「C-stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Concerning the failure determination on the frictional element, only when the command shift stage is a first speed established by engagement of one low clutch LOW/C and a one-way clutch, one frictional element which is disengaged due to failure or engaged due to failure is specified, whereby the failure contents are determined accurately and in detail to suitably set the avoidance shift stage.例文帳に追加

摩擦要素の故障判定については、指令変速段がロークラッチＬＯＷ／Ｃ１つとワンウエイクラッチの締結により成立する第１速であるときのみ、故障解放あるいは故障締結した摩擦要素を１つに特定するので、故障内容を正確、詳細に確定して適切に回避変速段を設定することができる。 - 特許庁

The treatment equipment for the organic wastes has the multistage aeration mixing vessel which is introduced with the organic wastes, has oxygen- containing gas supplying means and raises the temperature in the vessel higher by ≥40°C than the temperature of the supplied matter and the equipment is provided with piping for circulating the sludge from the rear stage vessel to the front stage vessel of the multistage aeration mixing vessel.例文帳に追加

有機性廃棄物を導入し、酸素含有ガス供給手段を備え、生物酸化を行って槽内温度を供給物温度より４０℃以上昇温させる多段式通気攪拌槽を有し、前記多段式通気攪拌槽の後段槽から前段槽へ汚泥を循環する配管を設けた有機性廃棄物の処理装置。 - 特許庁

The process comprises a step mixing sodium acetate in initiation stage, in polymerizing stage or after polymerization, if necessary, a step mixing a potassium alkylsulfonate after polymerization, a step collecting the aqueous dispersion of the PVDF, and a step collecting the PVDF by spray-drying the collected PVDF dispersion without washing, with air heated to 120-220°C.例文帳に追加

重合開始時、重合中または重合後に酢酸ナトリウムを添加し、重合後に必要に応じてアルキルスルホン酸カリウムを添加し、ＰＶＤＦの水性分散体を回収し、回収したＰＶＤＦの水性分散を洗浄しないで１２０〜２２０℃の温度の空気と一緒に噴霧乾燥してＰＶＤＦを回収する。 - 特許庁

A first step-up notice performance includes: a main step-up notice capable of executing notice performances A-D that change gradually; and a button branching step-up notice performance which branches into the notice performances E and F without changing to the notice performance C of the next stage in a stage in the middle of executing the main step-up notice.例文帳に追加

第１ステップアップ予告演出は、段階的に変化する予告演出Ａ〜Ｄを実行可能なメインステップアップ予告と、メインステップアップ予告が実行されている途中の段階で次段階の予告演出Ｃに変化させずに予告演出Ｅ，Ｆに分岐するボタン分岐ステップアップ予告演出とを含む。 - 特許庁

The method for the production of a water-soluble melamine resin contains a primary reaction stage to react an aldehyde with melamine in the presence of an alkali catalyst until the turbidity at 25°C becomes 10-20 times determined by a clouding method and the secondary reaction stage to add an aldehyde and/or melamine to the initial reaction product and further perform the reaction of the aldehyde with melamine.例文帳に追加

アルデヒド類とメラミンとをアルカリ触媒存在下で、２５℃における白濁法による濁度が１０〜２０倍となるまで反応させて初期反応物を得る第一次反応と、該初期反応物にアルデヒド類および／またはメラミンを添加して更にアルデヒド類とメラミンとを反応させる第二次反応とを含有することを特徴とする水溶性メラミン系樹脂の製造方法。 - 特許庁

The method for treating oxy-iron hydroxide particles comprises: a stage where an aluminate compound is added to a treatment liquid into which oxy-iron hydroxide particles 1 are dispersed; a stage where the treatment liquid with the aluminate compound added is subjected to hydrothermal treatment under 0.8 to 10 kgf/cm^2 at 80 to 150°C.例文帳に追加

オキシ水酸化鉄粒子１が分散された処理液にアルミン酸化合物を添加する工程と、アルミン酸化合物が添加された処理液を、０．８〜１０ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力下、８０〜１５０℃の温度で水熱処理を行う工程と、を備えることを特徴とするオキシ水酸化鉄粒子１の処理方法。 - 特許庁

