「Cleaned」に関連した英語例文の一覧と使い方(102ページ目) - Weblio英語例文検索

After the initial hot water supply operation, when an operation start switch is turned on (S10), the device executes a cleaning operation made up of a cleaning process (S11) in which dishes in the cleaning chamber are cleaned by cleaning water by driving a cleaning pump, and a rinsing process in which dishes after cleaning are rinsed by rinsing water by driving a rinsing pump (S16).例文帳に追加

初期給湯動作後、運転開始スイッチがオン操作されると（Ｓ１０）、洗浄ポンプを駆動して洗浄室内の食器を洗浄水により洗浄する洗浄工程（Ｓ１１）と、すすぎポンプを駆動して洗浄後の食器をすすぎ水によりすすぐすすぎ工程（Ｓ１６）とからなる洗浄運転を実行する。 - 特許庁

When peripheries of the pedals 132, 133, and 134 are cleaned, the pedal unit 130 is lifted against the gravitational force (as shown by an arrow Y) (b) and then rotated until the pedal unit abuts against a front stopper 150 having both ends fixed to the support plates 110R and 110L to store the pedals 132, 133, and 134 (c).例文帳に追加

一方、ペダル１３２，１３３，１３４周辺の清掃を行う場合には、ペダルユニット１３０を重力に逆らい上方（矢印Ｙ）へ持ち上げ（ｂ）、支持板１１０Ｒ，１１０Ｌに両端が固定された前部ストッパ１５０に当接する位置まで回転移動させることにより、ペダル１３２，１３３，１３４を収納する（ｃ）。 - 特許庁

Moreover, this is equipped with a pressure detection means which detects the pressure at inlet of the exhaust gas, an exhaust means which sucks out cleaned air from the exhaust gas outlet, and a control means, and the control means controls the exhaust means, based on the pressure detected with the pressure detection means thereby lessening the influence on the quality of a product.例文帳に追加

また、排ガスの流入口の圧力を検出する圧力検出手段と、排ガスの流出口から浄化ガスを吸い出す排気手段と、制御手段とを備え、制御手段は圧力検出手段で検出した圧力に基づいて排気手段を制御することで、製品品質への影響をより小さくする。 - 特許庁

In the cleaning method, prior to holding of another processing-target object immersed in an ozone cleaning solution within an ozone cleaning bath with use of a chuck member, alkaline components deposited on part of a transportation arm and on the chuck member are cleaned and remove to suppress the alkaline components to be mixed in the ozone cleaning solution.例文帳に追加

チャック部材で、予めオゾン洗浄槽内のオゾン洗浄液に浸漬していた他の被処理物を保持するに先立ち、搬送アームの一部およびチャック部材に付着したアルカリ成分を洗浄除去して、アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入するのを抑制することを特徴とする洗浄方法。 - 特許庁

The exhaust gas to be cleaned is passed through the catalyst comprising zeolite or a zeolite analogue containing 1-10 mass% copper using total mass of zeolite or the zeolite analogue as a reference and a cerium-zirconium mixed oxide and/or cerium oxide with ammonia and a compound decomposable to ammonia.例文帳に追加

浄化されるべき排ガスを、アンモニア又はアンモニアに分解可能な化合物と共に、ゼオライト又はゼオライト類似化合物の全質量を基準として、銅１〜１０質量％を含有するゼオライト又はゼオライト類似化合物、及び均質なセリウム−ジルコニウム混合酸化物及び／又は酸化セリウムを含んでなる触媒上を通過させる。 - 特許庁

Prior to performing electrodeposition coating of the material W to be coated in an electrodeposition main tank containing electrodeposition liquid, the material W is cleaned by giving electrodeposition liquid 1 for cleaning a predetermined flow rate V in an electrodeposition cleaning tank 2 containing the electrodeposition liquid 1 for cleaning including at least a part of the components of the electrodeposition liquid.例文帳に追加

