面に塗布する工程を含む方法。 - 特許庁

The method comprises an extrusion process to extrude unvulcanized EPDM rubber, a vulcanization process to vulcanize the unvulcanized rubber, a supply process to supply a sheet material of ultra-high molecular weight PE to become the sliding layer onto the bottom wall part after vulcanization, and a press bonding process to put the sheet material in press bonding to the bottom wall part using a ridge-formed roller.例文帳に追加

未加硫ＥＰＤＭゴムを押出す押出工程と、その未加硫ゴムを加硫させる加硫工程と、加硫後の底壁部上に、摺動層としての超高分子量ＰＥのシート材を供給する供給工程と、突条付きローラーでシート材を底壁部に圧着させる圧着工程とを備えている。 - 特許庁

It also includes a process of performing either one of a treatment by a chemical containing fluorine ions, a plasma treatment using a gas containing fluorine and a washing process, and a treatment by a vapor phase HF diluted by an inactive gas and a washing process, on the semiconductor substrate 100 after the dry etching process.例文帳に追加

これと共に、ドライエッチングを行なう工程よりも後に、半導体基板１００に対し、フッ素イオンを含む薬液による処理と、フッ素を含むガスを用いたプラズマ処理及び洗浄処理と、不活性ガスによって希釈された気相ＨＦによる処理及び洗浄処理とのうち、いずれか一つを行なう工程を含む。 - 特許庁

Further, the silica film formation method comprises at least an applying process of applying coating liquid containing the polysilazane to the base material, a burn process of burning the base material to which the coating liquid is applied, and a hydroxy group imparting process executed during or after the burning process.例文帳に追加

さらに、この発明は、ポリシラザンを含むコーティング液を基材に塗布する塗布工程と、前記コーティング液が塗布された基材を焼成処理する焼成工程と、前記焼成工程の際又は焼成工程後に実行される水酸基付与工程とによって少なくとも構成されるシリカ膜形成方法にある。 - 特許庁

The manufacturing method of this disk 12a includes a process of forming the recess portion 76 in the end of the traction surface by a lathe machining before the heat treatment, a process of finishing the traction surface T into a prescribed curvature by a hard turning process after the heat treatment, and a process of performing superfinishing of the traction surface T.例文帳に追加

このディスク１２ａの製造方法は、熱処理前に旋盤加工によってトラクション面Ｔの端に逃げ部７６を形成する工程と、熱処理後にハードターニング加工によってトラクション面Ｔを所定の曲率に仕上げる工程と、トラクション面Ｔの超仕上げを行う工程とを含んでいる。 - 特許庁

The method for manufacturing the soft magnetic material is provided with a process for preparing soft magnetic powder 50, a process of performing ball milling processing for mechanically imposing load to the soft magnetic powder 50, and a process of heating the powdery soft magnetic powder 50 at temperature of ≥400°C and ≤900°C, after the process for performing the ball milling processing.例文帳に追加

軟磁性材料の製造方法は、軟磁性粉末５０を準備する工程と、軟磁性粉末５０に機械的に荷重を加えるためのボールミル処理を実施する工程と、ボールミル処理を実施する工程の後、粉末状の軟磁性粉末５０を４００℃以上９００℃以下の温度で熱処理をする工程とを備える。 - 特許庁

It includes a process of imparting solder to a plurality of chip carriers simultaneously, a process of positioning a chip carrier having a chip on a printed circuit substrate and a process of connecting all the elements eternally after making a chip and a carrier constituted as a three-dimensional array pass a single reflow oven and completing a single reflow process.例文帳に追加

複数のチップキャリア上へのはんだを付与を同時に達成する工程と、チップを有するチップキャリアをプリント回路基板上に配置する工程と、３次元アレイに構成されたチップおよびキャリアを単一のリフローオーブンを通し、単一のリフロープロセスを完了して素子のすべてを永久的に接続する工程とを包含する。 - 特許庁

This method of manufacturing the dielectric thin-film element includes: a baking process S3 of heating a dielectric thin film 12 formed on the metal foil 11 to 400-1,200°C in a vacuum atmosphere or reductive atmosphere; a reductive annealing process S4 of executing an annealing process in a reductive atmosphere after the baking process S3.例文帳に追加

誘電体薄膜素子の製造方法は、金属箔１１上に形成された誘電体薄膜１２を、真空雰囲気又は還元雰囲気の下で４００〜１２００℃に加熱する焼成工程Ｓ３と、焼成工程Ｓ３の後に、還元雰囲気でアニール処理を行う還元アニール工程Ｓ４と、を備える。 - 特許庁

In the manufacturing method of the lattice for the lead acid storage battery in which the sheet is fabricated by rolling the lead or the lead alloy slab with a rolling roll press machine and the sheet is made a lattice by a mechanical process, a bending work is applied to the rolled object before a rolling process or/and during the process or/and after the process.例文帳に追加