When two component supply stage trucks 18 are connected, their fronts are opposed to each other and pushed as shown by arrows (c) and (d), and then while front ends of their support arms 22 abut against each other above them, connecting devices 30 connect with each other, so that the two component supply stage trucks 18 are united.例文帳に追加

２台の部品供給ステージ台車１８を連結する際は互いの前面を対向させ矢印ｃ及びｄで示すように押し合わせると、上方では双方の支持腕２２の前端部が当接すると共に下方では双方の連結装置３０が連結することによって、２台の部品供給ステージ台車１８が一体化する。 - 特許庁

The method of producing hydrophobic precipitated silica comprises: a stage where (a) water glass, (b) an inorganic acid and (c) an organic silicon compound comprising no halogen atoms are brought into contact in an aqueous medium; and a stage where the pH of the obtained reacted mixture is finally controlled to ≤7, and hydrophobic precipitated silica is produced in an aqueous suspension state.例文帳に追加

（ａ）水ガラス、（ｂ）無機酸および（ｃ）ハロゲン原子を含有しない有機ケイ素化合物を水性媒体中で接触させる段階と、得られた反応混合液のｐＨ値を最終的に７以下に調整して、疎水性沈降シリカを水性懸濁液状態で生成させる段階とを有する疎水性沈降シリカの製造方法。 - 特許庁

Thereby, in the stage when the second developing step is finished, a second exposure area not covered with the second photoresist film 3' is formed, as shown in (c), within the first exposure area that is not covered with the first photoresist film 3 but exposed in the stage when the first developing step is finished, because the saturation sensitization region d' is formed in a tapered figure.例文帳に追加

その結果、第２現像工程を終えた段階においては、(ｃ)に示すように、第２フォトレジスト膜３´で被われていない第２露出エリアは、飽和感光領域ｄ´が先窄み形状に形成されていた為、第１現像工程を終えた段階において第１フォトレジスト膜３で被われずに露出していた第１の露出エリア内に形成されている。 - 特許庁

A first step-up notice performance includes: a main step-up notice capable of executing notice performances A-D that change gradually; and a first branching step-up notice performance which branches into the notice performance G without changing to the notice performance C of the next stage in a stage in the middle of executing the main step-up notice.例文帳に追加

第１ステップアップ予告演出は、段階的に変化する予告演出Ａ〜Ｄを実行可能なメインステップアップ予告と、メインステップアップ予告が実行されている途中の段階で次段階の予告演出Ｃに変化させずに予告演出Ｇに分岐する第１分岐ステップアップ予告演出とを含む。 - 特許庁

The gain control circuit 20 includes an input-stage transformer 21 which boosts an inputted FM signal αS_FM and outputs it, a voltage limiter circuit 23 which attenuates the FM signal αS_FM by an attenuation amount c, and an output stage transformer 25 which steps-down a frequency modulation signal cαS_FM output from the voltage limiter circuit 23 and outputs it.例文帳に追加

また、利得制御回路２０は、入力されたＦＭ信号αＳ_FMを昇圧して出力する入力段トランス２１と、ＦＭ信号αＳ_FMを減衰量ｃで減衰させる電圧リミッタ回路２３と、電圧リミッタ回路２３から出力された周波数変調信号ｃαＳ_FMを降圧して出力する出力段トランス２５と、を備えている。 - 特許庁

The production method comprises a stage where a silicon carbide ceramics tip is compacted and sintered; and a stage where decomposed carbon present on the surface of the obtained sintered compact having a bulk density of ≥2.9 g/cm^3 is removed by oxidative heat treatment at 500 to 1,600°C or barrel polishing or barrel grinding.例文帳に追加

炭化ケイ素セラミックスチップを成形、焼結させる工程、次いで、得られたかさ密度が２．９ｇ／ｃｍ^３以上の焼結体の表面に存在する分解炭素を、５００℃以上１６００℃以下での酸化熱処理またはバレル研磨加工もしくはバレル研削加工により除去する工程とを含むことを特徴とする製造方法を用いる。 - 特許庁

