「C-stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

An etching device 1 includes a chamber C, a stage 4, a deposition preventive top plate 6, a deposition preventive plate 5, and a first heating part 9.例文帳に追加

本発明のエッチング装置１は、チャンバＣと、ステージ４と、防着天板６と、防着板５と、第１の加熱部９とを具備する。 - 特許庁

In the performance 1, a rotary performance reel 23 under rotation is stopped at the position of a symbol (c) presenting 'one-shaku fireworks ball' and the corresponding low setting stage is reported.例文帳に追加

演出１では、回転中の演出回転リール２３が、「一尺玉」のシンボルｃの位置で停止され対応する低設定段階が報知される。 - 特許庁

Triterpenoids are also efficiently extracted during the extraction time under contacting reaction at 100°C in the stage of rising temperature of the solvent 4.例文帳に追加

又、溶媒４の昇温段階の１００℃で抽出時間接触反応させ、トリテルペノイド類を効率的に抽出する。 - 特許庁

The storage elasticity at 40 to 65°C in a temperature-lowering stage of the heat seal adhesive is made above 10^5 Pa.例文帳に追加

ヒートシール接着剤の降温過程における４０℃以上６５℃未満の貯蔵弾性率が１０^5Ｐａ以上となるようにする。 - 特許庁

To provide a method for utilizing MgO-C based waste refractories applicable in an iron manufacturing stage even when they are powdery.例文帳に追加

本発明は、粉状であっても製鉄工程で適用可能なＭｇＯ−Ｃ系廃耐火物の利用方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The probe tack of the surface of the B-stage material is 1-10N/5 mmφ, the tuck being measured at 25°C by using a probe of 5 mmφ.例文帳に追加

上記Ｂステージ状硬化物の表面の５ｍｍφのプローブを用いて測定された２５℃でのプローブタックは、１〜１０Ｎ／５ｍｍφである。 - 特許庁

A suction head 16 with a semiconductor chip 14 sucked thereto is lowered, and the semiconductor chip 14 is brought close to the transfer stage 10 (C), (D).例文帳に追加

そして、半導体チップ１４を吸着した吸着ヘッド１６が下降し、半導体チップ１４を転写ステージ１０に近接させる（Ｃ），（Ｄ）。 - 特許庁

The previous sintering treatment in the first stage is performed desirably at 800 to 1,000°C in a non(-)oxidizing atmosphere.例文帳に追加

前記第１工程の予備焼結処理は、非酸化性雰囲気で８００〜１０００℃の温度で行うことが望ましい。 - 特許庁

Thus, the potential of the node C is started to prevent a reference potential VR to be fed to a circuit on the next stage from going down.例文帳に追加

これにより、ノードＣの電位を立ち上げ、次段の回路に供給する基準電位Ｖ_Rの低下を防止する。 - 特許庁

The drawing (c) indicates the second stage of the standstill variation and the pattern 'shell' in the display area 3b2 is enlarged following the state indicated in (b).例文帳に追加

図中（ｃ）は静止変動の第２段階を示した図であり、（ｂ）に示した状態に引き続いて、表示領域３ｂ２の図柄「貝」が拡大されている。 - 特許庁

This metallic base stock 2 is rounded into a cylindrical shape by taking the sides where slopes 5 approach to each other as the inside in the radial direction (bending stage C-F).例文帳に追加

この金属素材２を、傾斜面５が互いに近接する側を径方向内側として、円筒状に丸める（曲げ工程Ｃ〜Ｆ）。 - 特許庁

The growing temperature in the latter stage of the accumulated electrode-forming step is preferably 530 to 550°C.例文帳に追加

蓄積電極を形成するステップの後期の段階の成長条件温度は５３０〜５５０℃の範囲の温度であることが好ましい。 - 特許庁

In the case of (d-c)<0 or (h-g)<0 at this stage, calculation of the rotation fluctuation amount DLTMFL is inhibited.例文帳に追加

ここにおいて、（ｄ−ｃ）＜０或いは（ｈ−ｇ）＜０であれば、この回転変動量ＤＬＴＭＦＬの算出を禁止する。 - 特許庁

To provide a structure of a battery case in which the batteries can be housed in a vertical two stage structure, and size C batteries and size AA batteries are commonly used.例文帳に追加

電池ケースにおいて、電池が縦２段の構造で収納でき、単二型電池と単三型電池とが共用可能な構造とする。 - 特許庁

The press-fitted slurry is subjected to a stage of being cleaned with warm water heated at 40 to 60°C and being pressed, so as to obtain aluminum hydroxide sludge.例文帳に追加