鉛もしくは鉛合金スラブを圧延ロールプレス機で圧延してシートを作製し、前記シートを機械加工により格子とする鉛蓄電池用格子の製造方法において、圧延工程前あるいは／および工程中あるいは／および工程後に被圧延物に曲げ加工を施すことを特徴とするものである。 - 特許庁

This method for discriminating hydrophilic coating film and hydrophobic coating film includes a process electrifying a static electricity to the coating film surface, a process of measuring electrification rate on the coating film surface after the aforementioned process, and a process of identifying the coating film to be hydrophilic or hydrophobic, based on the measured electrification rate value.例文帳に追加

塗膜表面に静電気を帯電させる工程；上記工程後に塗膜表面の帯電率を測定する工程；及び上記測定した帯電率の値により塗膜が親水性であるか疎水性であるかを判別する工程；を包含する、親水性塗膜と疎水性塗膜とを判別する方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the STN liquid crystal display device includes a process of low temperature treatment at such a low temperature as not to cause the phase transition of a liquid crystal material, after an injection process and a sealing process of the liquid crystal material and a process of heat treatment at a temperature equal to or higher than the isotropic temperature of the liquid crystal material.例文帳に追加

液晶材料の注入工程と封止工程および液晶材料の等方性温度以上の温度における熱処理工程の後に、液晶材料が相変化しない程度の低温における低温処理工程を有することを特徴とするＳＴＮ液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes the packing process for packing a thermoplastic resin in a mold cavity of an injection molding machine with a maximum injection pressure of P, the first pressure holding process in which the packing of the thermoplastic resin is stopped substantially, and pressure is held, and the second pressure holding process in which the thermoplastic resin after the passage of the first pressure holding process is pressurized, and pressure is held.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を、最大射出圧力がＰである射出成形機の金型キャビティに充填する充填工程と、前記熱可塑性樹脂の充填を実質的に停止して、保持する第一保圧工程と、この第一保圧工程を経た前記熱可塑性樹脂を加圧して保持する第二保圧工程と、を有する。 - 特許庁

In continuously casting the Ni-containing steel, surface temperature of the cast piece in the bending process and the correcting process is maintained to be Ar_3 point or higher to prevent precipitation of ferrite, and in a cooling process after the correction process, the cast piece is slowly cooled approximately uniformly at least in the temperature area from the Ar_3 point to 600°C.例文帳に追加

Ｎｉ含有鋼を連続鋳造するに際して、曲げ工程及び矯正工程での鋳片の表面温度をＡr_3点以上に維持してフェライトの析出を防止すると共に、矯正工程後の冷却過程において、少なくともＡr_3点から６００℃までの温度域で鋳片を略均一に徐冷する。 - 特許庁

The method for producing the pickle sauce comprises a process of arranging and laying plum fruits in a prescribed container, a process of laying fermented soybean paste on the top of the plum fruits followed by laminating, a process of laying sugar on the top of the fermented soybean paste followed by laminating and a process of ripening for a prescribed period after finishing the processes.例文帳に追加

漬け汁の製造方法は、所定の容器内に梅果実を並べて敷く工程と、この梅果実の上部に味噌を敷いて積層させる工程と、更にこの味噌の上部に砂糖を敷いて積層させる工程と、これらの工程終了後に所定期間熟成させる工程と、を備える。 - 特許庁

A method for producing the spices comprises a crushing process of crushing and processing raw red pepper, a mixing and stirring process of mixing sake with the crushed red pepper followed by stirring, a boiling process of boiling the mixed liquid, and a separation treating process of separating solid after boiling so as to extract essence.例文帳に追加

生の唐辛子を破砕処理する破砕工程と、該破砕された唐辛子に酒類を混合し、攪拌する混合攪拌工程と、該混合液を煮沸する煮沸工程と、煮沸後に固形分を分離し、エキスを抽出するための分離処理工程とを有することを特徴とする香辛料の製造方法である。 - 特許庁

Then the first CMP process is performed, and with the polysilicon film 6 after the first CMP process as a mask, etching process is performed for the silicon oxide film 5, and the silicon oxide film 5 which lies in the region over the projecting part region removed, and then a second CMP process is further performed to cause the top of a semiconductor substrate 1 to be flattened.例文帳に追加

その後、第１のＣＭＰ処理を行い、第１のＣＭＰ処理後のポリシリコン膜６をマスクとしてシリコン酸化膜５に対するエッチング処理を実行して、凸部領域の上部領域のシリコン酸化膜５を除去した後、さらに第２のＣＭＰ処理を行って半導体基板１上を平坦化させる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a mat molding process wherein a mat 4 constituted of the mixture of split filaments 2 of a fiber length 20 mm or above and a resin powder 3 is molded, a preliminary heating process wherein the mat 4 molded in the mat molding process is heated and a press molding process wherein the mat 4 after preliminary heating is press-molded.例文帳に追加