In the removing method of the dioxins in the waste gas, an administrative area 3 in which a waste gas temp. is kept at ≤250°C is provided at a waste gas line 2, and a stage spraying zeolite and a stage capturing the zeolite adsorbing the dioxins at the downstream side than the spraying position are provided at this administrative area 3.例文帳に追加

排ガス中のダイオキシン類の除去方法であって、排ガスライン２に排ガス温度を２５０℃以下に維持する管理区域３を設け、この管理区域３にゼオライトを噴霧する工程と、前記噴霧位置よりも下流側においてダイオキシン類を吸着したゼオライトを捕集する工程とを備えてなることを特徴としている。 - 特許庁

When a data transfer enabling signal ACK is given from a C element 13c on the post-stage in the self-synchronized transfer control circuit 13b, a node number is operated by a node number operating circuit 13h and copied so that packets are discriminated from each other, and data from a pipeline register 13e are transferred to a pipeline register 13f on the next stage.例文帳に追加

自己同期型転送制御回路１３ｂは後段のＣ素子１３ｃからデータ転送許可信号ＡＣＫが与えられると、ノード番号操作回路１３ｈがノード番号を操作し、パケット同士が区別できるようにコピーして、パイプラインレジスタ１３ｅからデータが次段のパイプラインレジスタ１３ｆに転送される。 - 特許庁

This method for removing a halogen of a waste synthetic resin comprises a first-stage dehalogenating process (A) for heating and dehalogenating a halogen-containing waste synthetic resin, a granulation process (B) for flowing a melt obtained by heating down and blowing an inert gas on the flow to give a granule and a second-stage dehalogenating process (C) for cleaning a granule.例文帳に追加

ハロゲン含有廃棄合成樹脂類を加熱して脱ハロゲンする第１段の脱ハロゲン処理工程（Ａ）と、加熱によって得られた溶融物を流下させるとともに、その流れに対して不活性ガスを吹き付けて粒状物を得る粒状化工程（Ｂ）と、粒状物を洗浄する第２段の脱ハロゲン処理工程（Ｃ）とを含む。 - 特許庁

This lubricating oil for a non-stage transmission is prepared by compounding an acidic phosphoric acid ester (A), at least one of a thiophosphoric acid ester or a thiophsphorous acid ester (B), and a polyamine compound (C), or a lubricating oil for a non-stage transmission further compounded with an olefin copolymer (D).例文帳に追加

鉱油及び／又は合成油からなる潤滑油基油に、（Ａ）酸性リン酸エステル、（Ｂ）チオリン酸エステル又はチオ亜リン酸エステル類の少なくとも一種、及び（Ｃ）ポリアミン化合物を配合してなる無段変速機用潤滑油組成物、又は、さらに（Ｄ）オレフィンコポリマーを配合することを特徴とする無段変速機用潤滑油組成物を提供した。 - 特許庁

To provide a technique for obtaining pulp having high degree of whiteness or reducing the total amount of used chlorine dioxide by increasing efficiency of chlorine dioxide bleaching in the final stage of a multistage bleaching process including a chlorine dioxide bleaching stage at 80-110°C high reaction temperature and having acidic pH after finishing the reaction.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、反応温度が80〜110℃の高温で反応終了後のpHが酸性である二酸化塩素漂白段を含む多段漂白工程において、後段の二酸化塩素漂白の効率を高めることにより、高白色度のパルプを得るか、または二酸化塩素の総使用量を低減できる技術の提供にある。 - 特許庁

The toner for developing an electrostatic charge image incorporates at least a crystalline compound, a binding resin and a colorant, and its differential calorimetry curve measured by a differential scanning calorimeter(DSC) has a clear heat absorption peak at 50 to 100°C in a 1st temperature rising stage, and the peak area is reduced to ≤1/3 in a 2nd temperature rising stage.例文帳に追加

少なくとも結晶性化合物、結着樹脂および着色剤を含有する静電荷像現像用トナーの、示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定された示差熱量曲線が、第１の昇温過程において５０〜１００℃に明確な吸熱ピークを有し、第２の昇温過程においてはそのピーク面積が１／３以下に縮小することを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

To provide a resin composition for filter, from which phenol, methylol phenol (mono-nucleic component), or an aldehyde is not liable to vaporize, and which is one containing a resol type phenol resin prepared by impregnating a resol type phenol resin solution in a fiber base material then through B-stage (drying) and C-stage (curing).例文帳に追加

