「Cleaned」に関連した英語例文の一覧と使い方(103ページ目) - Weblio英語例文検索

Similarly to a cleaning operation for a wafer which is ordinarily carried out, if the dummy wafer 10 is cleaned with a brush scrub cleaner 40, an impact is incurred on the scrub brushes 52, 52 by the unevenness 12 formed on the dummy wafer 10, and foreign substances adhering to the surfaces of the scrub brushes 52, 52 are brushed and removed.例文帳に追加

通常行なわれるウェーハへの洗浄動作と同様に、ブラシスクラブ洗浄装置４０にてダミーウェーハ１０に対して洗浄動作が行なわれると、ダミーウェーハ１０に形成された凹凸１２によって、スクラブブラシ５２，５２に衝撃が加えられ、スクラブブラシ５２，５２の表面に付着した異物が払い落とされて除去される。 - 特許庁

In the image forming apparatus, the replacement of a toner container and the cleaning of the electrifier are urged, when both are performed, shifting to a normal image forming operation is performed and when the electrifier is not normally cleaned, a display for urging the cleaning is made and the corona wire current or grid voltage of the electrifier is adjusted.例文帳に追加

画像形成装置において、トナーコンテナの交換と帯電器の清掃が促され、両方が行われると、通常の画像形成動作に移り、帯電器が正常に清掃されないと、清掃を促す表示がされるとともに、帯電器のコロナワイヤ電流またはグリッド電圧の調整が行なわれる。 - 特許庁

The highly cleaned ceramic has ≥98.5% relative density, ≤3% defective area on a mirror polished surface, ≤1.0 pieces/mm^2 particle transfer rate in the transfer to the silicon wafer, and ≤1×10^12 atom/cm^2 in total of transfer rate of each metal of Cr, Fe, Ni, and Cu.例文帳に追加

相対密度が９８．５％以上で鏡面研磨面の欠陥の面積が３％以下であり、さらに洗浄処理後のシリコンウエハ転写によるパーティクル転写量が１．０個／ｍｍ^２以下であり、かつ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕの金属転写量が合計で１×１０^１２ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下である高清浄セラミックス。 - 特許庁

The cleaning device includes a recording means 5 for recording information about an exposure history of the exposure apparatus and a generation means 8 for generating, on the basis of the information about the exposure history, information about the cumulative radiation quantity of the second light for each area within the range scheduled to be cleaned in each of the optical elements.例文帳に追加

洗浄装置は、露光装置の露光履歴に関する情報を記録する記録手段５と、該露光履歴に関する情報に基づいて、光学素子における洗浄予定範囲のうち領域ごとの第２の光の累積照射光量に関する情報を生成する生成手段８とを有する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a semiconductor manufacturing apparatus, wherein objects to be cleaned to which a silicon oxide has been stuck do not require removal from the semiconductor manufacturing apparatus, the amount of waste products is reduced as compared with that in the conventional cases and the amount of water to be used can be reduced, and to provide the semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

シリコン酸化物が付着した被洗浄対象物を半導体製造装置から取り外す必要が無く、従来よりも廃棄物の量が低減され、且つ用いる水の量を少なくすることができる半導体製造装置の洗浄方法、及び半導体製造装置を提供すること。 - 特許庁

The air fed from each sirocco fan 16 passes through the connecting duct 24, is fed to an upper surface space 25a of the HEPA filter 18, passes the HEPA filter 18 from the upper surface side to the lower surface side to be cleaned and delivered from a delivery port 14 in the bottom surface of a lower case 12.例文帳に追加

それぞれのシロッコファン１６から送り出された空気は、連結ダクト２４を通ってＨＥＰＡフィルター１８の上面側空間２５ａに供給され、ＨＥＰＡフィルター１８を上面側から下面側に通過して清浄化された後に下ケース１２の底面の吐き出し口１４から吐き出される。 - 特許庁

The method for regenerating the mold for forming optical glass on the formed surface of which a carbon-based film is formed includes: (a) a process for removing the carbon-based film by oxygen-plasma ashing, (b) a process for cleaning the formed surface by argon-plasma ashing, and (c) a process for newly forming a carbon-based film on the cleaned formed surface.例文帳に追加

