「Cleaned」に関連した英語例文の一覧と使い方(107ページ目) - Weblio英語例文検索

In the cleaned drawing-up room, in which the plurality of the single-crystal drawing-up machines are mounted, which has a plurality of working floors and in which clean air is supplied in a down flow from a ceiling or an upper section in the vicinity of the ceiling, at least three floors or more of the working floors are secured in response to cleanliness required for works conducted on each working floor.例文帳に追加

複数台の単結晶引上げ機を設置し、複数の作業床を有し、天井またはその近傍の上部よりクリーンエアーをダウンフローにて供給するクリーン化された引上げ室において、各作業床で行われる作業に必要なクリーン度に応じて、少なくとも３床以上の作業床を設けたことを特徴とする引上げ室。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a denitrification catalyst, which is used for regenerating the flue gas denitrification catalyst used in exhaust gas of fuel like coal or heavy oil having high ash content and by which the used denitrification catalyst can be regenerated to have high denitrification efficiency while preventing the exfoliation of a coated layer even when the used denitrification catalyst is not cleaned and to provide a regenerated denitrification catalyst.例文帳に追加

石炭や重油のような灰分の多い燃焼ガス中で使用した排煙脱硝触媒を再生する方法において、使用済触媒を洗浄しなくても、脱硝触媒コーティング層の剥離を防ぎつつ、高い脱硝率に再生することができる、脱硝触媒の再生方法および再生脱硝触媒を提供する。 - 特許庁

The method includes a cleaning process for removing deposited and/or adsorbed substances on the surface of the solid material; a process for lowering the surface hardness of the solid material by supporting a hardness lowering substance by the cleaned surface; and a process for applying the mechanical machining operation to the surface carrying the hardness lowering substance after the hardness lowering process or during the hardness lowering process.例文帳に追加

表面に存在する付着物質及び／又は吸着物質を除去するクリーニング工程、クリーニングされた表面に硬度低減物質を担持させ、固体の表面硬度を低減する工程、及び前記硬度低減工程の後、または硬度低減工程中に、前記硬度低減物質を担持させた表面に機械的加工を施す工程を含む。 - 特許庁

To provide an efficient and reliable method of manufacturing a semiconductor wafer without metal contamination, by which, when a semiconductor wafer surface is etched or cleaned, the metal concentration of the wafer surface to be manufactured is not directly analyzed, but an analytical value is indirectly and instantly obtained and regulated to make the value below a predetermined value, and to provide a device for monitoring the same.例文帳に追加

半導体ウエーハ表面をエッチングや洗浄する場合に、製造されるウエーハ表面の金属濃度を直接分析することなく、間接的に即時に分析値を得て、それを所定値以下に管理することにより効率的で確実な金属汚染の無い半導体ウエーハの製造方法とこれをモニタリングする装置を提供する。 - 特許庁

The cleanser package comprises a powdery cleanser 3 and a casing 2 housing the cleanser 3 therein, wherein the casing 2 houses the powdery cleanser 3 in a sealing-up manner and has outflow mechanisms 16, 22, 24, 28 and 29 which enable the powdery cleanser 3 to flow out toward parts to be cleaned with water for cleansing use.例文帳に追加

粉状洗浄剤３とその粉状洗浄剤３を内部に納める外装体２とかなり、外装体２は粉状洗浄剤３を密封状態に納めるとともに、洗浄使用に際しては付与される水により粉状洗浄剤３を被洗浄部に流出可能とする流出機構１６、２２、２４、２８、２９を備える洗浄剤収納体。 - 特許庁

Glass 31 of the read plane can be opened/closed in respect to an upper original feeding guide 24 which is the frame of an optical system, so that an inner side C of the glass 31 inside a read window can be easily cleaned, and an image can be prevented from becoming worse by internal dust sticking on the inner side C of the glass 31.例文帳に追加