繊維状基材にレゾール型フェノール樹脂溶液を含浸させ、Ｂ化工程、Ｃ化工程を経て製造するフィルターに用いるレゾール型フェノール樹脂を含有するフィルター用樹脂組成物として、フェノール類、メチロール化フェノール類（１核体成分）或いはアルデヒド類の飛散しにくいフィルター用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The production method is provided with a stage wherein a rotor material for high temperature use consisting of 9% Cr steel and a rotor material for low temperature use consisting of 1% Cr steel are welded by using a 9% Cr based filler metal, and a stage wherein the welded rotor material for high temperature use and rotor material for low temperature use are heat- treated at 625 to 655°C.例文帳に追加

９％Ｃｒ鋼からなる高温用ロータ材と１％Ｃｒ鋼からなる低温用ロータ材とを９％Ｃｒ系溶加材を用いて溶接する工程と、溶接された前記高温用ロータ材および前記低温用ロータ材を６２５〜６５５℃で熱処理する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

A substance C containing fixed carbon is supplied from a section from a kiln middle of a cement kiln 5 to the lowest stage cyclone of a preheater attached to the kiln 5, a part of a combustion gas is extracted from a kiln exhaust gas channel from the inlet 5a of the kiln 5 to the lowest stage cyclone 7, dust contained in the combustion gas is collected, and then heavy metals are separated from the collected dust.例文帳に追加

セメントキルン５のキルン中間から、キルン５に付設されているプレヒータの最下段サイクロンまでの区間から固定炭素を含む物質Ｃを供給し、キルン５の窯尻５ａから最下段サイクロン７に至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、燃焼ガスに含まれるダストを集塵し、集塵したダストから重金属類を分離する。 - 特許庁

Besides, the dividend A with an optional effective bit length in a fixed bit length and the divisor B are automatically inputted to first-stage subtracters 1(a)-1(c) by an encoder 5 and select circuits 6 and 7 and, then, an input to a partial remainder calculator after the second-stage, which is previously calculated, is adjusted by an encoder 8 and a select circuit 9.例文帳に追加

また、固定ビット長内における任意の有効ビット長の被除数Ａ、除数Ｂに対して、エンコーダ５、セレクト回路６，７により自動的に初段の減算器１（ａ）〜１（ｃ）へ入力し、また２段目以降の予め計算しておく部分剰余算出器への入力を、エンコーダ８およびセレクト回路９により調整する。 - 特許庁

To obtain a sealing material satisfactory fluidized at ≤530°C and further hard to be deformed in an evacuation stage at 450 to 500°C, so as to improve the characteristics of a PDP (plasma display panel) or the like and production efficiency in a sealing material comprising bismuth based glass powder and refractory filler powder.例文帳に追加

本発明は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、５３０℃以下の温度で良好に流動するとともに、４５０〜５００℃の真空排気工程で変形し難い封着材料を得ることにより、ＰＤＰ等の特性および製造効率を向上させることを技術的課題とする。 - 特許庁

The upper stage rack 10 for the freight has a base frame 11 placed on a floor plate of a container C and the elevating/lowering frame 12 for forming an inclined face by elevating the back end on the base frame 11, and mounts the automobile A on the elevating/lowering frame 12 to support it at an upper position in the container C.例文帳に追加

貨物用上段ラック１０は、コンテナＣの床板上に載るベースフレーム１１と、そのベースフレーム１１上で後端部が上昇することにより傾斜面を形成する昇降フレーム１２とを有し、自動車Ａを昇降フレーム１２に載せてコンテナＣ内の上部位置に支持するものである。 - 特許庁

The multistage type evacuator 100 furnished with a roughing pump B and a booster pump A is constituted to be high in energy efficiency by installing a ceiling pump C on the atmospheric air side of the final stage roughing pump B and making designed exhaust speed of the ceiling pump C in size enough to function as the ceiling pump even though it is lower than designed exhaust speed of the roughing pump B.例文帳に追加