電着液を収容する電着本槽にて被塗装物Ｗを電着塗装するのに先立って、上記電着液の成分の少なくとも一部を含む洗浄用電着液１を収容する電着洗槽２にて、洗浄用電着液１に所定の流速Ｖを与えて被塗装物を洗浄する。 - 特許庁

The manufacturing method of an oxide semiconductor thin film includes processes of: cleaning the surface of the oxide substrate by the cleaning method of the oxide substrate; and growing an oxide semiconductor crystal on the surface of the cleaned oxide substrate to obtain the oxide semiconductor thin film.例文帳に追加

この酸化物基板の清浄化方法によって酸化物基板の表面を清浄化する工程と、清浄化した酸化物基板の表面に酸化物半導体結晶を成長させて酸化物半導体薄膜を得る工程とを有することを特徴とする酸化物半導体薄膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductive belt which can be cleaned with a blade without inversion or squeaking to remove a toner remaining on a surface after transfer, and ensures little degradation of surface performance even by contact with a wet toner or an oil-component-containing toner, with respect to a semiconductive belt used as an intermediate transfer belt or the like in an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

電子写真装置に中間転写ベルト等として使用される半導電性ベルトに関し、転写後、表面に残留したトナーをブレードにより、反転や鳴きがなくクリーニングでき、湿式トナーや油性成分含有トナーに接触しても表面性能の変質が少ない半導電性ベルトを提供する。 - 特許庁

Each of a molding chamber, a sterilizing chamber, a filling chamber and a sealing chamber of the filling apparatus is cleaned by using a detergent selected from two or more kinds of detergents which is substantially free from silicic acid compounds.例文帳に追加

成形室、殺菌室、充填室、及び密封室を有する充填装置を洗浄する方法であって、各室を二以上の複数種類の洗剤より選択された洗剤によって洗浄し、かつ前記二以上の複数種類の洗剤が実質的に珪酸化合物を含有しない洗剤であることを特徴とする。 - 特許庁

The cleaning bias roller as the means for cleaning the toner sticking to the metal member always comes in contact with the metal member, and an electric field is generated between the cleaning bias roller and the metal member by applying a bias whose polarity is opposite to that of the toner, then, the recovered toner on the metal member is electrostatically transferred and cleaned.例文帳に追加

また、前記金属部材に付着したトナーを清掃する手段として、金属部材にはクリーニングバイアスローラが常接しており、トナーと逆極性のバイアスを付与することでクリーニングバイアスローラと金属部材の間に電界を発生させ、前記金属部材上の回収トナーを静電的に転写し清掃している。 - 特許庁

After the substrate 90 held by the holding member 50 is cleaned, the holding member 50 is rotated by the rotating mechanism 53 to rotate the substrate 90 for starting a process of drying the substrate 90 while the separator 54 is arranged at a first position (shown in Fig.) by the lifting mechanism 56.例文帳に追加

保持部材５０に保持された基板９０に対して洗浄処理を行った後、昇降機構５６がセパレータ５４を第１位置（図２に示す位置）に配置した状態で、回転機構５３が保持部材５０を回転させることにより、基板９０を回転させ、基板９０の乾燥処理を開始する。 - 特許庁

The indium hydroxide-based powder production method is characterized in that an aqueous solution containing indium salt or indium salt-based metal salt is neutralized by using an alkaline aqueous solution to obtain a suspension, and the hydroxide in the obtained suspension is circularly cleaned by a continuous pressure cross flow filtration method while replacing the aqueous solution content in the obtained suspension with pure water.例文帳に追加

インジウム塩、または、インジウム塩を主成分とする金属塩が含まれる水溶液を、アルカリ水溶液で中和することによりサスペンションを得て、連続加圧クロスフロー濾過方式により、サスペンション中の水溶液分を純水と置換しつつ、サスペンション中の水酸化物を循環洗浄する。 - 特許庁

The robot 14 is capable of switching the cutter blade 43 to a cleaning member 63 and taking it and this cleaning member 63 is moved along with a preset orbit, so that a foreign substance or dust on or around the table 11 with the cutting is cleaned and can be prevented from being mixed between the semiconductor wafer W and the sheet S.例文帳に追加

