Cleanedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 5533件
In the manufacture of an electrophotographic photoreceptor having a conductive undercoat layer and a photosensitive layer in this order on an unmachined aluminum substrate manufactured by drawing an extruded rough tube, the substrate is cleaned by using ultrasonic waves in an electrolytic water of ≥pH 8 obtained by electrolyzing water and a conductive undercoat layer containing a conductive material selected from among metal oxides and a resin is formed on the substrate.例文帳に追加
押し出し素管を引き抜いて製造された無切削アルミニウム基体上に導電性下引き層及び感光層をこの順に有する電子写真感光体を製造するに際し、水を電気分解して得られたpH8以上の電解水中で、該基体が超音波を用いて洗浄された後、該基体上に金属酸化物より選ばれる導電性物質及び樹脂を含有する導電性下引き層が形成される。 - 特許庁
To always form good images in any copying environment over a very long period of time without causing a filming due to toner fusion to a photoreceptor or flawing the photoreceptor even after copying on many sheets, in an image forming method in which an electrostatic charge image on an inorganic photoreceptor is developed with an electrostatic charge image developer, a formed toner image is transferred, and the photoreceptor is cleaned with a cleaning blade.例文帳に追加
静電荷像現像剤を用いて無機系感光体上の静電荷像を現像し、形成されたトナー画像を転写した後感光体をクリーニングブレードによりクリーニングする画像形成方法において、多数枚複写後においても感光体へのトナー融着などによるフィルミング及び感光体の傷の発生なく、あらゆる複写環境下で極めて長期に亘り常に良好な画像を形成する。 - 特許庁
In the method of cleaning a conductive substrate by cleaning the surface of a conductive substrate by using a cleaning liquid containing a fluorine-based solvent, and in the method of producing an electrophotographic photoreceptor by forming a photosensitive layer on the conductive substrate, the surface of the conductive substrate is cleaned by using a cleaning liquid containing a fluorine-based solvent before the photosensitive layer is formed.例文帳に追加
導電性基体表面をフッ素系溶剤を含む洗浄液を用い洗浄することを特徴とする導電性基体の洗浄方法及び導電性基体上に感光層を形成する電子写真感光体の製造法において、感光層を形成する前に、導電性基体表面をフッ素系溶剤を含む洗浄液を用い洗浄することを特徴とする電子写真感光体の製造法。 - 特許庁
The surface cleaning device 1A comprises a media supplying part 10 having a nozzle 11 for supplying a gas including a water molecule or a liquid as a cleaning media and a porcelain tube 18 provided at a tip side of the nozzle 11, and a pair of disharge electrodes 21, 22 provided at the predetermined position to the cleaning media supplied to the object 5 to be cleaned from the part 10 through the tube 18.例文帳に追加
水分子を含む気体または液体を洗浄媒体として供給するノズル11、及びノズル11の先端側に設けられた碍管18を有する媒体供給部10と、媒体供給部10から碍管18内を通って洗浄対象物5へと供給される洗浄媒体に対して所定位置に設けられた一対の放電電極21、22とによって表面洗浄装置1Aを構成する。 - 特許庁
To provide a cleaning device which enables stable supply of a lubricant to an image carrier by preventing a brush roll from being stained with a toner etc. when the image carrier is coated with the lubricant by the brush roll, then suppress a filming phenomenon and flawing of the surface of the image carrier when a residual toner is cleaned, and maintain a photosensitive characteristic of the image carrier for a long period.例文帳に追加
潤滑剤をブラシロールによって像担持体へ塗布するに当たり、かかるブラシロールのトナー等による汚れを防止することによって、像担持体に対する潤滑剤の安定した供給を可能とし、もって残留トナーのクリーニング時に生じるフイルミング現象の発生や像担持体表面の傷の発生を抑え、像担持体の感光特性を長期にわたって維持することが可能なクリーニング装置を提供する。 - 特許庁
To obtain an ink jet recorder comprising an ink jet head 1 for ejecting ink from nozzle holes 12 provided in a pressure chamber 11 toward a recording sheet 41 through deformation operation of an actuator 13 in which the size of the ink jet recorder is reduced by cleaning the vicinity of the nozzle hole 12 surely even if suction force is small when the vicinity of the nozzle hole 12 is cleaned through suction.例文帳に追加