粗引ポンプＢとブースタポンプＡとを備えた多段式真空排気装置１００において、シーリングポンプＣを最終段粗引ポンプＢの大気側に取り付け構成し、シーリングポンプＣの設計排気速度を、粗引ポンプＢの設計排気速度より小さいがシーリングポンプとして機能する大きさとし、エネルギー効率の高い真空排気装置とすることができた。 - 特許庁

After a capacitor element formed by winding anode electrode foils and cathode electrode foils via separators is impregnated with a mixed solution formed by mixing a 3,4-ethylene dioxy thiophene with an oxidiizng agent, a stage for leaving it for 15 hours or 2 hours at 25°C or 100°C is repeated by a predetermined number of times, and the solid electrolyte layer is formed in the interior of the capacitor element.例文帳に追加

３，４−エチレンジオキシチオフェンと酸化剤とを混合した混合溶液を、陽極電極箔と陰極電極箔とをセパレータを介して巻回したコンデンサ素子に含浸したのち２５℃ないし１００℃で１５時間ないし２時間放置する工程を所定回数繰り返し、固体電解質層をコンデンサ素子の内部において生成する。 - 特許庁

To provide a laminating heating base plate which can be temperature raised to 1800°C, in which an abrupt temperature gradient like particularly at 250°C per 1 cm can be easily regulated at an arbitrary temperature gradient and which can be stably used for a long time and to provide an infrared reflection type multi-stage electric furnace in which a plurality of the laminating heating base plates are laid.例文帳に追加

１８００℃まで昇温させることができ、任意の温度勾配で、特に１cm当たり２５０℃の如く急激な温度勾配が容易に調節でき、しかも長時間安定して使用できる積層用加熱基板及びこの積層用加熱基板を複数個重ねた赤外線反射型の多段電気炉を提供すること。 - 特許庁

A semiconductor wafer SW is placed on a wafer stage 57a in a dry cleaning chamber 57 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied thereto to dry-clean the major surface of the semiconductor wafer SW, and then the semiconductor wafer SW is heat treated at a first temperature of from 100 to 150°C using a shower head 57c kept at 180°C.例文帳に追加

成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ５７に備わるウエハステージ５７ａ上に半導体ウエハＳＷを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハＳＷの主面上をドライクリーニング処理し、続いて１８０℃に維持されたシャワーヘッド５７ｃにより半導体ウエハＳＷを１００から１５０℃の第１の温度で熱処理する。 - 特許庁

The intermediate guide unit 51 is movable in the X-axis direction, an intermediate support member 54 for holding the cable C is movable in the Y-axis direction, and the two intermediate support members 54 are driven in the mutually opposite directions according to the X position of an X coarse adjustment stage 23X so as to suppress the bending of the cable C.例文帳に追加

中間ガイドユニット５１は、Ｘ軸方向に移動可能、且つケーブルＣを保持する中間支持部材５４がＹ軸方向に移動可能となっており、Ｘ粗動ステージ２３ＸのＸ位置に対応して、２つの中間支持部材５４それぞれが互いに反対の方向に駆動されることにより、ケーブルＣの撓みが抑制される。 - 特許庁

Concretely, a capacitor C_S branched and electrically connected to an input side of the charge sensitive amplifier CSA in the first stage is provided, and an electrode in a side opposite to the branch side out of two electrodes which constitute the capacitor C_S and face each other is electrically connected to a power source V_Q for variable voltage, whereby the offset voltage is added.例文帳に追加

具体的には、初段の電荷感応型アンプＣＳＡの入力側に分岐して電気的に接続されたコンデンサＣ_Sを備え、そのコンデンサＣ_Sを構成する互いに対向した２つの電極のうち、上述した分岐側とは逆側の電極を可変電圧用電源Ｖ_Qに電気的に接続することで、オフセット電圧を付加する。 - 特許庁

This plating device 9 is used in a stage for manufacturing a printed circuit board and provided with a liquid tank 16 for the copper plating solution C, a conveyor set in the solution C of the tank 16, nipping and conveying printed circuit board members B and a suction pipe 20 of an anode opposed to the members B.例文帳に追加