成形面に炭素系膜が形成された光学ガラス成形用金型の再生方法であって、(a) 前記炭素系膜を酸素プラズマアッシングにより除去する工程と、(b) 前記成形面をアルゴンプラズマアッシングにより洗浄する工程と、(c) 洗浄された成形面に前記炭素系膜を新たに形成する工程を有する方法。 - 特許庁

To provide an in-line mixer which satisfies mixing performance when the viscosity of liquid which is the object to be stirred varies widely from a low viscosity to a high viscosity and even when the amount of liquid feeding varies from a low flow rate to a high flow rate, and enables the cleaning easily even after the liquid which is hardly to be cleaned is mixed.例文帳に追加

被攪拌物である液体の粘度が低粘度〜高粘度まで幅広く変化する場合、液体の送液量が低流量〜高流量まで幅広く変化する場合でも混合性を満足することができ、且つ洗浄性の悪い液体を混合した後でも容易に洗浄することができる。 - 特許庁

To provide a screen printing press so designed as to be cleaned fully automatically as to the solder paste getting around to the lower side of a screen, without wiping it off by the manual work of an operator, in regard to the screen printing press wherein the solder paste is printed on the surface of a circuit board through openings of the screen with a squeegee slid on the screen.例文帳に追加

スクリーン上をスキージを摺動させながらスクリーンの開口を通してクリーム半田を回路基板の表面に印刷するスクリーン印刷装置において、スクリーンの下面に回り込んだクリーム半田をオペレータが手作業によって拭うことなく完全自動化でクリーニングするようにしたスクリーン印刷装置を提供する。 - 特許庁

As pretreatment to plating, alkali ultrasonic cleaning treatment using an alkaline solution with the pH of ≥7.7 is performed to an R-T-B-based sintered magnet after acid cleaning, thus the surface of the R-T-B-based sintered magnet is cleaned, residual acid components are removed, and further, the activity in the surface is suppressed.例文帳に追加

めっきの前処理として、酸洗浄後に、ｐＨ７．７以上のアルカリ性溶液を用いたアルカリ超音波洗浄処理をＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石に施すことで、Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の表面を洗浄し、残存酸成分を除去するとともに、表面の活性度を抑える。 - 特許庁

By having a cleaning dummy head assembly disposed and clamped on a head clamp base, in place of a magnetic head assembly and bring a contact probe unit into contact with a cleaning part, e.g., a cleaning sheet, without having manual work with the contact terminal of the contact probe unit, the contact probe unit is cleaned by contact operation.例文帳に追加

この発明は、清掃用のダミーヘッドアッセンブリを設けて、磁気ヘッドアッセンブリに換えてヘッドクランプ台にクランプしてクリーニング部材、例えば、クリーニングシートにコンタクトプローブユニットを接触させることでコンタクトプローブユニットの接触端子を人手によることなく、コンダクト動作でコンタクトプローブユニットを清掃することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming two types of gate insulating film having different thicknesses, wherein if a chemical oxide film or a natural oxide film is sufficiently cleaned for removal prior to forming a second insulating film, this cleaning is caused to a decrease in a first insulating film or a surface roughness thereof locally, thereby causing a film quality degradation of the first insulating film.例文帳に追加

厚さの異なる２種類のゲート絶縁膜の形成方法において、第２絶縁膜の形成前にケミカル酸化膜や自然酸化膜を十分に除去する洗浄を行うと、第１絶縁膜の局所的な薄膜化や表面荒れが起こり、第１絶縁膜の膜質劣化が生じる。 - 特許庁

The power system for thermal decomposition and gasification of the sewage sludge A is provided with a dryer 1 for heating the sludge A to dry, a fluidized bed type thermal decomposition furnace 2 for thermally decomposing the sewage sludge B dried by the dryer 1 on the fluidized bed D to generate a thermal decomposition gas E, and a gas turbine generator 7 for generating power by the cleaned thermal decomposition gas E.例文帳に追加

下水汚泥Ａを加熱して乾燥する乾燥機１と、この乾燥機１により乾燥された下水汚泥Ｂを流動層Ｄにおいて熱分解して熱分解ガスＥを生成する流動層式熱分解炉２と、清浄化処理された熱分解ガスＥによって発電を行うガスタービン発電機７を備える。 - 特許庁

In the device, a cleaning means is separated and released when cleaning of the intermediate transfer body is finished during a repeated recording operation mode, turning action of the intermediate transfer body is controlled until the area to be cleaned reaches a next transfer image forming area and then shifting to a transferring process for a 1st color of a next image.例文帳に追加

