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C-stageの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 509



例文

After a gate electrode 28 is formed by vacuum deposition or sputtering on a supporting substrate 26, an i-type amorphous silicon film 30 is deposited by thermal CVD of 650°C of silane and in this stage, the structure body is immersed in high pressure water of 110°C for 15 hours.例文帳に追加

支持基板26の上に真空蒸着あるいはスパッタ法によりゲート電極28を形成した後、シランの650℃の熱CVDによりi型アモルファスシリコン膜30を堆積し、この段階でこの構造体を110℃の高圧水に15時間浸漬する。 - 特許庁

The film-like die bonding material for adhering the semiconductor element to the support member comprises an elastic modulus at 250°C or higher at a stage before adhering of less than 0.1 MPa, and elastic modulus at 250°C after thermally curing of 0.5 to 20 MPa.例文帳に追加

半導体素子を支持部材に接着するフィルム状のダイボンディング材であって、前記ダイボンディング材は、接着前の段階において、250℃以上の温度における弾性率が0.1MPa未満であり、加熱硬化後の250℃における弾性率が0.5〜20Mpaとなるダイボンディング材。 - 特許庁

Process annealing in the process of a cold rolling stage and stabilization annealing after final cold rolling are performed in the temperature range of 250 to 850°C for 5 sec to 1 min in a continuous furnace, and the temperature increasing and cooling rate at this time is controlled to10°C/sec.例文帳に追加

冷間圧延工程の途中での中間焼鈍及び最終冷間圧延後の安定化焼鈍を、連続炉において250〜850℃の温度範囲で5秒以上1分以下の条件で実施し、その際の昇温及び冷却速度を10℃/秒以上とする。 - 特許庁

When the ion reaches toward the orifice 70, force toward the optical axis C in a direction nearly orthogonally crossing the optical axis C operates on the ion, thus the orbit is prevented from spreading easily even if the ion hits against a gas molecule halfway, and the ion is efficiently fed to the later stage through the orifice 70.例文帳に追加

イオンがオリフィス70に向かって到来するとイオンには光軸Cに略直交する方向で光軸Cに向かう力が作用するため、途中でガス分子に衝突しても軌道が広がりにくく、効率良くオリフィス70を通過して後段へと送られる。 - 特許庁

例文

Substrates W in a plurality of shelves in the cassette C mounted on an elevating stage 11 in an underwater loader are detected in batch by a substrate batch detecting unit including a substrate detecting probe P.例文帳に追加

水中ローダの昇降ステージ11に載置されたカセットC内の複数の棚における基板Wの有無は、基板検出プローブPを含む基板一括検知ユニットによって一括して検出される。 - 特許庁


例文

The count is transmitted to the selector of the following stage and stored in the integrated toner amount buffer of each color selected by the selector for the M', C' judge signals.例文帳に追加

カウント値は次段のセレクタに転送され、M´,C´判定信号によってそのセレクタにより選択された色のトナー積算量バッファに格納される。 - 特許庁

To prevent the deterioration of brake feeling in a brake early stage by supplying brake fluid sufficient for jumping to a W/C.例文帳に追加

W/Cに対してジャンピングに十分なブレーキ液が供給できるようにすることで、制動初期におけるブレーキフィーリングの悪化を防止できるようにする。 - 特許庁

In the stage (2), the polypropylene resin is fusion-extruded at 280-315°C and ozone gas having 10-50 g/m^3 ozone concentration is applied to the surface bonded to the base paper of the melted film of the polypropylene resin.例文帳に追加

前記工程(2)において、前記ポリプロピレン樹脂は、280〜315℃で溶融押出され、かつ前記ポリプロピレン樹脂の溶融膜に対して、前記基紙と結合する表面に、10〜50g/m^3のオゾン濃度を有するオゾンガスを適用する。 - 特許庁

Afterwards, the STA 101 performs ACK frame transmission (e) to a BCMC data frame (d) from the stage of the reception of a Beacon frame (c) from the AP 100.例文帳に追加

その後、AP100からのBeaconフレーム(c)を受信した段階から、STA101は、BCMCデータフレーム(d)に対するACKフレーム送信(e)を実施する。 - 特許庁