読み取り面のガラス３１を光学系のフレームである原稿搬送上ガイド２４に対して開閉可能に構成することによって、読み取り窓の内側のガラス３１の内側の面Ｃの清掃を簡単に行うことができ、ガラス３１の内側の面Ｃに付着した内部のゴミによって画像が悪化することを防止できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical printer head that does not cause damage to a connector even when the top face of a head board is cleaned by plasma treatment after the head board on which the connector is arranged is bonded and fixed to a base plate, accurately mounts light-emitting elements and a driving IC chip on the head board and improves the reliability of electrical connections.例文帳に追加

コネタクを配設したヘッド基板をベースプレートに接着固定した後に、ヘッド基板上面をプラズマ処理にて洗浄処理を行っても、コネクタの損傷が一切発生することがなく、また、発光素子や駆動用ＩＣチップを精度高くヘッド基板に載置でき、しかも、電気的な接続信頼性も向上できる光プリンタヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

It is possible to provide use-friendly rechargeable vacuum cleaner which can collect dust having entered a carpet and hardly coming out with increased suction power without reducing operation time so much to meet various kinds of surfaces to be cleaned, by way of a power-dash button 9a provided at a controller 6 for selecting an operation mode of raising suction power for a predetermined period of time.例文帳に追加

操作部６に一定時間吸い込み力を上昇させる運転モードを選択するパワーダッシュ釦９ａを有することで、使用時間をあまり落とすことなく、絨毯上に入り込んだ取れにくいゴミを吸い込み力アップすることで集塵でき、掃除面の種類に対応できる使い勝手の良い充電式掃除機を提供できる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which ensures high image quality, high durability and a long lifetime and does not cause curl of a cleaning blade or defects in image formation due to lowering of cleaning performance, such as escape of toner and image deletion even when a surface of a high durability photoreceptor having high hardness and high elasticity is cleaned in a low temperature or high humidity environment.例文帳に追加

低温や高湿環境化において高硬度高弾性を有する高耐久感光体表面をクリーニングする際にも、クリーニングブレードのめくれ、トナーのすり抜けや画像流れといったクリーニング性能の低下による画像形成不良を起こさない高画質かつ高耐久・長寿命の画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

In a process of patterning a wiring 210 on a metal plug 206, when a photoresist 218 is removed, impurity is added to oxygen plasma 220 with a ratio of oxygen to impurity at about 1:1 or with the amount of oxygen decreased with respect to that of impurity, and then the photoresist 218 is removed by an oxygen plasma and then a substrate 200 is wet-cleaned with an alkaline solution.例文帳に追加

金属プラグ上に配線をパターニングする工程において、フォトレジストを除去する時に、酸素プラズマ中に不純物を添加し、かつ酸素と不純物との比率を約１：１または酸素含有量が不純物含有量よりも小さくしてから、酸素プラズマによりフォトレジストを除去し、アルカリ性溶液で基板に対する湿式洗浄を行う。 - 特許庁

The method of cleaning the substrate comprises a cleaning process where the synthesized quartz glass substrate is dipped in a cleaning liquid and is irradiated with the ultrasonic wave and a rinse process where the substrate after cleaned is dipped in a pure water and rinse is performed by irradiating the substrate with the ultrasonic wave, and the cleaning process and the rinse process are performed by specifying the sound pressure and total irradiation time of the ultrasonic wave.例文帳に追加

合成石英ガラス基板を洗浄液に浸漬し超音波を照射して洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記基板を純水に浸漬して超音波を照射してすすぎを行うすすぎ工程とを含み、前記洗浄工程及びすすぎ工程を、超音波の音圧と照射総時間とを特定して行う。 - 特許庁

In a mode for teaching a third chemical fly-in upper position, third chemical is supplied to a wafer W (step S3) while being rotated at the same rotational speed (1,500 rpm) as that when a wafer W held by a spin chuck is cleaned, and integrated flow rate of the third chemical collected from a third collection opening is measured (step S10).例文帳に追加