リピート記録動作モード中に、中間転写体のクリーニングが終了した時点でクリーニング手段を離反解除させ、被クリーニング領域が次の転写画像形成領域に達するまで中間転写体の周回動作を制御して、次画像の１色目の転写工程に移行させるようにした。 - 特許庁

After dry etching is performed for patterning the tungsten film 20 and a barrier metal 18, the impurities adhering to the surface of the substrate 10 can be removed, while the etching of the tungsten film 20 and barrier metal 18 exposed on the surface of the substrate 20 is suppressed, when the substrate 10 is cleaned by dipping the substrate 10 in either one or both of liquid chemicals, HCl and NH4OH.例文帳に追加

タングステン膜およびバリアメタルをパターニングするドライエッチング後、ＨＣ１、ＮＨ_4ＯＨの一薬液または複数の薬液にシリコン基板を浸漬して洗浄することにより、シリコン基板の表面に露出したタングステン膜およびバリアメタルのエッチングを抑制しつつ、シリコン基板に付着した不純物を除去できる。 - 特許庁

Then the reversely flowing air including a portion of fume dust, after passing through the main filter 40, passes through the outlet port 19 of a screen tank 11 and a back washing filter 21, in sequence, and a portion of fume dust is separated by the back washing filter, then cleaned air is discharged into the atmosphere.例文帳に追加

ついで、主フィルタ４０を通過した逆流空気は、ヒューム粉塵の一部を巻き込んだままスクリーンタンク１１の放出口１９、逆洗用フィルタ２１を順に通過し、逆洗用フィルタによってヒューム粉塵の一部を分離させ、清浄とされた空気が大気に放出されるように構成した。 - 特許庁

The substrate cleaning apparatus has a holder 1 which holds a substrate 2 to be cleaned; and positioning mechanisms 4 and 21 which hold a cleaning brush 7, move it in a normal direction of the main surface of the substrate as well as in a direction parallel to the main surface of the substrate, and set a relative position of the cleaning brush with respect to the substrate.例文帳に追加

基板洗浄装置は、洗浄すべき基板２を保持するホルダ１と、洗浄ブラシ７を保持しこれを基板の主面の法線方向に移動させかつ基板の主面に平行な方向に移動させて基板に対する洗浄ブラシの相対的位置を定める位置決め機構４，２１を有している。 - 特許庁

To provide a western style toilet stool device allowing upward movement of a casing such as a low tank cover arranged on the rear part upper face of a western style toilet stool body for exposing the whole of the rear upper face of the western style toilet stool body so that the whole of the upper face of the western style toilet stool body can be cleaned thoroughly.例文帳に追加

洋風便器本体の後部上面に設置されたロータンクカバー等のケーシングを簡単に上方移動させることができ、これにより洋風便器本体の後部上面全体を露出させ、洋風便器本体の上面全体を入念に清掃することが可能な洋風便器装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for treating turbid water, in which turbid water having the quality beyond a predetermined permissible range is cleaned without requiring a worker to do inspection work or adjustment work even when such turbid water is generated at a construction site or the like, so that water of bad quality can surely be prevented from being discharged to the outside.例文帳に追加

工事現場等で発生する濁水を浄化処理する際に、所定の許容範囲外の水質の水が発生した場合であっても作業員による点検、調整を要することなく水を浄化処理し、水質の悪い水の外部への放流を確実に防止できる濁水処理装置を提供する。 - 特許庁

When an ink jet printer is set to a cleaning mode, a carriage 9 starts to move in an inward way in a direction of arrow E and an ejection face 2-1 of a recording head 2 is cleaned by a wiper blade 12 of a rubbing member 10 in a two-layer structure consisting of a wiping layer of the wiper blade 12 and a coating layer of a felt material 13.例文帳に追加

インクジェットプリンタがクリーニングモードに設定されるとキャリッジ９が矢印Ｅ方向へ往路の移動を開始し、ワイパーブレード１２の払拭層とフェルト材１３の塗布層とから成る二層構造の摺擦部材１０のワイパーブレード１２によって、印字ヘッド２の吐出面２−１がクリーニングされる。 - 特許庁