アクチュエータ13を変形作動させることによって圧力室11に設けられたノズル孔12から記録紙41に向かってインクを吐出するインクジェットヘッド1を備えたインクジェット記録装置において、ノズル孔12付近を吸引することによって清掃する場合に、吸引力が小さくてもノズル孔12付近を確実に清掃できるようにし、インクジェット記録装置の小型化を図る。 - 特許庁
The vacuum heat-treatment apparatus for treating contaminated waste having been roughly cleaned using an organic solvent is comprised of a back-flow prevention tank disposed in an exhaust flow path that connects a vacuum heating furnace and an oil scrubber with one end of an exhaust inflow pipe disposed in the upper part of the tank and one end of an exhaust outflow pipe disposed in the bottom part of the tank.例文帳に追加
本発明は、有機溶媒を用いて粗洗浄した汚染廃棄物を真空加熱処理する粗洗浄済の汚染廃棄物加熱処理装置であって、真空加熱炉とオイルスクラバーとを接続する排ガス経路に設置された逆流防止タンクとを備え、前記逆流防止タンクの排ガス流入側配管端部をタンク上部に配置し、排ガス流出側配管端部をタンク底部に配置する。 - 特許庁
The article to be cleaned comes into electric contact naturally with the portion onto which a non-conducting insulation film is not applied by immersing an electrode plate 28 of an anode 4 in the electrolytic cleaning fluid within a cleaning tank 2 and only introducing the article to be coated which is placed on a stage part of the conductive network body 3 via the conductive network body that functions as a cathode.例文帳に追加
洗浄槽2内の電解洗浄液に陽極電極体4の電極板28を没入するととともに、陰極として機能する導電性網状体3を介して導電性網状体の載置部に載置する被洗浄物を電解洗浄液内に入れるだけで、被洗浄物が導電性網状体3の非導電性の絶縁被膜で被覆されていない部分に自ずと電気的に接触する。 - 特許庁
There is provided a method for cleaning an apparatus for producing a polymerization process toner having colored polymer particles obtained by polymerizing a polymerizable monomer composition having at least a polymerizable monomer and a colorant in the presence of a polymerization initiator, which comprises allowing sublimable solid pellets to collide at a high speed against that surface of the apparatus which is to be cleaned to remove the adherent matter therefrom.例文帳に追加
少なくとも重合性単量体と着色剤とを含有する重合性単量体組成物を重合開始剤の存在下で重合することにより得られた着色重合体粒子を有する重合トナーの製造装置において、昇華性固体ペレットを高速で衝突させて該重合トナーの製造装置の被洗浄面の付着物を除去することを特徴とするトナー製造装置の洗浄方法である。 - 特許庁
By the mutual relationship of the characteristics, various objects can be washed with a high function and a low environmental load by a fouling component adsorption function, an object surface high speed washing function, and a sterilization function, and dirty water can be cleaned.例文帳に追加
ナノバブルには浮力の減少、表面積の増加、表面活性の増大、局所高圧場の生成、静電分極の実現による界面活性作用と殺菌作用等の特性が存在することが明らかになり、それらが相互に関連することによって、汚れ成分の吸着機能、物体表面の高速洗浄機能、殺菌機能によって各種物体を高機能、低環境負荷で洗浄することができ、汚濁水の浄化を行うことができる。 - 特許庁
In the method of analyzing molecules to be measured to be derivative on a sample support, a sample including the molecules to be measured and a derivatization agent are placed on the sample support to react, and an area on the sample support after the reaction is cleaned for analysis by a solvent for cleaning for dissolving the derivatization agent without substantially dissolving the molecules to be measured after the reaction with the derivatization agent.例文帳に追加
試料支持部材上の誘導体化した測定対象分子を分析する方法であって、該測定対象分子を含む試料及び誘導体化剤を試料支持部材上に載せて反応させ、反応後の試料支持部材上を、誘導体化剤と反応後の測定対象分子を実質的に溶解せず、誘導体化剤を溶解する洗浄用溶媒で洗浄した後に分析することを特徴とする分析方法。 - 特許庁
A cylinder member B is composed of an upper member B_1 and a lower member B_2 airtightly and detachably connected to the upper member, and the inside of the air cylinder can be cleaned by removing the lower member.例文帳に追加