例文

The scanning laser microscope 100 is further equipped with an X-Y fine focus adjustment stage 135 for moving the confocal pinhole 133 in a direction nearly orthogonal with the optical axis of the detecting optical system C.例文帳に追加

走査型レーザー顕微鏡100は、さらに、共焦点ピンホール133を検出光学系Cの光軸にほぼ直交する方向に移動させるためのXY微動ステージ135を備えている。 - 特許庁

例文

The laser machining stage 20 is formed by a rigid inorganic material having a transmissivity of 90% or larger for the laser beam, and preferably, a softening point of 800°C or higher.例文帳に追加

レーザ加工ステージ20は、レーザ光の透過率が90%以上の剛性を有する無機材料で構成されており、好ましくは軟化点温度が800℃以上である。 - 特許庁

A nacelle 4 is mounted on a position separate from a tower axis C in a stage 4, and counter weights 29A, 29B are suspended on an opposite side of the nacelle 4 over a tower 3 to balance with the nacelle 4.例文帳に追加

ステージ4において、タワー中心軸Cから離間した位置にナセル4が載置され、また、ナセル4とはタワー3を挟んで反対側に、ナセル4とバランスをとるようにしてカウンタウェイト29A,29Bが吊り下げられている。 - 特許庁

This ion measuring device is characterized by being equipped with an ion collector plate 5, at least one stage of a transistor amplification circuit E, a voltage comparison circuit C including a voltage comparator D, and a plurality of output means 4c.例文帳に追加

イオン集電板5と、少なくとも1段のトランジスタ増幅回路Eと、電圧比較器Dを含む電圧比較回路Cと、複数の出力手段4cとを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The robot 31 engages the first hand 36a so as to perform mapping the carrier C placed in a predetermined position of the career placing part 1 and the wafer in the holder 32a placed in the holder placing stage 33a.例文帳に追加

ロボット31は第1ハンド36aを係合して、キャリア載置部1の所定位置に載置されたキャリアCおよびホルダー載置ステージ33aに載置されたホルダー32aにおけるウエハのマッピングを行う。 - 特許庁

Annealing in the process of a cold rolling stage and stabilization annealing after final cold rolling are performed in a temperature range of 200 to 550°C for 5 s to 1 min in a continuous furnace.例文帳に追加

冷間圧延工程途中での焼鈍及び最終冷間圧延後の安定化焼鈍を、連続炉において200℃〜550℃の温度範囲で5秒以上1分以下実施する。 - 特許庁

The cutting-off part 3 is disposed to face portion from the front of the rolled toilet paper TP of the lowermost stage to core parts C on both right and left flanks.例文帳に追加

この切取り部3は、最下段のロール状トイレットペーパTPの正面から左右両側面のコア部Cに亘る部分に対面して設けられている。 - 特許庁

In the manufacture of the molybdenum-bismuth-iron-containing composite oxide catalyst used for vapor phase ammonium oxidation reaction, a stage where slurry containing the raw material of specified componential elements is subjected to heating treatment in the temperature range of 50 to 120°C is included.例文帳に追加

気相アンモ酸化反応に用いるモリブデン−ビスマス−鉄含有複合酸化物触媒を製造するに際し、特定の成分元素の原料を含むスラリーを50〜120℃の温度範囲で加熱処理する工程を含む。 - 特許庁

An integrator stage for use in a delta-sigma modulator includes an operational amplifier (312), an integration capacitor (C_I) coupling an output of the operational amplifier (312) and a summing node at an input of the operational amplifier, and a feedback path.例文帳に追加

デルタ‐シグマ変調器において使用される積分器段は、演算増幅器(312)、演算増幅器(312)の出力部と加算ノードとを演算増幅器の入力側で結合する積分コンデンサ(C_I)、および帰還経路を含む。 - 特許庁

The waste container C is discharged on an intermediate shelf 3 through a relay rack when the movable rack 14 is positioned at an uppermost stage, and charged into an incinerator 1 from the intermediate shelf 3.例文帳に追加