第３薬液飛入上位置をティーチングするティーチングモードでは、スピンチャックに保持されたウエハＷが洗浄処理時と同じ回転速度（１５００ｒｐｍ）で回転されつつ、そのウエハＷに対して第３薬液が供給され（ステップＳ３）、第３回収開口部から回収される第３薬液の積算流量が計測される（ステップＳ１０）。 - 特許庁

The detergent for a colored material removes, from a target to be cleaned, colored particles and/or colored fibers firmly adhered thereto with a film-forming resin-containing binder, which colored material detergent contains an anionic surfactant and/or an amphoteric surfactant and does not substantially contain a cationic polymer.例文帳に追加

被膜形成性樹脂を含む固着剤で洗浄対象物上に固着された着色粒子及び／又は着色繊維を、前記洗浄対象物上から除去するための着色材洗浄剤であって、アニオン性界面活性剤及び／又は両性界面活性剤を含有し、かつカチオン性ポリマーを実質的に含有しない、着色材洗浄剤。 - 特許庁

The method for preserving fish and shellfish comprises antimicrobially cleaning fresh fish and shellfish with antimicrobial water which comprises electrolytic water generated by electrolyzing clean seawater, and preserving the antimicrobially cleaned fish and shellfish in preservation water comprising electrolytic water obtained by adding a surplus amount of a neutralizing agent which neutralizes the antimicrobial ability to the electrolytic water having antimicrobial ability.例文帳に追加

新鮮な魚介類を、清浄な海水を電解して生成された殺菌能を有する電解生成水である殺菌洗浄用水にて殺菌洗浄し、殺菌洗浄した魚介類を、殺菌能を有する電解生成水に殺菌能を中和する中和剤を余剰に添加してなる電解生成水である保存用水にて保存する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which is inexpensive for manufacture, is usable for cleaning objects having various lengths, aperture sizes and internal passages of angular direction change, easily modified to different shapes, lengths and diameters so as to be made adaptable to a wider range of the various objects to be cleaned, is inexpensively manufactured and is easily usable.例文帳に追加

製造するために安価で、様々な長さ、開口部大きさ及び角ばった方向転換の内部通路を有する物体をきれいにするのに用いることができ、なお、ずっと広範囲のさまざまな掃除される物体に適応させるために、異なる形、長さ及び直径に容易に改造され、製造できる安価な、使いやすいクリーナ装置を提供することである。 - 特許庁

This reclaiming method comprises: (1) Previously pulverized slag is heated in an inert-gas atmosphere together with metal calcium or calcium hydride as a reducing agent to undergo reduction and then cleaned and the resultant reduced magnetic alloy is recovered: (2) The melting and solidification of the magnetic alloy are performed in an inert gas atmosphere to remove calcium.例文帳に追加

この再生法は、予め粉砕されたスラグを還元剤の金属カルシウムまたは水素化カルシウムとともに不活性ガス雰囲気中で加熱して還元した後に洗浄して、還元された磁石合金を回収する第１の工程、および不活性ガス雰囲気中で磁石合金の溶解および凝固を行ってカルシウムを除去する第２の工程をともに含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a synthetic quartz glass substrate for a polysilicon TFT (thin-film transistor) which suppresses the generation of impurities from a substrate end surface and suppresses the elution of the impurities from the end surface and adhesion thereof to the the surface of the substrate even if the synthetic quartz glass is cleaned with chemicals (an HF solution etc.) in a polishing process.例文帳に追加

ポリッシュ工程において基板端面からの不純物の発生を抑えるとともに、合成石英ガラスに対して溶解力を持つ薬液（ＨＦ溶液等）で洗浄しても端面から不純物が溶出して基板の表面に付着することを抑えたポリシリコンＴＦＴ用合成石英ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