空気用シリンダ20及び液用シリンダ30を備え、各シリンダ内を摺動する空気用ピストンD_3及び液用ピストンD_1を備えた作動部材Dを上下動させることにより各シリンダ内の空気と液とを合流させて起泡させ、泡として吐出する如く構成したフォーマーポンプにおいて、シリンダ部材Bを上部材B_1と、上部材に気密且つ着脱可能に連結させた下部材B_2とで構成し、下部材を取り外すことにより空気シリンダ内を洗浄可能に構成した。 - 特許庁
A method of reproducing a cleaning liquid includes the steps of: storing a cleaning liquid 101 containing ionized impurities and unionized impurities after cleaning an object to be cleaned, producing bubbles 104 in the cleaning liquid 101, making the bubbles 104 produced in the cleaning liquid 101 selectively adsorb the ionized impurities and the unionized impurities, and removing the impurities adsorbed by the bubbles 104 and reproducing it into clean cleaning liquid.例文帳に追加
被洗浄物を洗浄後の、イオン化した不純物及びイオン化していない不純物を含む洗浄液101を貯留する工程と、洗浄液101に気泡104を発生させる工程と、洗浄液101中に発生した気泡104にイオン化した不純物及びイオン化していない不純物を選択的に吸着させる工程と、気泡104に吸着した不純物を除去し、清浄な洗浄液に再生する工程とを有する。 - 特許庁
To provide a stain-removing unit that prevents stains from being accumulated on a felt when the stain materials on the surface of a wire rod are cleaned off by making the lengthy wire rod contact with the felt, thereby allows an operation of the stain removal to be conducted for a long time, and consequently improves productivity, yield, quality and the like of the wire rod.例文帳に追加
長尺の線材を連続的にフェルトに接触させることによってその線材の表面についている汚れ物質を拭き取ったときに、その拭き取った汚れ物質がフェルト上の特定箇所に堪らないようにすることができ、それによって線材の汚れ取り作業を長時間可能にし、その結果線材の生産性、歩留、品質等を顕著に改善することができる線材表面の汚れ取り装置を提供すること。 - 特許庁
The method of manufacturing the nitride semiconductor device forming an electrode on a nitride semiconductor layer, includes the steps of: carrying out plasma etching on a front surface of the nitride semiconductor layer by using a reactive etching gas containing at least silicon; cleaning the etched region by an acid or an alkali process liquid, while putting the etched region to an inert gas plasma; and forming the electrode on a cleaned etched region front surface.例文帳に追加
窒化物半導体層上に電極を形成する窒化物半導体装置の製造方法において、少なくともシリコンを含む反応性エッチングガスを用いて、窒化物半導体層の表面をプラズマエッチングする工程と、そのエッチング領域を、不活性ガスのプラズマに曝すと共に、酸系あるいはアルカリ系の処理液で清浄化する工程と、清浄化されたエッチング領域表面に電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁
In the device for the formation of an image in which a toner image remaining on the electrophotographic photoreceptor is cleaned by a cleaning means, the electrophotographic photoreceptor has a surface layer consisting of a siloxane-based resin layer having the structural unit having at least charge transfer performance and having a crosslinked structure on a conductive supporting body, and the cleaning means has a rubber elastic cleaning blade and a cleaning assist member.例文帳に追加
電子写真感光体上に残留したトナー像をクリーニング手段によりクリーニングする画像形成装置において、該電子写真感光体が導電性支持体上に少なくとも電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂層の表面層を有し、且つ該クリーニング手段がゴム弾性クリーニングブレードとクリーニング補助部材を有することを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁
In a regeneration method, when a denitrification catalyst whose denitrification function is lowered is regenerated, the concentration of sulfuric acid or ammonia in cleaning liquid is regulated to be 5-20 wt.%, and the temperature of the cleaning liquid is maintained at 10-90°C to clean the catalyst, and the cleaned catalyst is impregnated with a catalytic active component to support the component.例文帳に追加