ロボット１４は、カッター刃４３を清掃用部材６３に持ち替えでき、この清掃用部材６３を予め設定した軌跡に沿って移動させることで、前記切断等に伴うテーブル１１及びその周辺の異物や塵等を清掃して半導体ウエハＷとシートＳとの間への混入を防止する。 - 特許庁

By opening the packing valve 61, the cleaning fluid supply valve 101, and the cleaning fluid valve 45, the cleaning fluid from the valve 101 is introduced into the chamber 36 through the passage 43 and discharged from the feed tube 34 so that the coating adherent to these is cleaned.例文帳に追加

従って、充填弁６１、洗浄流体供給弁１０１、洗浄流体弁４５を開弁することにより、洗浄流体供給弁１０１からの洗浄流体は、洗浄流体通路４３を介して塗料収容室３６に流入し、フィードチューブ３４から排出され、これらに付着した塗料を洗浄する。 - 特許庁

An ultrasonic washing tank comprises an electrolytic tank 7 for electrolyzing water by adding a slight amount of an electrolytic substance 6 to the water and a washing tank 1 in which an ultrasonic vibrator 4 is installed and washing is carried out using optional ion water 9 suitable for objects to be washed and dirt to be cleaned selected between acidic water and alkaline water.例文帳に追加

超音波洗浄槽は、水に微量の電解質６を添加して電気分解する電解槽７と、超音波振動子４を設置した洗浄槽１を有し、電解槽７で生成した酸性及びアルカリイオン水のうち、被洗浄物及び汚れに適した任意のイオン水９で洗浄する。 - 特許庁

The cleaning system includes a cleaning vessel 1 for cleaning a material 30 to be cleaned with a persulfuric acid solution 2, an electrolytic reaction vessel 11 for generating persulfuric acid ions from sulfuric acid ions to regenerate the persulfuric acid solution 2, and circulation lines 4, 5 and 6 for circulating the persulfuric acid solution between the cleaning vessel 1 and the reaction vessel 11.例文帳に追加

過硫酸溶液２で被洗浄材３０を洗浄する洗浄槽１と、硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液２を再生する電解反応槽１１と、洗浄槽１と電解反応槽１１との間で過硫酸溶液を循環させる循環ライン４、５、６を備える。 - 特許庁

The liquid crystal display panel 10 is supported to an approximately perpendicular state by means of a supporting mechanism 20 and both surfaces of the panel 10 are simultaneously cleaned while the panel is supported to each other so as not to fall down by a pair of washing mechanisms 30 and 30 arranged to hold the panel 10 between the same in its thickness direction.例文帳に追加

液晶表示パネル１０を支持機構２０により略鉛直状態に支持するとともに、その液晶表示パネル１０をパネル厚さ方向に挟むように配置した１対の洗浄機構３０，３０により、該液晶表示パネル１０を倒れないように支え合いつつその両面を同時に洗浄するようにする。 - 特許庁

A metal simple substance or a compound of the metal simple substance is blended with a coal pitch or a petrol pitch and a blended result is carbonized, the metal simple substance or the compound of the metal simple substance is cleaned with a soluble solvent, and is alkali-activated to obtain the porous carbon material for a non-aqueous electric double layer capacitor.例文帳に追加

金属単体または該金属単体の化合物と石炭系ピッチまたは石油系ピッチを混合した後、炭化し、ついで金属単体または金属単体の化合物を溶解可能な溶剤で洗浄し、さらに、アルカリ賦活して非水系電気二重層キャパシタ用多孔質炭素材料を得る。 - 特許庁

An annular pressure gas ejection nozzle 15 is provided near the upper pole of the exhaust valve element 13 of the exhaust valve of a double damper located in the lower portion of the granule collecting device, and the exhaust valve element and the interior wall of the exhaust port are cleaned by compressed gas ejected from the ejection nozzle as the exhaust valve element closes.例文帳に追加