圧入したスラリーを、４０〜６０℃の温水で洗浄し、スラリーを圧搾する工程より水酸化アルミニウムスラッジを得る。 - 特許庁

When the right stop button 10c is operated at other timings, only one water melon is stopped on the lower or upper stage (as shown in Fig.36(C)).例文帳に追加

それ以外のタイミングで右停止ボタン１０ｃを操作すると、（スイカ）が下段に、又は上段に一つだけ停止する（図３６（Ｃ）参照）。 - 特許庁

The manufacturing method of the electronic radiation composition includes a stage in which the barium tantalate composition and a binding agent are blended, and a stage in which the barium tantalate composition having the binding agent is sintered at temperatures from about 1,000°C to about 1,700°C.例文帳に追加

電子放射組成を製造するための方法は、タンタル酸バリウム組成を結合剤とブレンドする段階と、その結合剤を有するタンタル酸バリウム組成を約１０００℃から約１７００℃の温度の下で焼結する段階とを含む。 - 特許庁

The method for producing a polyarylene comprises the polymerization to use an aromatic dihalide compound in the presence of a nickel compound, wherein the polymerization reaction is carried out in two stages comprising the first stage controlled to a temperature of <100°C and the second stage controlled to a temperature of ≥100°C.例文帳に追加

ニッケル化合物の共存下、芳香族ジハライド化合物を用いる重合において、１段目の温度を１００℃未満に、２段目の温度を１００℃以上に制御して２段階で反応させることを特徴とするポリアリーレンの製造方法。 - 特許庁

Additionally, it is preferable that the draw temperature at the final stage be 150-250°C, being 50-150°C at the other stage(s), and the heat treatment under tension be conducted in between two metallic rolls each 100-300 mm in diameter in 3-30 turns.例文帳に追加

さらには、最終段の延伸温度が１５０〜２５０℃の範囲であり、最終段以外の延伸温度が５０〜１５０℃の範囲であることや、緊張熱処理が、直径１００〜３００ｍｍの２本の金属ロール間を３〜３０回巻きつけて処理するものであることが好ましい。 - 特許庁

If the sheet material is acrylic resin with this sheet cutting method, the sheet 1 is heated to 160-180°C for softening at the stage of biting-in of the blades 2 and 3, and the sheet temp. should preferably lie between 85-105°C at the stage of applying a force thereto for cutting away.例文帳に追加

樹脂シート１は例えばアクリル樹脂であり、この場合は、切り込み刃２、３を食い込ませる段階で樹脂シート１は１６０〜１８０℃程度に熱軟化されており、樹脂シート１に力を加えて切り離す段階で樹脂シート１は８５〜１０５℃程度であるのがよい。 - 特許庁

This heating treatment contains a primary stage (to the time T6) for removing the binder and a secondary stage (on and after the time T6) for sintering the metallic material powder, and, in the secondary stage, rapid heating is executed at the time of T6 to T7 at a temp. rising rate of ≥8°C/min.例文帳に追加

この加熱処理はバインダーの除去のための第１段階（時刻Ｔ_6 まで）と金属材料粉末の燒結のための第２段階（時刻Ｔ_6 以降）とを含んでおり、第２段階では時刻Ｔ_6 〜Ｔ_7 において８℃／分以上の昇温速度での急速加熱がなされる。 - 特許庁

A sub CPU 82 brightly illuminates a 3-Shaku (ca 90 cm diameter) bomb (imaged) held by the symbol "Donchan" in only an upper stage (figure (a)), the upper stage and a middle stage (figure (b)) or all stages (figure (c)) of the three successive Donchan according to the instruction of the received lighting performance command.例文帳に追加

サブＣＰＵ８２は、受信した点灯演出コマンドの指示に従い、３連ドンちゃんのうち、上段のみ（図１５（ａ））、上段および中段（図１５（ｂ））、全段（図１５（ｃ））のいずれかのシンボル「ドンちゃん」の持つ三尺玉を明るく照らし出す。 - 特許庁

An upper stage door 1a, a middle stage door 1b, and a lower stage door 1c, which are vertically separated into three portions, are rotatably connected by hinges 2, 4, 5, respectively, to a U-shaped gate frame D supported by a float C in half-submerged state.例文帳に追加

フロートＣにより半水没状に支持されるＵ字状のゲートフレームＤに、上下方向に３つに分割された上段の扉１ａ、中段の扉１ｂ、下段の扉１ｃを、ヒンジ２，４，５によりそれぞれ回転可能に連結する。 - 特許庁

In the case of housing the merchandise B which is large in height in a merchandise column 20, the merchandise C which is small in height is housed in a column 2 of a lower stage and a merchandise column 20 of a middle stage is moved to the side of the column 20 of the lower stage.例文帳に追加