脱硝性能が低下した脱硝触媒の再生にあたり、洗浄液中の硫酸水又はアンモニア水の濃度を0.05〜20重量%とし、洗浄液の温度を10〜90℃に維持して触媒を洗浄することを特徴とする脱硝触媒の再生方法、並びに、上記条件で脱硝性能が低下した脱硝触媒を洗浄し、該洗浄触媒に触媒活性成分を含浸担持することを特徴とする脱硝触媒の再生方法。 - 特許庁
The endoscope is provided with a signal input terminal 16 which is connected to a signal output terminal of the endoscope cleaning device 30 when the endoscope is cleaned by the endoscope cleaning device 30, cleaning done memory means 18 which stores 'cleaning done' when the signal inputted from the signal input terminal 16 signifies 'cleaning end' and display means 19 which displays the 'cleaning done' in a position visible from outside.例文帳に追加
内視鏡洗浄装置30によって洗浄される際に内視鏡洗浄装置30の信号出力端子と接続される信号入力端子16と、信号入力端子16から入力された信号が「洗浄終了」を意味するものであるときに、「洗浄済」であることを記憶する洗浄済記憶手段18と、「洗浄済」であることを外部から見える位置に表示する表示手段19とを設けた。 - 特許庁
The residual toner on the intermediate transfer belt 8 surface can be stably cleaned well by externally adding inorganic particles of ≥ 50nm diameter to toner used in developing in a developing device 4a and making the inorganic particles t which are released from the toner remaining in the vicinity of the cleaning blade 13a to stabilize the abutted state between the cleaning blade 13a and the intermediate transfer belt 8, thereby forming a layer blocking the toner.例文帳に追加
現像器4aで現像に用いられるトナー中に直径50nm以上の無機微粒子を外添えしたことにより、クリーニングブレード13a近傍にトナーから遊離した無機微粒子tが滞留することによって、クリーニングブレード13aと中間転写ベルト8との当接状態が安定し、かつ、トナーをブロックする層を形成するため、中間転写ベルト8表面に残留している残トナーを安定して良好にクリーニングすることができる。 - 特許庁
To reduce the amount of water used for cleaning quarried raw stone to thereby reduce power required for driving a cleaning apparatus, reduce the weight of a main body drum of the cleaning apparatus to also reduce power required for driving the cleaning apparatus, and extract cleaned raw stone in a classified state classified by size in sufficiently drained conditions.例文帳に追加
採掘した原石の洗浄に使用する水量を減らし、それにより洗浄装置の駆動に必要な動力を減少させること、洗浄装置の本体ドラムの重量を軽くし、それにより洗浄装置の駆動に必要な動力を減少させること、洗浄後の原石を大きさごとに分別して取り出すことができるようにすること、及び、洗浄後の原石を十分に水切りした状態で取り出すことができるようにすることを課題とする。 - 特許庁
The method for cleaning the semiconductor wafer comprises: the formation of a first liquid film on a surface to be cleaned of the semiconductor wafer, the first liquid film containing hydrogen fluoride and ozone; replacement of the first liquid film with a second aqueous liquid film which contains hydrogen fluoride and ozone; and removal of the second liquid film, wherein the concentration of hydrogen fluoride in the second liquid film is lower than in the first liquid film.例文帳に追加
フッ化水素とオゾンを含有する第一の水性液膜を、清浄化されるべき半導体ウェハの表面上に形成させることと、前記第一の液膜を、フッ化水素とオゾンを含有する第二の水性液膜と置き換えることと、前記第二の液膜を除去することとを含み、前記第二の液膜中のフッ化水素の濃度が前記第一の液膜中よりも低い、半導体ウェハの清浄化方法によって解決される。 - 特許庁
To provide a cleaning device contributing to obtaining images of high image quality by hardly increasing size of the device, cleaning spherical toner and preventing image blur concerning the cleaning device for cleaning a body to be cleaned such as a photoreceptor drum and an intermediate transfer body for instance and an image forming apparatus with the cleaning device, and to provide the image forming apparatus with the cleaning device.例文帳に追加
本発明は、例えば感光体ドラムや中間転写体などといった被クリーニング体をクリーニングするクリーニング装置、およびこのようなクリーニング装置が備えられた画像形成装置に関し、装置の大型化を招くことなく、球形トナーをクリーニングし、画像ボケを防止し、長期に渡って高画質の画像を得ることに寄与するクリーニング装置、およびこのようなクリーニング装置が備えられた画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