This grinding system is composed at least of a chuck table 11 for holding a plate matter, grinding means 12a and 12b for grinding the plate matter held by the chuck table 11, a cleaning means 13 for cleaning the ground plate matter, and a dry etching means 14 for dry etching the cleaned plate matter, thus realizing efficient grinding up to dry etching steps.例文帳に追加

少なくとも、板状物を保持するチャックテーブル１１と、チャックテーブル１１に保持された板状物を研削する研削手段１２ａ、１２ｂと、研削済みの板状物を洗浄する洗浄手段１３と、洗浄済みの板状物をドライエッチングするドライエッチング手段１４とからなる研削システムを構成し、研削からドライエッチングまでを効率良く行う。 - 特許庁

Consequently, this spin cleaner, which removes the dust or coating film from the object 2 by spraying the cleaning material composed of a gas, liquid, or their mixture upon the object 2 while rotating the object 2 in the casing 3, can prevent the once removed splashes or mists 15 containing dust or coating film from adhering again to cleaned surfaces.例文帳に追加

これにより、所定のケーシング３内で被洗浄物２を回転しこの被洗浄物２に気体や液体またはそれらの混合物から成る洗浄体を噴射することで、被洗浄物２からゴミや塗膜を除去するスピン洗浄装置において、一度除去されたゴミや塗膜を含む飛沫やミスト１５が再び洗浄面に付着することを防止する。 - 特許庁

The zinc oxide single crystal substrate 1A having a flat surface is obtained by charging a polished and cleaned substrate 1 in a chamber, then depositing/forming a thin film 2 while controlling the pressure and the temperature of a flux being a component dissolving zinc oxide so that the flux melts in the chamber brought into a vacuum state, and thereafter removing the flux component.例文帳に追加

研磨し洗浄した基板１をチェンバーに投入し、真空としたチェンバー内において、酸化亜鉛を溶解することができる成分であるフラックスをこのフラックスが溶融する温度及び圧力を制御しつつ堆積し、薄膜２を形成し、その後、上記フラックス成分を除いて、表面が平坦な酸化亜鉛単結晶基板１Ａを得る。 - 特許庁

The surface of a transfer belt 11 arranged to be opposed to a photoreceptor drum 1 is cleaned by a cleaning blade 15, and high voltage is applied to the belt 11 holding material P to be transferred in a nip while making the belt 11 abut on the drum 1 in a transfer nip N, whereby a toner image on the drum 1 is transferred to the material P.例文帳に追加

感光体ドラム１に対向配置した転写ベルト１１の表面をクリーニングブレード１５で清掃可能とし、ニップ被転写材Ｐを保持した転写ベルト１１を転写ニップＮで感光体ドラム１に当接させつつ高電圧を印加することにより、感光体ドラム１上のトナー像を被転写材Ｐへ転写させる装置である。 - 特許庁

In the surface treatment method for an aluminum alloy where an anodic oxide film is formed on the surface of an aluminum alloy, and clear painting is performed to the anodic oxide film, a neutralization treatment where fine pores formed on the anodic oxide film are cleaned, and drying treatment where the anodic oxide film is forcedly dried before the above clear painting are performed.例文帳に追加

アルミニウム合金の表面に陽極酸化皮膜を形成し、この陽極酸化皮膜にクリヤー塗装を行うアルミニウム合金の表面処理方法において、前記陽極酸化皮膜に形成される微細孔を洗浄する中和処理と、前記クリヤー塗装の前に前記陽極酸化皮膜を強制乾燥する乾燥処理とを行う。 - 特許庁

A cleaning sheet 1 contains 25-90 wt.% thermoplastic fiber 2 having a fiber length of 2-15 mm and a fineness of 10-150 dtex and 10-75 wt.% cellulosic fiber 3, has a number of tip portions of the thermoplastic fiber 2 on the surface, and the abrasive and scraping performance to the stain on a surface to be cleaned.例文帳に追加