In the method of neutralizing and detoxifying solid sediment residing a bullet shell 1a of a chemical bullet 1, the sediment is cleaned and dissolved by organic solvent S, and then solution of the sediment produced by cleaning and dissolving is neutralized by alkaline solution A and oxidant O.例文帳に追加

化学弾１の弾殻１ａに残留した固体残渣を中和処理して無害化する方法において、先ず前記固体残渣を有機溶媒Ｓを用いて洗浄・溶解処理を行い、次いでこの洗浄・溶解処理により発生した固体残渣の溶解液をアルカリ溶液Ａ及び酸化剤Ｏにより中和処理を行う。 - 特許庁

When fluid pressure in the driving fluid pipe 14 reaches set pressure or lower due to the clogging of the foreign matter filtering part 10 of the strainer 3 with the foreign matter like dust, the fluid is fed to the suction path 2 from the foreign matter filtering part 10 by the automatic opening of the pressure sensing valve 4, and the foreign matter filtering part 10 is automatically cleaned.例文帳に追加

ストレーナ３の異物漉取部１０にゴミなどの異物が詰まって駆動流体管１４内の流体圧力が設定値以下になると、圧力感知弁４が自動的に開弁して異物漉取部１０から吸込通路２側へ流体を供給することによって、異物漉取部１０は自動的に清掃される。 - 特許庁

To provide an electronic device cleaning method and electronic device cleaning system wherein, in a process for stripping and removing residues by etching, the residues floating on performing a foreign matter removing liquid discharge step is prevented from being stuck on the inner wall surface of a treating tank to have no effect on a material to be cleaned and treated in the next batch.例文帳に追加

本発明は、エッチングにより残渣物を剥離除去する工程で異物除去液排出ステップの実行時に浮遊している残渣物の処理槽の内壁面への付着を回避し、次バッチで処理する被洗浄物に影響を及ぼさないようにできる電子装置洗浄方法および電子装置洗浄システムを得る。 - 特許庁

To provide a cleaning device which achieves high removal performance while suppressing the wear of a plate-like elastic member and a surface moving member to be cleaned, and which can stably maintain a contact state of the surface moving member and the plate-like elastic member over time, and to provide an image forming apparatus and process cartridge equipped with the same.例文帳に追加

板状弾性部材とクリーニング対象である表面移動部材との摩耗を抑止しつつ高い除去性能が得られ、且つ、表面移動部材と板状弾性部材との当接状態を経時で安定して維持できるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic jointed body which is able to completely remove a cleaning liquid in a short time even when the cleaning liquid permeates into a fine gap formed between a ceramic substrate and a jointing member when the ceramic jointed body is cleaned with the cleaning solution of water, an organic solvent, or the like.例文帳に追加

セラミック接合体を、水や有機溶媒等の洗浄液で洗浄することで、セラミック基板と接合部材との間に形成される微小なすき間内に上記洗浄液が浸入した場合であっても、短時間で完全に上記洗浄液を除去することができるセラミック接合体を提供する。 - 特許庁

The desired quantity (desired thickness) of Ruthenium is carried on a catalyst carrier as a ruthenium oxide by repeating processes that the surface of the ceramics-made catalyst carrier is cleaned and a solution of a ruthenium salt is applied thereon and heated to be decomposed in an air atmosphere prescribed times.例文帳に追加

セラミックス製の触媒担体の表面を洗浄した後、ルテニウム塩の溶液を塗布し、空気雰囲気中での熱分解により酸化ルテニウムとして触媒担体に表面に担持させることを所要回数繰り返すことで、所望量（厚さ）のルテニウムを酸化ルテニウムとして触媒担体の表面に担持させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus wherein surplus recovered toner is appropriately prevented from dropping down with the gravity of the toner, as to the recovery of the surplus toner from each substance to be cleaned in an image forming device using liquid toner or dry toner, and also, wherein image quality is maintained.例文帳に追加

液体トナーまたは乾式タイプのドライトナーを用いる画像形成装置が構成する各クリーニング対象体における余剰トナーの回収において、回収する余剰トナーがトナーの重力による下方向への落下を好適に防止するとともに、画質を保持することを実現する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spray type cleaning device and a spray type cleaning method capable of effectively preventing the rampage of planar bodies to be cleaned in the case sprayed cleaning solutions are struck against the planar bodies and capable of preventing the generation of the defects in the appearance such as flaws and dents of the planar bodies at the time of spray type cleaning.例文帳に追加