An ink jet recorder comprising an ink jet head for discharging ink from orifices is further provided with a wiping means for cleaning an orifice plate, i.e., a plane of the head where orifices are formed, and a means for cleaning the wiping means wherein the wiping means is arranged to be cleaned by the cleaning means on the recorder.例文帳に追加
本発明は、上記目的を達成するために、オリフィスよりインクを吐出して記録をするインクジェットヘッドを備えるインクジェット記録装置において、上記ヘッドのオリフィスが形成された面であるオリフィスプレートをクリーニングするワイプ手段と、上記ワイプ手段を洗浄する洗浄手段とを備え、上記ワイプ手段は上記洗浄手段により装置上にて洗浄可能に構成されていることを特徴とするインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁
The materials are cleaned, as required, upon ending the conference and returned back to original white paper state through thermal decoloring thus preparing for next use.例文帳に追加
会議等の資料のうち、会議の終了後に使用済となる一時資料を、第1の熱エネルギーの印加により顕色性を呈し、第2の熱エネルギーに印加により退色性を呈する記録層を支持体面に有するリライタブル記録媒体に、必要な内容を熱エネルギーを与えて顕色表示して資料とし、この資料を会議終了後に必要に応じてクリーニングをした後に加熱減色させてもとの白紙状態に戻し、次の使用にそなえることを特徴とする。 - 特許庁
The cleaned air supply mechanisms 3 and 4 absorb the air in the air shower chamber 2 through the recessed parts.例文帳に追加
エアシャワー室2と、該室2側方に配置される浄化空気供給機構3、4とを備え、エアシャワー室2内の空気を浄化空気供給機構3、4により吸引し、浄化された空気をエアシャワー室2内に噴射しエアシャワー室2内の空気を循環浄化するエアシャワー装置1において、浄化空気供給機構3、4は下部にエアシャワー室2の床面と略々同一面とした窪み部5を備え、浄化空気供給機構3、4はエアシャワー室2内の空気を該窪み部を介して吸引する。 - 特許庁
In the air shower device, the nozzle blows the cleaned air in order upon a lower part from an upper part of the foreign body of the air shower room.例文帳に追加
このエアシャワー装置は、外来体が出入りするエアシャワー室と、エアシャワー室の空気を吸込む送風機、及びエアシャワー室の空気に含まれるアレルゲン物質またはウイルスを含む粉塵を除去し空気を清浄化するフィルタを有する機械室と、エアシャワー室または機械室に設けられエアシャワー室の外来体に清浄化された空気を吹き付けるノズルとを有し、当該ノズルはエアシャワー室の外来体の上部から下部へ順に清浄化された空気を吹き付けるエアシャワー装置である。 - 特許庁
This air cleaning apparatus for taking in air in the room through a sucking port 2 and emitting the cleaned air through a blowing port 3 is provided with a positive ion collecting means 6 for collecting the positively ionized contaminant, a cooling means 7 for condensing the moisture on the surface of the means 6 by cooling the means 6 and a condensed water collecting means 8 for collecting the condensed water.例文帳に追加
室内空気を吸込口2から取り込み、浄化した空気を吹出口3から放出するものであり、正イオン化した汚染物質を収集するための正イオン収集手段6と、正イオン収集手段6を冷却して当該正イオン収集手段6の表面に空気中の水分を凝縮させるための冷却手段7と、凝縮した水分を収集するための凝縮水収集手段8とを備えるようにした。 - 特許庁
The present invention is the method of cleaning for removing residue in semiconductor manufacturing processing, comprising contacting the surface to be cleaned with the aqueous formulation which has a polymer selected from the group consisting of acrylamido-methyl-propane sulfonate polymers, acrylic acid-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid copolymer and mixtures thereof and a quaternary ammonium hydroxide having greater than 4 carbon atoms, or choline hydroxide together with an acetylinic surfactant.例文帳に追加
洗浄される表面と水系配合物とを接触させることを含む、半導体製造プロセスにおける残渣を除去するための洗浄方法であって、その水系配合物が、アクリルアミド−メチル−プロパンスルホナートポリマー、アクリル酸−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸コポリマー及びこれらの混合物からなる群から選択されるポリマー、及び4超の炭素原子を有する第四級アンモニウムヒドロキシド又は非アセチレン性界面活性剤と共に水酸化コリンを有する方法である。 - 特許庁
The disk-shaped acrylic plate 206 is cleaned, by rotating the plate 206 at a prescribed timing by a prescribed angle.例文帳に追加
CCDカメラ201のカメラレンズホルダ201Aに取り付けたレンズLを保護する透明な円盤状アクリル板206と、前記円盤状アクリル板206を清掃するクリーナ部212をバネ材211に配置した清掃部210と、前記円盤状アクリル板206をシャフト207で軸支して回転駆動する駆動源209と、カメラ視野範囲213を遮光しないように配置したフード220とを有し、前記円盤状アクリル板206を所定のタイミングで所定の角度回転させて円盤状アクリル板206をクリーニングするようにした。 - 特許庁