繊維長が２〜１５ｍｍで且つ繊度が１０〜１５０ｄｔｅｘの熱可塑性繊維２を２５〜９０重量％、及びセルロース系繊維３を１０〜７５重量％含み、表面に熱可塑性繊維２の先端部が多数存在して、清掃対象面に存する汚れに対する研摩性ないし掻き取り性を有する清掃用シート１。 - 特許庁

A cleaner body is provided with the detachable dust collecting case 18, the dust collecting case 18 is provided with a centrifugal separation part 29 centrifugally separating the dust from a suction air, the centrifugal separation part 29 is detachably provided in the dust collecting case 18, and the centrifugal separation part 29 can be detached and easily cleaned.例文帳に追加

掃除機本体に着脱自在な集塵ケース１８を備え、前記集塵ケース１８は吸引風から塵埃を遠心分離する遠心分離部２９を有し、前記遠心分離部２９は前記集塵ケース１８に着脱自在に設けられたもので、遠心分離部２９を取り外すことができ、清掃が容易にできるものである。 - 特許庁

The contaminated soil, water or gas is cleaned by bringing magnetite-iron combined powder containing magnetite and having 0.01-10 μm average primary diameter or a mixture of the magnetite-iron combined powder with non-iron inorganic compound powder into contact with at least one of the soil, the water or the gas contaminated with the organic halogen compound to decompose the organic halogen compound.例文帳に追加

マグネタイトを含有し、平均一次粒径が０．０１〜１０μｍであるマグネタイト−鉄複合粉末、または該鉄複合粉末と非鉄無機化合物粉末を含有する混合物を、有機ハロゲン化合物で汚染された土壌、水およびガスの少なくとも一つと接触させて、有機ハロゲン化合物を分解し、汚染された土壌、水、ガスを浄化する。 - 特許庁

After finishing printing, ink and wetting water adhering to the surface of the material P is cleaned by a cleaning device 10, thereafter, the printing area on the surface of the material P is removed by a chemical processing liquid supply roller 11 to return the material P to the initial state and to make it reusable.例文帳に追加

印刷終了後は、クリーニング装置１０により当該印刷用版材Ｐ表面に付着したインキ、湿し水をクリーニングした後、化学処理液供給ローラ１１により、印刷用版材Ｐ表面における前記画線部を除去することによって、印刷用版材Ｐを初期の状態に戻し、これを再利用可能とするものである。 - 特許庁

In the immersion lithography system, areas that an immersion medium comes into contact with during an exposure process is cleaned using the cleaning fluid containing the ether-based solvent, alcohol-based solvent, and semi-water type solvent when a predetermined period has elapsed after a plurality of wafers each having a photoresist film formed are exposed in the immersion lithography process using the immersion medium.例文帳に追加

液浸リソグラフィシステムで、フォトレジスト膜が形成された複数のウェーハを、液浸媒体を利用する液浸リソグラフィ工程によって露光した後、所定の周期が経過したとき、露光工程中に液浸媒体が接触した領域をエーテル系溶剤と、アルコール系溶剤と、準水系溶剤とを含む洗浄液を使用して洗浄する。 - 特許庁

A dust catcher 17 for cleaning high temperature exhaust gas exhausted from the combustion melting furnace 14 is provided downstream of the combustion melting furnace 14, and the high temperature exhaust gas cleaned by the dust catcher 17 is led into the pyrolyzing reactor 10 and used as pyrolyzing gas for pyrolyzing waste.例文帳に追加

燃焼溶融炉１４の下流側に、燃焼溶融炉１４から排出される高温排ガスを清浄化する集塵器１７が設けられており、この集塵器１７により清浄化された高温排ガスが熱分解反応器１０に導入されて廃棄物を熱分解する熱分解用ガスとして用いられるように構成されている熱分解処理設備。 - 特許庁