このめっき装置９は、プリント配線基板の製造工程において用いられ、銅めっき液Ｃの液槽１６と、液槽１６の銅めっき液Ｃ中に配設されプリント配線基板材Ｂを挟んで搬送するコンベヤと、搬送されるプリント配線基板材Ｂに対向配設された陽極電極の吸引管２０と、を有してなる。 - 特許庁

After a semiconductor wafer SW is positioned on a wafer stage 27a equipped in a dry-cleaning chamber 27 of a film forming apparatus, a reducing gas is supplied to dry-clean on the main surface of the semiconductor wafer SW, then, the semiconductor wafer SW is heat-treated at a first temperature 100-150°C by a shower head 27c kept at 180°C.例文帳に追加

成膜装置のドライクリーニング処理用のチャンバ２７に備わるウエハステージ２７ａ上に半導体ウエハＳＷを置いた後、還元ガスを供給して半導体ウエハＳＷの主面上をドライクリーニング処理し、続いて１８０℃に維持されたシャワーヘッド２７ｃにより半導体ウエハＳＷを１００から１５０℃の第１の温度で熱処理する。 - 特許庁

Best available techniques (BAT) mean that "the most effective and advanced stage in the development of activities and their methods of operation which indicate the practical suitability of particular techniques for providing in principle the basis for release limitations designed to prevent and, where that is not practicable, generally to reduce releases of chemicals listed in Part I of Annex C and their impact on the environment as a whole." (Stockholm Convention, Article 5 (f)(i)). 例文帳に追加

活動及びその操作の方法に関して最も効果的かつ先端的な技術であって、個別の技術が、同附属書 C第一部に掲げる化学物質の放出及びその環境に対する影響を全般的に防止するか、又はこれが実行可能でない場合には一般的に削減するための基礎となることについて実用上の適性を示しているもの（条約第５条(f)(i)）を意味する。 - 経済産業省

The vacuum membrane forming device 1 is provided with a vacuum chamber 10 and at lease two stage vacuum pump of booster pumps A/B/C and a screw pump D in a order from the vacuum chamber 10 side for vacuuming and discharging the vacuum chamber 10.例文帳に追加

真空薄膜作成装置１には、真空チャンバ１０と、真空チャンバ１０の真空及び排気を行うべく真空チャンバ１０側から順にブースターポンプＡ・Ｂ・ＣとスクリューポンプＤとの少なくとも２段の真空ポンプが設けられている。 - 特許庁

The step (b, c) comprises suction fixing the marginal portion of the filmy organic material to the fixing stage and making the substrate contact with the adhesive at a part of the marginal portion before spreading gradually the contact area of the two.例文帳に追加

上記工程（ｂ，ｃ）は、膜状の有機材料の周辺部を固定ステージに吸着し、膜状の有機材料の周辺部分の一箇所において基板と接着剤を接触させ、その後、両者の接触面を徐々に広くする工程を含む。 - 特許庁

A thermosettable phenol resin and phenol resin particles cured to C stage are melted, mixed and fed to a molding machine, molded and then baked for carbonization, to form the fuel cell separator.例文帳に追加

フェノール樹脂材料を成形加工した後に炭化焼成することにより燃料電池セパレータを形成するために、前記フェノール樹脂材料を成形するに際し、熱硬化性を有するフェノール樹脂と、フェノール樹脂をＣステージまで硬化させた粒状フェノール樹脂とを溶融混練して成形機に供給する。 - 特許庁

The method for producing a composite ceramic material for infrared emission comprises: a stage where a carbon feeding material and a boride are allowed to exist in a nonoxidizing atmosphere, and ceramic particles are treated at 1,000 to 1,200°C.例文帳に追加

本発明の赤外線放射用複合セラミックス材料の製造方法は、非酸化雰囲気下、カーボン供給材料及びホウ化物を存在させて、セラミックス粒子を１０００℃以上、１２００℃以下で処理する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for forming an electrodeposition coating film including a stage where the object to be coated is electrodeposition-coated with a cation electrodeposition coating material composition, the coating film viscosity at 50°C in the electrodeposition coating film obtained from a cation electrodeposition coating material composition is 3,000 to 5,000 Pa s.例文帳に追加