廃棄物入り容器Cは、可動台14が最上段に位置すると中継台を介して中間棚3に排出され、中間棚3から焼却炉1に投入される。 - 特許庁

The pre-stage selector selects the LUT output from the M' and C' judge signals 10430, 10431 and transfers it to the shared integrating counters 10407, 10419.例文帳に追加

M´,C´判定信号10430,10431により、前段のセレクタは、LUTの出力を選択して共有の積算カウント10407,10419に転送する。 - 特許庁

Gold bumps 26 are formed on an aluminum electrode 12 of a silicon carbide element 11 by a ball bump method under a condition that the temperature of a bonding stage 30 is set at a range of 100°C-460°C.例文帳に追加

シリコンカーバイド素子11のアルミニウム電極12に、ボンディングステージ30の設定温度の範囲を100℃以上460℃以下にして、ボールバンプ法により金バンプ26を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the spectacle lens, a cover range A of a semifinished lens is segmented in a semifinished lens manufacturing stage according to power S and power C.例文帳に追加

メガネレンズの製造方法では、セミフィニッシュトレンズ製造工程において、セミフィニッシュトレンズのカバー範囲AをS度数およびC度数に応じて細分化して製造する。 - 特許庁

In the torque limiter C in a gearbox 28 of the geared motor, an output stage carrier 70 and a hold plate (HP) 88 meshing with it are pressed by energizing force of a disc spring 96 against a friction plate (FP) 80.例文帳に追加

ギヤドモータのギヤボックス28内のトルクリミッタCにおいては、フリクションプレート(FP)80には、出力段キャリア70とこれに噛合するホールドプレート(HP)88とが皿バネ96の付勢力により圧接する。 - 特許庁

In a stage of manufacturing a spectacle lens, a semifinished lens having the power S and power C of a spectacle lens based upon order reception data from a customer within the cover range A is selected and then processed.例文帳に追加

そして、メガネレンズの製造工程において、顧客からの受注データに基づいたメガネレンズのS度数およびC度数をカバー範囲A内に有するセミフィニッシュトレンズを選択し、このセミフィニッシュトレンズを加工する。 - 特許庁

When an exhaust gas is cleaned oxidatively by using a catalyst, two reactors filled with a catalyst are used, the temperature of a treating gas introduced in the latter stage reactor is adjusted to be within the range of 250-450°C.例文帳に追加

排ガスを触媒を用いて酸化的に浄化するにあたり、触媒が充填された2つの反応器を用い、後段反応器に導入する処理ガスの温度を250〜450℃の範囲に調整する。 - 特許庁

An insulation film 63 is formed on the surface of the first metal film 62 by subjecting the first metal film 62 to high pressure annealing treatment in an atmosphere containing steam in an insulating film forming stage (c).例文帳に追加

次に、絶縁膜形成工程(c)で第1の金属膜62に対して水蒸気を含む雰囲気中で高圧アニール処理を行い、第1の金属膜62の表面に絶縁膜63を形成する。 - 特許庁

If a digital camera D is laid in a stage 42, model information on the digital camera D is read in a radio tag built into the digital camera D, and a corresponding connector C is attached in a connector mounting part 74.例文帳に追加

ステージ42にデジタルカメラDを載置すると、デジタルカメラDに組み込まれた無線タグからデジタルカメラDの機種情報が読み取られ、対応するコネクタCがコネクタ取付部74に取り付けられる。 - 特許庁

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 50 to 180°C.例文帳に追加

前記第1の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、50〜10000ppmであるのが好ましく、雰囲気の温度は、50〜180℃であるのが好ましい。 - 特許庁

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 20 to 180°C.例文帳に追加

前記第1の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、50〜10000ppmであるのが好ましく、雰囲気の温度は、20〜180℃であるのが好ましい。 - 特許庁

The sludge incineration ash is formed by subjecting the sludge generated in a waste water treatment stage to an incineration treatment at700°C and its ignition loss to a weight at which a constant weight is attained is30%.例文帳に追加