粉流体の捕集装置下部のダブルダンパーの排出弁の排出弁体１３の上部極近傍に、円環状の圧力気体噴出ノズル１５を設け、排出弁体の閉鎖動作に連動して該噴出ノズルからの圧縮気体により排出弁体及び排出口内壁を清掃する。 - 特許庁

The surface of the high polymer film 1 is cleaned by providing a process for pressing a non-woven fabric or cloth made cleaning tape 22 impregnated with a detergent against the surface of the high polymer film 1 and sweeping off the surface-deposited contamination on the high polymer film 1 and a process for drying the surface of the swept high polymer film 1.例文帳に追加

高分子フィルム１の表面に、洗浄剤を含浸させた不織布又は布製のクリーニングテープ２２を押付け、高分子フィルム１の表面付着異物を払拭する工程と、払拭した高分子フィルム１の表面を乾燥する工程とを有し、高分子フィルム１の表面を洗浄するもの。 - 特許庁

To provide a diesel fuel additive composition stably dispersible in a diesel fuel, effective for cleaning and removing a deposit originated from polymeric materials, a water-soluble deposit and a water-insoluble deposit at the same time and free from adverse influence on the cleaned object, and to provide a cleaning method using the composition.例文帳に追加

ディーゼル燃料中に安定的に分散し、ポリマー系物質由来の付着物、水溶性の付着物、及び非水溶性の付着物を同時に洗浄除去することができ、かつ、被洗浄物に悪影響を与えることのないディーゼル燃料添加剤組成物、及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Since a slit St does not exist at an upper part of the first reflecting mirror 52 and the width of an opening 74 between a front end part 71b on the movable scanning frame 71 and a partition wall 79 is sufficiently wide in this state, the first reflecting mirror 52 arranged inside the opening 74 can be easily cleaned.例文帳に追加

この状態では、第１反射ミラー５２の上方にスリットＳｔが存在せず、また移動走査フレーム７１上の前端部７１ｂと隔壁部７９間の開口部７４の幅が十分に広いことから、この開口部７４の内側に配置された第１反射ミラー５２を容易に清掃することができる。 - 特許庁

The undersurfaces of the spiral impeller 3 and the supporting shaft 32 are cleaned efficiently with a small amount of cleaning liquid S in a short time by jetting the cleaning liquid S from nozzles 7 arranged under the spiral impeller 3 while rotating the spiral impeller 3 of the inverted cone apparatus D with the spiral impeller for treating.例文帳に追加

逆円錐型螺旋翼処理装置Ｄの螺旋翼３を回転しながら、且つ、螺旋翼３の下方に配したノズル７から洗浄液Ｓを噴射することにより、螺旋翼３１の下面および支え軸３２の下面の洗浄を短時間に少量の洗浄液Ｓで効率的に洗浄が行える。 - 特許庁

This air supply device 10 for supplying air to the local clean environment in the clean room comprises the chemical filters 15a-15c for cleaning the air in the clean room and a blowing mechanism 14 for supplying the air after cleaned by the chemical filters 15a-15c to the local clean environment.例文帳に追加

クリーンルーム内のエアを清浄化するケミカルフィルタ１５ａ〜１５ｃと、これらケミカルフィルタ１５ａ〜１５ｃによる清浄化後のエアを局所的清浄環境に供給する送風機構１４とを備えて、クリーンルーム内の局所的清浄環境に対するエア供給を行うエア供給装置１０を構成する。 - 特許庁

The wheels are placed on the belt 31 to be cleaned in a state where a person gets on the wheelchair, and when operating a starting switch 21, the shutter 37 is opened, the cleaning brush moves to a cleaning position, the motor rollers rotate, the wheels on the belt 31 rotate, and the cleaning brush rotates to clean the wheels.例文帳に追加

車椅子に人が乗った状態で清掃する車輪をベルト３１上に載せ、開始スイッチ２１を操作すると、シャッタ３７が開放して清掃用ブラシが清掃位置に移動し、モータローラが回転してベルト３１上の車輪が回転すると共に清掃用ブラシが回転し、車輪が清掃される。 - 特許庁