商品コラム２０に高さ寸法の大きい商品Ｂを収納する場合には、下段の商品コラム２０に高さ寸法の小さい商品Ｃを収納し、中段の商品コラム２０を下段の商品コラム２０側に移動する。 - 特許庁

The inspection stage 20 is provided with a two-axis stage drive means 21 which is translated along a linear axis Y, passing through the center axis C of the imaging means 40 and which is rotated about a rotation axis D disposed on the linear axis Y, and controlled by a stage control means 22.例文帳に追加

検査ステージ２０は、撮像手段４０の中心軸Ｃを通る線型軸Ｙに沿って平行移動させ及びその線形軸Ｙ上に設けた回転軸Ｄ周りに回転移動させる２軸のステージ駆動手段２１を備え、ステージ制御手段２２によって制御される。 - 特許庁

Parking shelves of this side A and center B are provided in each stage of three floors or more, and a parking shelf of deep side C is provided on each stage other than the second floor.例文帳に追加

さらに、手前側Ａと中央Ｂの駐車棚は３階以上の各段に設けられ、奥側Ｃの駐車棚は２階以外の各段に設けられている。 - 特許庁

The developing cartridge 21 (Y) (M, C, or K) whose remaining toner is extracted in an extraction stage is weighed in a weighing stage to measure the weight of the remaining toner (S2).例文帳に追加

抜き取り工程で残存トナーを抜き取られた現像カートリッジ２１（Ｙ）（Ｍ，Ｃ，Ｋ）は、計量工程で現像カートリッジ２１（Ｙ）（Ｍ，Ｃ，Ｋ）の重量に基づき残存トナーの重量が計量される（Ｓ２）。 - 特許庁

At the combustor 10 on the first stage side and the combustor 12 on the second stage side, a gas turbine is high- efficiently driven on a condition that a gas turbine inlet combustion gas temperature is increased to 1100°C.例文帳に追加

一段側燃焼器１０および二段側燃焼器１２では、タービン入口燃焼ガス温度が１１００℃となる条件で、効率的にガスタービンの駆動を行う。 - 特許庁

In this method, semiconductor laser elements C are taken up one by one from a tray 18 by means of a transport collet 14, transported to an alignment stage 12, and placed on the stage 12.例文帳に追加

本方法では、トレー１８から搬送コレット１４を使って１個ずつ半導体レーザ素子Ｃを取り上げ、搬送して、位置合わせステージ１２上に載置する。 - 特許庁

The internal temperature of the second stage filtering layer is cooled to about 500°C and the chloride components passing through the first stage filtering layer 21 are cooled and dust collection is performed under solid condition.例文帳に追加

第２段目の濾過層は、その内部温度が５００℃程度に冷却されており、第１段目の濾過層２１を通過してきた塩化物を冷却し、固体状態にして集塵する。 - 特許庁

Then, the optimum cooling angle range in the optimum cooling capacity is set at 45°-65°, and the optimum cooling curve is set in 5-85°C/sec of cooling speed transited from a boiling stage to a convection stage.例文帳に追加

次に、最大冷却能力における最適冷却角度範囲を４５度〜６５度に設定するとともに、沸騰段階から対流段階に移行する冷却速度６５℃／ｓｅｃ〜８５℃／ｓｅｃにおける最適冷却曲線を設定する。 - 特許庁

Moreover, the method for producing a high strength titanium alloy material contains a stage in which the same titanium alloy material is subjected to hot forming and a stage in which aging treatment is thereafter executed in the temperature range of 350 to 600°C.例文帳に追加

また、係るチタン合金材を熱間成形する工程と、その後、３５０℃〜６００℃の温度範囲内で時効処理を施す工程と、を含む高強度チタン合金材の製造方法も含まれる。 - 特許庁

Subsequently, a beam PB' is adjusted to pass the center C of the second stage lens 19 using an alignment function having a deflection fulcrum P1 on the major surface of the first stage lens 15.例文帳に追加

その後、一段目のレンズ１５の主面に偏向支点Ｐ１を持つアライメント機能を用いて、ビームＰＢ´が二段目のレンズ１９の中心Ｃを通るように調整する。 - 特許庁

The negative resistance circuit N comprises a first stage circuit being a C-E split circuit composed of an npn transistor Q1 and a second stage circuit being a common emitter amplifier circuit composed of a pnp transistor Q1.例文帳に追加

負性抵抗回路Ｎは、１段目の回路がｎｐｎトランジスタＱ_１から成るＣ−Ｅ分割形回路で、２段目の回路がｐｎｐトランジスタＱ_２から成るエミッタ接地形増幅回路である。 - 特許庁