解繊した繊維長２０ｍｍ以上の長繊維２と粉末樹脂３との混合物からなるマット４を成形するマット成形工程と、マット成形工程にて成形されたマット４を加熱する予備加熱工程と、予備加熱後のマット４をプレス成形するプレス成形工程からなる。 - 特許庁

The cooling process includes a first cooling process for allowing the cooling chamber 2 to communicate with the suction means 4 and the chamber 5, and a second cooling process for interrupting the chamber 5 from the cooling chamber 2 and the suction means 4 after the first cooling process.例文帳に追加

また、冷却工程が、前記冷却室２を前記真空吸引手段４および前記蓄負圧室５と連通する第一冷却工程と、この第一冷却工程後に前記蓄負圧室５を前記冷却室２および前記真空吸引手段４に対して遮断する第二冷却工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A heating process, a liner inserting process, an expansion process, and a cooling process are carried out using the pipe line regeneration liner 1 formed so as to be expandable to a state that the outer diameter before the expansion is smaller than the inner diameter of the existing pipe line 100, and the outer diameter after the expansion is larger than the inner diameter of the existing pipe line 100.例文帳に追加

拡張前の外径が既設管路１００の内径よりも小さく、拡張後の外径が既設管路１００の内径よりも大きく拡張可能であるように形成された管路更生用ライナー１を用いて、加熱工程、ライナー挿入工程、拡張工程、および冷却工程を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of semiconductor device comprises a process (a) for forming the organic reflection preventing film 10 on the surface of a semiconductor substrate 1, a process (b) for applying organic solvent 11 on the surface of semiconductor substrate 1 to effect washing by wet etching the surface of the organic reflection preventing film 10, and a process (c) for forming a resist film 12 after the process (b).例文帳に追加

半導体基板１の表面に有機反射防止膜１０を形成する工程（ａ）と、半導体基板１の表面に有機溶剤１１を塗布し有機反射防止膜１０の表面をウエットエッチング洗浄する工程（ｂ）と、工程（ｂ）の後、レジスト膜１２を形成する工程（ｃ）とを含む。 - 特許庁

In the producing method, a rate of decrease of Si content in the Si phase after the burning process to Si content in the Si phase before the burning process is suppressed to 10 mass % or less.例文帳に追加

焼成工程前のＳｉ相中のＳｉ含有量に対する焼成工程後のＳｉ相中のＳｉ含有量の低下率を質量１０％以下に抑制する製造方法である。 - 特許庁

For example, when a dimension measurement part is designated in a pattern prior to an OPC (optical proximity correction) process, the pattern shape in the designated part is changed after the OPC process, which makes the dimension measurement impossible.例文帳に追加

例えば、ＯＰＣ処理前のパターンに対して寸法測定箇所を指定した場合、ＯＰＣ処理後では、その指定箇所のパターン形状が変化し寸法測定が不可能となることがある。 - 特許庁

The short time water discharge process 13 inversely induces suction of the turbid matter into the bottom of the washing filter basin, immediately after the completion of the washing by the back- washing process 12, and the substance causing the peak of turbidity is discharged.例文帳に追加

この短時間捨水工程１３は、逆洗工程１２による洗浄終了直後に、ろ過池底部に濁質が吸い込まれるのを、それを逆に誘発し、濁度ピーク要因物質を排水させる。 - 特許庁

After applying uniaxial drawing to the obtained cylindrical film in a drawing direction of the film, a heat seal process and a cutting process are applied thereto in a vertical direction with respect to the drawing direction, and a bottom part and a bag mouth part are formed.例文帳に追加

得られた筒状フィルムを、フィルムの引取方向に一軸延伸した後、引取方向に対して垂直な方向に、ヒートシール処理及び切断処理を施して底部と袋口を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device including a MOS transistor having desired characteristics in performance after a heat treatment process related to a manufacturing process of DRAM and the like.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタを含む半導体装置の製造方法に関し、ＤＲＡＭの製造プロセスなどに伴う熱処理を経た後に、所望の特性を発揮するＭＯＳトランジスタを製造することを目的とする。 - 特許庁

The reception interruption process similar to that of time t1 is performed at reception completion of next 1 bite data (time t4) again, and timer interruption process is performed at time t5 after the determination time T has passed.例文帳に追加

次の１バイトデータの受信終了時（時刻ｔ４）においても、時刻ｔ１の時と同様の受信割込処理を行い、判定時間Ｔ経過後の時刻ｔ５にてタイマ割込処理を行う。 - 特許庁

A method for identifying a fire at a fire alarm or a fire receiver includes digitizing smoke density, performing a low-pass filter process, and comparing a filter value after the process to a predetermined threshold value to identify a fire.例文帳に追加