The cleaning apparatus 18 equipped with the brush roller 12 for cleaning an electrifying roller 2 which is the member to be cleaned by abutting on the surface of the roller is so constituted that the brush roller 12 is formed to a polygonal shape in section and that the brush roller 12 is freely rotatable about its axis and is rotated in accordance with the rotation of the electrifying roller 2.例文帳に追加

被清掃体である帯電ローラ２の表面に当接して清掃を行うブラシローラ１２を備えたクリーニング装置１８において、ブラシローラ１２の断面形状が多角形になるように構成し、ブラシローラ１２は軸回りに回転自在であり且つ帯電ローラ２に連れ回りして回転するようにした。 - 特許庁

The method for cleaning the aligner which is brought into contact with the reticle comprises the steps of providing a material, having a cleaning layer which has a tensile elastic modulus (in compliance with the testing method of JIS K7127) of 0.98 to 4,900 MPa, and conveying the material in the aligner to be cleaned.例文帳に追加

レチクルまたはレチクル状物のこれらが被洗浄装置と接する部位に、引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が０．９８〜４９００ＭＰａであるクリーニング層が設けられた材料を設け、被洗浄装置内を搬送することを特徴とするレチクルが接する装置のクリーニング方法である。 - 特許庁

Cutting chips, fixed when a part of machining liquid is filtered through a number of fine holes drilled in a cylindrical thin plate of the filter, are washed away by the rest of machining liquid spirally flowing on the cylindrical outer circumferential surface of the filter and are discharged from the cleaning machining liquid outlet, so that the filter is automatically cleaned.例文帳に追加

加工液の一部がフィルターの円筒状薄板に多数穿設された微細穴により濾過されるときに付着した切粉が、フィルターの円筒外周面を螺旋状に流れる残りの加工液によって洗い流され、洗浄加工液送出口から排出されるので、フィルターが自動的に洗浄される。 - 特許庁

The substrate center Wc which is slow in moving speed relative to a nozzle 5 is cleaned by reciprocating the nozzle 5 between the boundary position Ka and the rotational center Pa of the substrate W in a state wherein the processing liquid is discharged out from the externally mixed-type nozzle 5 which causes little damage to the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。 - 特許庁

The cleaning method for a photomask-related substrate includes a deaerating step of preliminarily subjecting pure water to be used for the cleaning to a deaeration to remove dissolved gas, when a photomask-related substrate contaminated by a sulfate ion is cleaned with pure water, the photomask-related substrate being selected from a substrate for a photomask, a photomask blank, a photomask and a production intermediate thereof.例文帳に追加

硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 - 特許庁

In removing the scale generated in a process of generating steam in the pot 41, the cover 102 for cleaning is demounted from a heating chamber side, the nonwoven fabric 114 on which the scale is attached is taken out and cleaned, then the nonwoven fabric 114 after cleaning is placed back in the pot 41, and the cover 102 for cleaning is mounted.例文帳に追加

そして、ポット４１内で蒸気が発生する過程で発生するスケールを除去する際には、加熱室側から掃除用蓋１０２を取り外し、スケールが付着した不織布１１４を取り出して洗浄し、洗浄後の不織布１１４をポット４１内に戻した後に、掃除用蓋１０２を取り付ける。 - 特許庁

After removing organic substances such as a photoresist film or metallic particles by cleaning the surface of a semiconductor wafer using a sulfuric acid solution containing persulfuric acid produced with a persulfuric acid producing device without performing SPM cleaning, APM cleaning or HPM cleaning, the semiconductor wafer is cleaned with pure water and dried.例文帳に追加

ＳＰＭ洗浄、ＡＰＭ洗浄およびＨＰＭ洗浄を行わず、過硫酸生成装置を用いて生成された過硫酸を含む硫酸溶液を用いて半導体ウエハの表面を洗浄し、フォトレジスト膜などの有機物または金属粒子などを除去した後に、半導体ウエハを純水洗浄し、乾燥させる。 - 特許庁