カチオン電着塗料組成物を被塗物に電着塗装する工程を包含する、電着塗膜形成方法であって、このカチオン電着塗料組成物から得られる電着塗膜の５０℃における塗膜粘度が３０００〜５０００Ｐａ・ｓである、電着塗膜形成方法。 - 特許庁

A semiconductor wafer or semiconductor device having surface defects generated in a stage of manufacturing the semiconductor wafer or in a specified process of manufacturing the semiconductor device is annealed in a hydrogen gas atmosphere including a semiconductor material source gas at low temperatures of 950°C or lower in a high vacuum of 102 Torr or below.例文帳に追加

半導体ウェーハの製造段階または半導体素子の特定工程段階で発生した表面欠陥が存在する半導体ウェーハまたは半導体素子を１０^-2Ｔｏｒｒ以下の高真空、９５０℃以下の低温及び半導体物質ソースガスを含む水素ガス雰囲気下でアニーリングさせる。 - 特許庁

To provide a sidewall removing liquid which is capable of rapidly (within 60 minutes) removing the sidewalls generated at the time of dry etching in a semiconductor production stage at a low temperature (≤150°C) and is not capable of eroding a wiring material at this time.例文帳に追加

半導体製造工程でのドライエッチングの際に発生するサイドウォールを低温（５０℃以下）で短時間（６０分以内）で除去でき、しかもその際に配線材料を浸食することのないサイドウォール除去液を提供する。 - 特許庁

To enhance precision of cutting in the cutting end stage of a single crystal silicon ingot, i.e. a substantially rectangular parallelepiped single crystal silicon ingot for solar cell, having a chamfer such as a C chamfer or an R chamfer formed at a corner.例文帳に追加

太陽電池用の単結晶シリコンインゴットのような略直方体状であって、角部にＣ面やＲ面のような面取り部が形成された単結晶シリコンインゴットの切断終了段階の切削精度を向上させること。 - 特許庁

In the gasification furnace 4 as a control target, shredder dust (raw material) charged to a fluidized bed 4a fluidized by oxygen mixture air is thermally decomposed in a temperature atmosphere of about 530°C to discharge incombustibles 7 and metal, and to discharge a generated nonflammable gas to a melting furnace of a subsequent stage.例文帳に追加

制御対象のガス化炉４は、酸素混合空気によって流動する流動床４ａ上に投入されたシュレッダーダスト（原料）を５３０℃程度の温度雰囲気中で熱分解させて不燃物７及び金属を排出すると共に発生した不燃性ガスを後段の溶融炉へ排出する。 - 特許庁

After deep drawing (b-2) of a formed body forming stage, a sensitization heat treatment step (c) is performed, thus, residual stress generated in a cylinder body formed by the deep drawing is relaxed so as to suppress the stress cracking of the cylinder body.例文帳に追加

成形体形成工程の深絞り加工（ｂ−２）の後に鋭敏化熱処理工程（ｃ）を施すことにより、深絞り加工により形成されたボンベ本体に生じる残留応力を緩和してボンベ本体の応力割れを抑制することができる。 - 特許庁

When a fracture splitting type connecting rod is produced, a steel is formed into the shape of a connecting rod, is thereafter quenched, is subsequently tempered in the temperature range of 250 to 450°C, and is further subjected to a fracture splitting stage.例文帳に追加

本発明方法は、破断分割型コネクティングロッドを製造するに当り、鋼材をコネクティングロッド形状に成形した後焼入れし、引き続き２５０〜４５０℃の温度範囲で焼戻しを行ない、更に破断分割工程を経て製造する。 - 特許庁

The embedded type lighting fixture 1 fixed to a hanging bolt C under the roof, includes: a reflecting body 31 with a reflecting top plate part 32; a fixture body 2 with the reflecting body 31 fixed; a terminal stage 19 fitted to the fixture body 2; and a fluorescent lamp (a light source) 41 arranged inside the reflecting body 31.例文帳に追加

天井裏の吊りボルトＣに固定される埋込み型の照明器具1であって、反射天板部32を備えた反射体31と、この反射体31が固定される器具本体2と、器具本体2に取付けられた端子台19と、反射体31の内側に配置される蛍光ランプ（光源）41を具備する。 - 特許庁