排水処理工程で発生する汚泥を700℃以上で焼却処理してなり、かつ恒量となる重量までの強熱減量が30%以下であることを特徴とする汚泥焼却灰。 - 特許庁

In a stage (c), baking is carried out to substantially burn the polymer composition coating out and a patterned ferroelectric thin film 6 is obtained on the substrate 2.例文帳に追加

(c)工程:次いで、焼成を行い、ポリマー組成物被覆を実質的に焼失させて、基板上にパターニングされた強誘電体薄膜6を得る。 - 特許庁

A workpiece is successively carried to the plurality of charging stages 6 to sufficiently charge a dielectric absorption factor D within the workpiece, and a main capacitance C in the workpiece is fully charged in the pre-measurement charging stage 10.例文帳に追加

複数の充電ステージ6に順次ワークを搬送して、ワーク内の誘電吸収因子Dを十分に充電した後、測定前充電ステージ10でワーク内の主容量Cをフル充電する。 - 特許庁

Output stage semiconductor switches SWO1, SWO2 convert a power source voltage V by their on-off operations to output it as an output current Io of one end of a capacitor C.例文帳に追加

出力段半導体スイッチSWO1,SWO2は、電源電圧Vをオン・オフ動作により変換し、コンデンサCの一端の出力電流Ioとして出力する。 - 特許庁

At first, a beam PB is adjusted to pass the center C of the first stage lens 15 using an alignment function having a deflection fulcrum P2 on the surface 10 of an object out of alignment functions of the alignment coils 50.例文帳に追加

まず、アライメントコイル50のアライメント機能の内、物面上10に偏向支点P2を持つアライメント機能を用いて、ビームPBが一段目のレンズ15の中心Cを通るように調整する。 - 特許庁

When the player presses successfully and a small role symbol 'blue 7, watermelon, and watermelon' is displayed in a lateral line in the middle stage as shown in (C), for instance, the corresponding number of medals are paid out.例文帳に追加

そして目押しが上手くゆき、例えば(C)に示すように中段横一列に小役図柄「青7,スイカ,スイカ」が表示されると、対応する枚数のメダルが払い出される。 - 特許庁

The lower stage (c) comprises 9 truncated triangular pyramids which are configured to form a truncated triangular pyramid when they are arranged on a same plane.例文帳に追加

下段cは9個の截頭三角錐より成り、9個の截頭三角錐を同一平面に配置した場合に立体形状が截頭三角錐になるように構成する。 - 特許庁

Regarding the quenching method, in a quenching stage after solution treatment for a heat treatment type aluminum alloy sheet, the difference in the temperature of both the surfaces in the sheet during cooling is controlled to50°C.例文帳に追加

熱処理型アルミニウム合金板の溶体化処理後の焼入れ過程において冷却中の板の両表面の温度差を50℃以下とすることを特徴とする焼入れ方法。 - 特許庁

The layer of a catalyst ink 20 is held at 15°C or less by the cooling device 24, thereby, fluidity of the catalyst ink 20 is controlled from an early stage after injection till immediately before drying.例文帳に追加

冷却装置24により、触媒インク20の層を15℃以下に保持することにより、吐出後の早い段階から乾燥直前まで触媒インク20の流動性を抑制する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning catalyst capable of combustion of PM at temperatures lower than 600°C so as to reduce power consumption of a heater arranged in a preceding stage of DPF, in a method of cleaning diesel exhaust gas.例文帳に追加

ディーゼル排ガスを浄化する方法において、DPF前段に配置されたヒータの消費電力を下げるために、PMを600℃よりも低温で燃焼させることができる排ガス浄化触媒を提供することを目的とする。 - 特許庁

Therefore, it is made possible to configure a capacitance type acceleration sensor circuit that can correct fluctuations in initial capacitance with the C-V converter circuit at the first stage, take out only sensitivity signals and achieve a high S/N ratio.例文帳に追加

したがって、初期容量バラツキを初段のC−V変換回路において補正し、感度信号のみを取り出せて、高いSN比を得ることができる静電容量式の加速度センサ回路とすることが可能となる。 - 特許庁

A voltage corresponding to the threshold voltage V_th of the PMOS transistor 421 is held in the capacity element C prior to output of a write-scan signal WS from the final output stage 42 under control of a control circuit 43.例文帳に追加