Then the capacitor element is impregnated with an oxidant (S7: an oxide impregnation stage) and dried in the whole exhaustion tank at 160°C for 10 minutes (S8: a drying stage).例文帳に追加

その後、コンデンサ素子に酸化剤を含浸させ（Ｓ７、酸化剤含浸工程）、全排気槽内において１６０℃で１０分間乾燥させる（Ｓ８、乾燥工程）。 - 特許庁

In an another preferable form, e.g., as the heating stage for the surface-treated metal nickel powder, heating is performed at 100 to 300°C using an electric furnace, and thereafter, as the pulverization stage, pulverization is performed by the jet mill.例文帳に追加

また、別の好ましい態様によれば、例えば、表面処理した金属ニッケル粉末の加熱工程として、例えば、電気炉を用いて温度１００〜３００℃に加熱した後、粉砕工程として、ジェットミルにて粉砕する。 - 特許庁

This control device C detects the pressure unbalance of the respective compression elements (a first stage and a second stage) of the rotary compressor 10 on the basis of an output current of the inverter I.例文帳に追加

この制御装置Ｃは、インバータＩの出力電流に基づいてロータリコンプレッサ１０の各圧縮要素（１段目、２段目）の圧力アンバランスを検出する。 - 特許庁

No liquid on the running stage 11 and the substrate W outflowing from the gap C can form a liquid film having no space on the running stage 11 and the substrate W.例文帳に追加

助走ステージ１１と基板Ｗ上の液体が隙間Ｃから流出することがないので，助走ステージ１１と基板Ｗ上に隙間のない液膜を形成できる。 - 特許庁

The first stage filter is composed of a complete integrator including a first stage operational amplifier OPA2, a first input resistor R1, and a first feedback capacitance C.例文帳に追加

第１段フィルタは、第１段演算増幅器ＯＰＡ２と、第１入力抵抗Ｒ１と、第１帰還容量Ｃを含む完全積分器によって構成される。 - 特許庁

The second stage filter is composed of an imperfect integrator including a second stage operational amplifier OPA1, a second input resistor R1, and a parallel connection of a second feedback capacitance C and a variable feedback resistance R3.例文帳に追加

第２段フィルタは、第２段演算増幅器ＯＰＡ１と、第２入力抵抗Ｒ１と、第２帰還容量Ｃと可変帰還抵抗Ｒ３との並列接続を含む不完全積分器によって構成される。 - 特許庁

The exposure apparatus EX includes a mask stage 1 and a chamber device C which covers a projection optical system PL and a substrate stage 2 and forming an inner space N1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクステージ１、投影光学系ＰＬ及び基板ステージ２を覆う、内部空間Ｎ１を形成するチャンバ装置Ｃを備える。 - 特許庁

When the silicon rubber S is naturally cured, a stamper D is formed, and by raising the upper stage 15, the stamper D is held by the stamper holding substrate C of the upper stage 15.例文帳に追加

シリコンゴムＳが自然硬化してスタンパＤが形成され、上ステージ１５を上昇させることにより、スタンパＤが上ステージ１５のスタンパ保持基板Ｃにより保持される。 - 特許庁

In a buffer circuit 40A of a write-scan circuit 40, a capacity element C is connected between an output node Nin of a front stage circuit 41 and a gate electrode of a PMOS transistor 421 configuring the final output stage 42.例文帳に追加

書込み走査回路４０のバッファ回路４０Ａにおいて、前段回路４１の出力ノードＮinと、最終出力段４２を構成するＰＭＯＳトランジスタ４２１のゲート電極との間に容量素子Ｃを接続する。 - 特許庁

A display effect (effect processing at the time of appearance) shown in (C) is performed in a display start stage of the opening screen, and an erasing effect (effect processing at the time of erasing) shown in (E) is performed in an erasing stage of the opening screen.例文帳に追加

オープニング画面の表示開始段階においては（Ｃ）に示す表示エフェクト（出現時効果処理）を施し、オープニング画面の消去段階において（Ｅ）に示す消去エフェクト（消去時効果処理）を施す。 - 特許庁

The method for producing the resin composition involves subjecting a thermoplastic resin, a phyllosilicate and a disperser to first-stage kneading at 0-100°C, heating the resultant product to a temperature not lower than the melting point of the thermoplastic resin, and subjecting the heated product to second-stage kneading.例文帳に追加

樹脂組成物の製造方法であって、熱可塑性樹脂、層状珪酸塩、及び分散剤を０〜１００℃にて前期混練した後、該熱可塑性樹脂の溶融温度以上の温度に加温し後期混練することを特徴とする。 - 特許庁