To provide a flow straightening plate and a flow straightening plate metal fixture which can be attached easily, without performing working of an existing range hood, and suppresses drop in drawing-in efficiency at ventilation and occurrence of offensive drawing-in noise and in which the neighborhood of an air intake in a range hood body can be cleaned easily.例文帳に追加

本発明は、既設のレンジフードの加工を行うことなく容易に取り付けることができ、換気時における吸気効率の低下、及び不快な吸気音の発生を抑制し、しかもレンジフード本体における吸気口近傍を手軽に清掃することができる整流板、及び整流板取付用金具を提供することを課題とする。 - 特許庁

To concentrate physical washing wastewater produced from a membrane treatment device until the concentration of sludge becomes almost constant throughout a year without adding a flocculant, to set the cleaned water recovery rate of the whole of a system to 99.9% or above, to increase the dehydration speed in a dehydrator and to reduce the evil related to the effective utilization of dehydrated sludge.例文帳に追加

凝集剤を添加することなく膜処理装置から発生する物理洗浄排水を年間を通じてほぼ一定した汚泥濃度まで濃縮すると共に、システム全体の浄水回収率を９９．９％以上とし、脱水機における脱水速度を向上させ、脱水汚泥の有効利用に係る弊害を少なくすることができる。 - 特許庁

The method for drying a cleaned quartz substrate comprises a step for performing spin drying while setting the speed of rotation in a range of 800-2500 r.p.m. and a difference in the pressure of a drying atmosphere in a range of 300-1500 Pa following to a step for cleaning the quartz substrate.例文帳に追加

洗浄後の石英基板の乾燥方法であって、石英基板を洗浄する工程の後に、少なくとも、回転数を８００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下の範囲とし、かつ乾燥雰囲気の差圧を３００Ｐａ以上１５００Ｐａ以下の範囲で排気してスピン乾燥する乾燥工程を行うことを特徴とする石英基板の乾燥方法。 - 特許庁

The circulation type treating device 1 is internally provided with the first treating vessel A for simultaneously subjecting solids to a mechano-chemical treatment by a pulverizing machine 7 and the second treating device B which separates the treated solids to the insoluble matter, etc., and cleaned liquid by an aperture 16 disposed at a main body pipe 17, by which the acidic value in the liquid is maintained.例文帳に追加

循環式処理装置１内に、固形物を粉砕機構７によって機械的化学的処理を同時に行う第１処理槽Ａと、本体管１７に設けられた開口部１６によって処理された固形物を不溶解物等と浄化液体とに分離する第２処理装置Ｂとによって液体内の酸性値を維持する。 - 特許庁

To prevent the flow of a cleaning liquid discharged from an opening in an ultrasonic cleaner having a cleaning tank 2 having the opening for an object to be cleaned below the level of the cleaning liquid, a water storage tank 5 for storing the cleaning liquid discharged from the opening, and a pump 6 for returning the cleaning liquid stored in the water storage tank 5 to the cleaning tank 2.例文帳に追加

洗浄液の液面より下方に被洗浄物の入出口を備えた洗浄槽２と、前記入出口から流出した洗浄液を蓄える貯水槽５と、この貯水槽５に蓄えられた洗浄液を前記洗浄槽２へ戻すポンプ６とを有する超音波洗浄装置において、入出口から流出する洗浄液の流れを防止する。 - 特許庁

To provide a floor mat of construction machinery which can automatically discharge water after washing from a doorway formed in a cab body of the construction machinery when the floor mat of the construction machinery is cleaned, and can improve interior comfort in the cab without giving un-comfortableness to an operator even when the operator puts on the foot on the floor mat in an operation of the construction machinery.例文帳に追加

建設機械のフロアマットを清掃する際、水洗いした水を建設機械のキャブ本体に形成した乗降口から自動的に排水できるとともに、建設機械の運転時、オペレータがフロアマットに足を乗せてもオペレータに不快感を与えることがなく、キャブ内の居住性を向上させることのできる建設機械のフロアマットを提供する。 - 特許庁