そして、制御回路43による制御の下に、最終出力段42からの書込み走査信号WSの出力に先立って、PMOSトランジスタ421の閾値電圧V_thに対応した電圧を容量素子Cに保持させる。 - 特許庁

A non-image part (a recess 5, a region c) excluding the vicinity of an image part (a protrusion 6) is heated with a relatively high heating value by a TPH 3 and a platen roller 4 in a prior stage.例文帳に追加

これを前段のTPH3とプラテンローラ4により、画像部(凸部6)の近傍を除く非画像部(凹部5、領域c)を相対的に高い熱量で加熱する。 - 特許庁

A plurality of optical fiber sensors 2a are arranged at one-dimensionally or two-dimensionally between layers a to c of the laminating material A in order to get information revealing progress stages of delamination based on a detection stage of each optical fiber sensor 2a.例文帳に追加

積層材料Aの層a〜c間に複数の光ファイバセンサ2aを一次元状あるいは二次元状に配置し、各光ファイバセンサ2aの検出状態に基づいて剥離の進行状態を示す情報を取得する。 - 特許庁

Cooling action when the propellent in the upper constant volume spatial area B vaporizes and expands in the initial stage of the operation mode is prevented from directly affecting the lower constant volume spatial area C by the small section spatial areas.例文帳に追加

作動モード時の初期段階において上定量空間域Bの噴射剤が気化膨張するときの冷却作用が下定量空間域Cに直接及ぶことは小断面空間域で妨げられる。 - 特許庁

In this substrate processing apparatus, on the rear stage side of a substrate carry-in block including a carry-in/out arm B for transferring a wafer to a carrier C, a first processing block 31, a second processing block 32, and a third processing block 33 are sequentially disposed.例文帳に追加

キャリアCに対してウエハの受け渡しを行う搬入出アームBを備えた基板搬入ブロックの後段側に、第1の処理ブロック31と第2の処理ブロック32と第3の処理ブロック33とを順に配置する。 - 特許庁

Since ignition timing control by a knocking control process is allowed after when a cooling water temperature is60°C before updating of the knocking determination threshold J(i), it can be started at an early stage during warming up.例文帳に追加

ノッキング制御処理による点火時期制御はノック判定閾値J(i)更新前にて冷却水温≧60℃以後に許可されるため暖機中の早期に開始できる。 - 特許庁

Since the spacer 22 comes in contact with the guide bush 26 when the multi- stage pole 2 is contracted, a gap C is formed between the lower end surface of the pole 2m and the upper end surface of the guide bush 26.例文帳に追加

多段ポール2収縮時スペーサ22とガイドブッシュ26とが当接するため、ポール2mの下端面とガイドブッシュ26の上端面との間に隙間Cが形成される。 - 特許庁

The method is characterized in that the difference between the temperature of a heating medium and the peak temperature T of a catalyst is 20 to 80°C in the initial stage of the reaction, and the change in the peak temperature of the catalyst along the direction of the tube axis falls within a specified range in the steady-state operation.例文帳に追加

運転初期に熱媒体の温度と触媒のピーク温度との温度差を20〜80℃とし、運転中、管軸方向での触媒のピーク温度Tの変化を一定範囲内とする方法。 - 特許庁

This tacky agent for polarizing plates is an acrylic tacky agent used for attaching polarizing plates and is characterized in that the difference between gel fraction of a tacky agent at initial stage and that of the tacky agent after heating for 500 hr at 80°C is within the range of 5%.例文帳に追加

偏光板の貼り付けに使用されるアクリル系の粘着剤であって、初期と80℃で500時間加熱後における粘着剤のゲル分率の差が5%以内であることを特徴とする偏光板用粘着剤。 - 特許庁

例文

The drawing (d) indicates the third stage of the standstill variation, the standstill variation is advanced further from the state of (c) and the pattern 'dugong' in 3b3 is also enlarged.例文帳に追加

図中(d)は静止変動の第3段階を示した図であり、(c)の状態から更に静止変動が進行し、3b3の図柄「ジュゴン」についても拡大されている。 - 特許庁

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