During cleaning by the cleaning robot 10, the area A requiring no cleaning is determined based on the photodetection of a predetermined illuminance or higher by a previously arranged existing floodlight by a photodetection sensor arranged in the cleaning robot 10, the travel route is changed to an adjacent cleaning area, traveled, and cleaned.例文帳に追加

清掃ロボット１０による清掃途中において、清掃ロボット１０に配設した光検出センサにより予め配設された既存の照明灯による所定照度以上の光検出に基づいて清掃不要エリアＡを判断し、隣接する清掃エリアにおける走行経路に変更して走行して清掃する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device having an element isolation structure of a shallow trench isolation system, after a trench 14 is formed on a surface of a silicon substrate 11; an inner surface 14a of the trench 14 is cleaned to remove a pollutant, and next a defective layer 15 of the inner surface 14a of the trench 14 is removed.例文帳に追加

シャロートレンチアイソレーション方式の素子分離構造を有する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板１１の表面に溝１４を形成した後に、溝１４の内表面１４ａを洗浄して汚染物を除去し、次いで、溝１４の内表面１４ａの欠陥層１５を除去する。 - 特許庁

In an ultrasonic cleaning device 25 wherein the support (wafer boat 48) for supporting the material (wafer 2) to be cleaned is arranged inside a cleaning tub 41 containing an ultrasonic oscillation means 42, cover bodies 64 and 65 for attenuating the ultrasonic wave are installed to cover the support (wafer boat 48).例文帳に追加

本発明では、超音波発振手段（４２）を有する洗浄槽（４１）の内部に被洗浄体（ウエハ２）を支持するための被洗浄体支持具（ウエハボート48）を配設した超音波洗浄装置（２５）において、超音波を減衰させるカバー体（６４，６５）を前記被洗浄体支持具（ウエハボート48）に覆設することにした。 - 特許庁

To provide a clean room wherein bacteria and mold can be prevented from adhering to walls, a floor, and a ceiling in a room, and hence cleanliness in the room can be prevented from being deteriorated, and further the room is cleaned again in a short time up to a specified level after reopening an operation without the need of a routine cleaning work.例文帳に追加

室内の壁、床、天井等に菌やカビが付着するのを防止することができ、したがって、室内の清浄度の低下を防止することができ、しかも、定期的に清掃作業を行う必要がなく、運転再開後、室内の清浄度を短時間で規定のレベルまで復帰させることができるクリーンルームを提供する。 - 特許庁

The cleaning device includes: the brush roller (cleaning roller) as a cleaning means that comes into contact with the charging roller for charging the image carrier and cleans the surface of the charging roller; and a porous roller (collecting roller) as a collecting means that comes into contact with the brush roller and collects the matter cleaned and removed from the charging roller.例文帳に追加

像担持体を帯電する帯電ローラに当接して前記帯電ローラの表面を清掃する清掃手段であるブラシローラ（清掃ローラ）と、そのブラシローラに当接し、帯電ローラから清掃除去した物質を回収する回収手段である多孔質ローラ（回収ローラ）とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

In addition, a discharge port 14H formed in a bottom part of the cooling air duct 14 is opened/closed by a lid plate 26, and when a radiator 23 or the like is cleaned, the removed dust is directly discharged outside from the discharge port 14H by detaching the lid plate 26.例文帳に追加

一方、冷却風ダクト１４の底部に設けられた排出口１４Ｈを蓋板２６によって開閉する構成としているから、ラジエータ２３等を清掃する場合には、蓋板２６を取外すことにより、除去した塵埃を排出口１４Ｈから直接的に外部に排出することができる。 - 特許庁

The ballast surface is washed and cleaned with a shot-blast effect by injecting a high-pressure water jet, in which a water-soluble detergent or a remover is mixed, slewing or reciprocating and rotating at least one blast nozzle downwards projected from a chassis for the washing car by a radius in a fixed size.例文帳に追加