The game medium circulation system used in a bank of the game machine comprises the storage tank 21 for storing game media, the cleaning machine 23 for receiving game media from the storage tank 21 and cleaning the game media, and game medium circulation means 24, 25 and 26 for returning the game media cleaned by the cleaning machine 23 as they are into the storage tank 21.例文帳に追加

遊技機島にて用いられる遊技媒体循環システムにおいて、遊技媒体を貯留する貯留タンク２１と、前記貯留タンク２１から遊技媒体を受け取って洗浄する洗浄機２３と、前記洗浄機２３による洗浄後の遊技媒体をそのまま前記貯留タンク２１内に戻す媒体循環手段２４，２５，２６と、を備える。 - 特許庁

To perform efficient ultrasonic cleaning by making an object to be cleaned be able to move appropriately along the surface of a vibrating plate without causing the increase in the size of an ultrasonic cleaning machine and the complexity of its structure and without causing difficulty in the supply of a cleaning liquid between the object and the vibrating plate.例文帳に追加

超音波洗浄機の大型化や構造の複雑化を極力招かないようにし、しかも洗浄物と振動板との間への洗浄液の供給が困難になるといった不具合も生じさせることなく、洗浄物を振動板の表面に沿って適切に移動できるようにして、能率の良い超音波洗浄が行えるようにする。 - 特許庁

The catalyst is produced in such a way that a HC adsorbent layer and a catalyst component layer are laminated consecutively on an integrated structural carrier installed in the exhaust gas passage of an internal combustion engine, that the catalyst component layer contain inorganic oxides dispersed with alkali metals and alkaline earth metals and Pd, and that the HC released from the HC adsorbent layers is cleaned.例文帳に追加

内燃機関の排気流路に備えた一体構造型担体に、ＨＣ吸着材層と触媒成分層を順次積層して成り、触媒成分層はアルカリ金属やアルカリ土類金属を分散させた無機酸化物とＰｄとを含有し、ＨＣ吸着材層から脱離されたＨＣを浄化する排気ガス浄化用触媒である。 - 特許庁

The method for operating the coating equipment comprises the steps of: carrying the first coated substrate on the surface plate; cleaning the surface plate by using the surface plate cleaning part; carrying the second substrate to be coated onto the cleaned surface plate; and jetting the resin toward the second substrate from the nozzle part to coat the second substrate with the resin.例文帳に追加

また、本発明に係るコーティング装備運用方法は、定盤上にコーティングを行う第１基板を搬出する段階と、定盤洗浄部を用いて定盤を洗浄する段階と、洗浄された定盤上に、コーティングを行う第２基板を搬入する段階と、ノズル部から第２基板にレジンを噴射してコーティングを行う段階とを含む。 - 特許庁

Thus, the handle 6 is operated in a natural posture without bending the wrist more than required, playing can be enjoyed for a long time without fatigue and further, the handle can be uniformly and easily cleaned over all the periphery of the supporting part 55 by sufficiently putting a cleaner such as damp cloth around the supporting part 55.例文帳に追加

これにより、ハンドル６は手首を不必要に曲げることなく自然な姿勢で操作されて長時間に渡って疲れることなく遊技を楽しむことが可能となり、また、雑巾等の清掃具を支持部５５の周囲に十分入り込ませて支持部５５の周囲の全体に渡って均一に且つ容易に清掃することが可能となる。 - 特許庁

Since a recess 14 is formed and a liquid drain outlet 15 is provided in the outer circumference of an ink supply tube 12 on the downstream side of the filter 13, the filter 13 can be cleaned from both the upstream side and downstream side, and a foreign matter 16 can be removed from the liquid drain outlet 15 without being blocked by the filter 13.例文帳に追加