To provide a compound having high polymerization reactivity, capable of being crosslinked by copolymerization, providing a polymer capable of self-cleaning the surface or easily being cleaned even when a pollutant such as a combustion product such as carbon black and oil components contained in exhaust gas by the high hydrophilicity possessed by the obtained polymer, and useful as a stainproof material, antifogging material and antistatic material; and to provide the polymer of the compound.例文帳に追加
重合反応性が高く共重合により容易に架橋化が可能で、得られた重合体が高い親水性を有する事によって、カーボンブラックのような燃焼生成物や排気ガス中に含まれる油分等の汚染物質が付着した際にも、表面を自己浄化(セルフクリーニング)し、もしくは容易に清掃することの可能な防汚材料、防曇材料、並びに帯電防止材料として有用な化合物および該化合物の重合体を提供する。 - 特許庁
This contaminant decomposing device has a reaction vessel provided with a pair of electrodes and a power source for applying a potential to the electrodes, a means for supplying a solution containing a contaminant to be cleaned to the vessel, a means for aerating a solution formed by electrolyzing a mixture of the water having dissolved an electrolyte and the solution containing the contaminant in the vessel and a means for irradiating the vessel with light.例文帳に追加
一対の電極と該電極に電位をかける電源とを備えた反応容器、該反応容器に電解質を溶解した水を供給する手段、該反応容器に浄化されるべき汚染物質を含む溶液を供給する手段、該反応容器中の該電解質を溶解した水と該汚染物質を含む溶液の混合溶液を電気分解した溶液を曝気する手段及び該反応容器に光照射を行なう手段を有することを特徴とする汚染物質分解装置。 - 特許庁
The manufacturing method includes a cleaning step of cleaning the insulative light-transmissive substrate before laser scribe, and a drying step of drying the cleaned insulative light-transmissive substrate.例文帳に追加
絶縁透光性基板上に少なくとも第一電極層、光電変換ユニット及び第二電極層を有する積層体が積層され、前記絶縁透光性基板の表面の周部にはレーザスクライブすることによって積層体が除去された裸地部があり、前記裸地部の一部又は全部と積層体とを被覆する封止層が設けられた光電変換装置の製造方法において、前記レーザスクライブ前に前記絶縁透光性基板を洗浄する洗浄工程と洗浄された前記絶縁透光性基板を乾燥させる乾燥工程を具備することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
(a) Damage caused within the territory (including territorial sea. The same shall apply to item vii-2.(a) and item 2 of paragraph 1 of Article 39-5) of a Contracting State of the Liability Convention or within the Exclusive Economic Zone, etc. by the pollution (limited to the pollution by the Oil loaded as cargo or by the Bunker Oil (including the Oil that is left in the cargo hold and the other places in the Tanker prescribed by an ordinance of the Ministry of Land, Infrastructure, Transport and Tourism and mixture which is including a said Oil and which prescribed by an ordinance of the Ministry of Land, Infrastructure, Transport and Tourism) resulting from the escape or discharge of Oil from a Tanker (as for the Tanker capable of carrying cargo other than Oil in bulk, it is limited to the Tanker used for transporting Oil in bulk and while the cargo holds have not been cleaned to the degree so that no oil may be left after they were used for transportation of Oil in bulk, the Tanker being used for transportation of cargo other than Oil in bulk and the ships navigating without any cargo). 例文帳に追加
イ タンカー(ばら積みの油以外の貨物の海上輸送をすることができるタンカーにあつては、ばら積みの油の輸送の用に供しているもの並びにばら積みの油の輸送の用に供した後当該タンカーのすべての貨物艙内に当該油が残留しない程度にその貨物艙を洗浄するまでの間において、ばら積みの油以外の貨物の輸送の用に供しているもの及び貨物を積載しないで航行しているものに限る。)から流出し、又は排出された油による汚染(貨物として積載されていた油又は燃料油(当該油が貨物艙内その他の国土交通省令で定めるタンカー内の場所に残留したもの及び当該油を含む混合物で国土交通省令で定めるものを含む。)による汚染に限る。)により生ずる責任条約の締約国の領域(領海を含む。第七号の二イ及び第三十九条の五第一項第二号において同じ。)内又は排他的経済水域等内における損害 - 日本法令外国語訳データベースシステム
| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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