洗浄車両のシャシーから下向きに突き出させた少なくとも１個のブラストノズルを所定大きさの半径で旋回又は往復回転させつつ水溶性の洗浄剤又は剥離剤を混入させた高圧水ジェットを噴射させて道床面をショットブラスト効果を伴って洗浄、清掃する。 - 特許庁

To provide a drinking water dispenser which cleans, with a simple structure, unwanted bacteria having a possibility of going inside tube, without providing any special parts, when changing a vessel enclosing drinking water, and which does not waste pay drinking water by admitting cleaned drinking water into a hot-water tank without discharging.例文帳に追加

飲料水を封入した容器の交換時、配管内に入る可能性のある雑菌を特別な部品を設けることなく簡単な構成で洗浄するとともに、洗浄した飲料水は排水せずに湯タンクに入れるようにして有料の飲料水を無駄にすることのない飲料水ディスペンサを提供する。 - 特許庁

To provide a washing nozzle for a warm water ejected from the nozzle to wash the private parts of a human body in which washing water does not eject even if the nozzle is protruded when the nozzle body is cleaned, to facilitate wiping cleaning for the nozzle body or the nozzle head.例文帳に追加

本発明は温水をノズルから噴出して人体の局部を洗浄する温水洗浄便座の洗浄用ノズルにおいて、ノズル本体を掃除するときにこれを進出させても洗浄水の吹き出しがないようにし、ノズル本体やノズルヘッドの拭き掃除が簡単に行えるようにするを技術的課題とする。 - 特許庁

In the method of regenerating a target material, (i) the surface of used alloy target material scrap is cleaned; (ii) the scrap is heated and melted in an inert atmosphere, and is thereafter cooled and solidified to obtain an alloy ingot; and (iii) the alloy ingot is pulverized, and the obtained alloy powder is sintered in an inert atmosphere.例文帳に追加

本発明のターゲット材の再生方法として、（ｉ）使用済みの合金ターゲット材スクラップの表面をクリーニングし、（ii）不活性雰囲気中で加熱溶融させた後、冷却凝固させて合金インゴットを得て、（iii）該合金インゴットを粉砕して得られた合金粉末を不活性雰囲気中で焼結させる。 - 特許庁

Since the imbalance adjustment body 9 is provided with the brushes 10, dust on a cleaned surface is scraped by the brushes 12 of the brush body 8 and the brushes 10 of the imbalance adjustment body 9, the counterweight is allowed to be disposed at any position circumferentially, and imbalance of the rotary brush 4 is reduced with good precision.例文帳に追加

そして、アンバランス調整体９にブラシ１０が設けられているため、ブラシ体８のブラシ１２とアンバランス調整体９のブラシ１０が掃除面の塵埃を掻き上げることが出来ると共に、周方向の任意の位置にカウンターウエイトを配することが可能となり、回転ブラシ４のアンバランスを精度よく低減することが出来る。 - 特許庁

To provide a washing water-filtering device in a food-washing apparatus, which has an improved filtration ability, enables the continuous operation of the food-washing apparatus without needing the stoppage of the operation of the whole food-washing apparatus, when a mesh filtration bag is exchanged or cleaned, and can improve a food-washing ability.例文帳に追加

濾過能力を向上させると共に、メッシュ濾過袋の交換や清掃に際し、食品洗浄装置全体の運転を停止させる必要がなく、食品洗浄装置の連続運転を可能にして、食品洗浄能力を向上させることができる食品洗浄装置における洗浄水濾過装置の提供。 - 特許庁

First, a cleaned crystal substrate 101 is heated at a specified temperature in a super high vacuum to invert the surface structure of the crystal substrate 101 to low-temperature phase of 7×7 structure from high-temperature phase of 1×1 structure, namely, to change separate state into bundled state of several steps (step 111).例文帳に追加

先ず、洗浄した結晶基板１０１に超高真空の中で所定の加熱処理を施し、結晶基板１０１の表面構造を高温相の１×１構造から低温相の７×７構造に転移させ、一本一本ばらばらの状態から数本のステップが束になった状態（ステップ１１１）へと変化させる。 - 特許庁