インク供給管路１２のフィルタ１３の下流側外周には、凹溝１４が形成され、液排出口１５が設けられていることで、フィルタ１３の上流側及び下流側の両方から洗浄を行うことができ、フィルタ１３に邪魔されることなく、異物１６を液排出口１５から除去することができる。 - 特許庁

Reaction tanks 14,15 holding an adsorbing substance 16 on which preliminarily retrieved (specified) or prepared and cultured effective microorganisms exerting suitable cleaning action on polluted raw water to be cleaned are adsorbed and water sprinking jet devices 18... for sprinkling and ejecting polluted raw water into the reaction tanks 14, 15 are provided to a polluted water cleaning line.例文帳に追加

汚濁水浄化ラインに、浄化の対象となる汚濁原水に対して好適な浄化作用を有する有効微生物を予め検索（特定）又は作成して、培養し、これを吸着物質16に吸着させて保持する反応槽14，15と、上記汚濁原水を、該反応槽14，15中に散水噴射して流過させるための散水噴射装置18…と、を設けている。 - 特許庁

When an irradiation of plasma 28 is carried out to a wiring 19 of a printed-wiring substrate 17 to clean, a plasma concentrated processing is applied to the printed-wiring substrate 17 such that the plasma concentrate on the wiring 19 to be cleaned to generate the plasma 18 on an area fronting on the wiring 19, and the generated plasma 18 is irradiated on the wiring 19.例文帳に追加

プリント配線基板１７の配線１９にプラズマ１８を照射して洗浄するとき、洗浄すべき配線１９にプラズマを集中させるようにプリント配線基板１７にプラズマ集中処理を施し、配線１９に臨む領域でプラズマ１８を発生させ、発生させたプラズマ１８を配線１９に照射する。 - 特許庁

The agitating apparatus 40 for a surface treating appliance includes a rotatable body having at least one substantially continuous row of bristles extending outwardly from the body, and the bristles have a surface resistivity in the range from 1×10^-5 to 1×10^12 Ω/sq so that static electricity residing on a floor surface to be cleaned is discharged upon contact with the bristles.例文帳に追加

表面処理電気器具のための攪拌装置４０は、剛毛の少なくとも１つの実質的に連続な列が本体から外向きに延びた回転可能本体を含み、剛毛は、清掃される床面上に常駐する静電気が剛毛との接触時に放電されるように、１ｘ１０^-5から１ｘ１０^12Ω／ｓｑの範囲の表面抵抗率を有する。 - 特許庁

In order to stably remove metal impurities on a wafer with good reproducibility, hydrogen ion concentration (pH) which determines metals dissolved in a cleaning chemical liquid and oxidation/reduction potential(ORP) which determines oxidation of metal are independently controlled, so that the metal impurities on the water which is to be cleaned are dissolved before changing to a hard-to-dissolve metal oxide.例文帳に追加

ウエハー上の金属不純物を安定に再現性良く除去するために、洗浄用薬液における金属の溶解を決める水素イオン濃度（ｐＨ）と金属の酸化を決める酸化還元電位（ＯＲＰ）を独立に制御し、ウエハー上の洗浄対象となっている金属不純物を難溶性の金属酸化物に変化させないうちに溶解させる。 - 特許庁

To provide a non-iron metal cleaning fluid composition suitable for cleaning such a material to be cleaned which is required for the cleanness with a high degree, as for example a magnetic disc substrate, a super precise metallic mirror, a liquid crystalline display substrate, a semiconductor substrate and so on, and besides on which surface a non-iron metal such as aluminum, copper and an alloy of these metals exists.例文帳に追加

例えば磁気ディスク基板、超精密金属ミラー、液晶ディスプレイ基板、半導体基板等のように高度の清浄度が要求され、しかも、表面にアルミニウム、銅等の金属やこれらの金属の合金等の非鉄金属が存在する被洗浄物を洗浄するのに適した非鉄金属洗浄用洗浄液組成物を提供する。 - 特許庁