火災警報器や火災受信機における火災の判別方法において、煙濃度をデジタル化し、更にローパスフィルタ処理し、その処理した後のフィルタ値を所定の閾値と比較して、火災を判別する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a defective bit detected during a package process or after package process can be relieved and whole yield can be improved, in a multi-chip module.例文帳に追加

マルチチップモジュールにおいて、パッケージ工程中またはパッケージ工程後に発見された不良ビットの救済を可能とし、総合歩留りを向上させることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

Thus, this long size water feeding pipe 1 is cross-linked in a state of extending the synthetic resin pipe 1a in a straight shape in the cross-linking process after the molding process, and a shape of its straight state is stored.例文帳に追加

こうして、この長尺通水管１は、成形工程の後の架橋工程で、合成樹脂管１ａが、直状に伸ばされた状態で架橋されて、その直状態が形状記憶される。 - 特許庁

The wiping process by the fabrics may include at least a process for fixing the test piece, after being heated, and for wiping the oil component under a load-applied condition, using paper or cloth having an oil absorbing properties.例文帳に追加

繊維類での拭き取り工程は、加熱後の試験片を固定し、荷重をかけた状態で、吸油性を有する紙類又は布帛を用いて油成分を拭き取る工程を少なくとも含んでいてもよい。 - 特許庁

The process (S7 and S10) of printing and drying the side face line is repeated a plurality of times, and the process (S8 and S11) of burning the side face line is executed after laminating silver pastes 15A and 15B.例文帳に追加

そして、側面線路の印刷と乾燥を行う工程（Ｓ７，Ｓ１０）を複数回繰り返して、銀ペースト１５Ａ，１５Ｂを積層した後に側面線路の焼成を行う工程（Ｓ８，Ｓ１１）を実施する。 - 特許庁

The interruption of a task 2 is generated at a moment after a time T/2 from the process-beginning time of the task 1 elapses, and the task 2 gets the MPU in a predetermined period t2 from an interrupting time to complete the process.例文帳に追加

またタスク１の処理の開始時点からＴ／２経過した時点で、タスク２の割込が発生し、タスク２は、割込時点から所定期間ｔ２の間、ＭＰＵを獲得し、処理を完了する。 - 特許庁

When the utilization of bath water is set in the rinsing process, the water-saving rinsing is executed in a first rinsing process after water is supplied by a pump under-saving water to a rinsing water level (Step 19).例文帳に追加

すすぎ工程時に風呂水利用が設定されている場合には、第１すすぎ工程で、ポンプ給水によりすすぎ水位迄の水が洗濯槽に溜まったあと、ためすすぎが実行される（ステップＳ１９）。 - 特許庁

The light emitting device in a structure shown by Fig. 1 (d) is obtained by performing a resin curing process for forming a color conversion layer 3 by curing the non-cured resin layer 2b containing phosphors after the blast process.例文帳に追加

ブラスト工程の後、蛍光体含有未硬化樹脂層２ｂを硬化させることで色変換層３を形成する樹脂硬化工程を行うことによって、図１（ｄ）に示す構造の発光装置を得る。 - 特許庁

Radiation exposure treatment is carried out by a radiation source emitting the short ultraviolet ray having a wavelength of a range from 150 nm to 300 nm having 10 mj/mm^2 of energy, during a production process or after the process.例文帳に追加

また製造工程の間又は後に、１０ｍＪ／ｍｍ^２のエネルギーを有する１５０ｎｍから３００ｎｍまでの範囲の短紫外線を発する放射線源で放射線露光処理をする。 - 特許庁

In a second inspection process following the first inspection process, the liquid crystal panel is illuminated from the rear for a prescribed period just after turning off the application of the source signal and the gate signal to inspect lighting (steps #20 to #30).例文帳に追加

第２検査工程では、第１検査工程に続いて、ソース信号及びゲート信号の印加をオフした直後から所定期間、液晶パネルを背面から照明して検査を行う（ステップ＃２０〜＃３０）。 - 特許庁

In the manufacturing method, material powder is mixed and baked, and thereafter a material mixture becoming LiV_2O_4 after baking is prepared (mixing process), and the material mixture is baked at a temperature below 700°C (baking process).例文帳に追加

その製造方法においては、原料粉末を混合して焼成後にＬｉＶ_2Ｏ_4となる原料混合物を作製し（混合工程）、該原料混合物を温度７００℃以下で焼成する（焼成工程）。 - 特許庁

The second heating element 3 is cooled via the regenerator 11, so that variation of temperature of the adsorber just after exchange between an adsorbing process and a desorbing process is absorbed by the regenerator 11.例文帳に追加

また、畜冷器１１を介して第２発熱体３を冷却するので、吸着工程と脱離工程とが切り替わった直後の吸着器温度の変化を畜冷器１１にて吸収することができる。 - 特許庁