噴射された洗浄液が被洗浄板状体に当たった際の板状体の暴れを効果的に防止できて、スプレー式洗浄の際の板状体の傷、窪み等の外観不良発生を防止することのできるスプレー式洗浄装置及びスプレー式洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary cleaning device for efficiently carrying out an operation by considering that when a diffusion washer is cleaned in periodic inspection, an operator riding on a screen plate holds a cleaning nozzle, sprays cleaning water on the screen plate, however, the operator has an operation in an unstable state by reaction force by cleaning water spray.例文帳に追加

ディフュージョンウォッシャーを定期点検時に洗浄する場合、スクリーンプレートに乗った作業員が洗浄用ノズルを保持して、洗浄水をスクリーンプレートに吹き付けて行うが、洗浄水の噴射による反力により不安定な状態での作業となることに鑑みて、効率よく作業を行える洗浄補助装置を提供する。 - 特許庁

Further, a printed circuit board 500 is held by the carrier 600 between the process 401 and the process 403, and the carrier 600 is cleaned and is heated in the condition, i.e. with the board 500 held by the carrier 600.例文帳に追加

そして、このフラックス塗布工程４０１とはんだ付け工程４０３の間においては、プリント配線板５００がキャリア６００に保持されており、この状態すなわちキャリア６００にプリント配線板５００を保持した状態において、当該キャリア６００の洗浄そして当該キャリア６００を対象にした加熱を行う構成である。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a denitrification catalyst which is composed of a metallic net-like material and a denitrification catalyst component, used for denitrifying flue gas and regenerated so that the SO_2 oxidizing rate of the regenerated denitrification catalyst can be made equal to or lower than that of the denitrification catalyst before cleaned at least by preventing the increase in the SO_2 oxidizing rate.例文帳に追加

金属網状物と脱硝触媒成分とからなる使用済排煙脱硝触媒を再生する際に再生触媒のＳＯ_2 酸化率が上昇するのを防ぎ、少なくとも洗浄前と同等か、それ以下のＳＯ_2 酸化率にすることができる脱硝触媒の再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining distribution of adhesive force generated between a powder on a predetermined member and the predetermined member, a method for determining powder removing characteristic, an image carrier provided on an image forming apparatus, a blade for removing powder from a cleaned object, a cleaning device and an image forming apparatus.例文帳に追加

所定の部材上における粉体と上記所定の部材との間で生じる付着力の分布を判断する付着力分布判断方法、粉体除去特性判断方法、画像形成装置に設けられる像担持体、被清掃体から粉体を除去するブレード、クリーニング装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The air intake device 10 of an internal combustion engine 1 injects fuel by an injector 11 while sucking air to feed fuel/air mixture to an air intake port 5 while forming an air circulation channel 31 from a cleaned air chamber 23 of the air cleaner case 20 into the inside of a throttle body 12 having a throttle valve 19 through a funnel 30.例文帳に追加

エアクリーナケース２０の清浄空気室２３から、スロットルバルブ１９を備えたスロットルボディ１２内へファンネル３０を介して空気流通路３１を形成しながら空気を吸い込みつつインジェクタ１１にて燃料を噴霧して燃料混合気を吸気ポート５に送り込む内燃機関１の吸気装置１０である。 - 特許庁

To stably operate and obtain high cleaning performance without causing generation of sparks or the like even when an electric discharge inhibitory substance, such as moisture, exists in an exhaust gas while securing discharge electric power with which gaseous contaminants in the exhaust gas can be sufficiently cleaned in an ultra-short pulse high voltage applying-type gas cleaning apparatus.例文帳に追加

極短パルス高電圧加電式ガス浄化装置の排ガス中に印加するパルス電圧を、その排ガス中の性状によって、その浄化装置内に発生するスパークなどの電極間短絡を防止し、ガス状汚染物質をコロナ放電で処理するに充分な放電電力が注入できるようにする。 - 特許庁

Bubbles 13 generated from a nozzle 11 provided on the bottom in a degreasing liquid tank 10 filled with a degreasing liquid 8 are applied to a frame F dipped into the tank 10, so that oil stuck to the downward face 1b of a side member 1 and an inside face 1d in contact with the downward face 1b is cleaned.例文帳に追加

脱脂液８が満たされた脱脂液槽１０内に浸漬したフレームＦに対して、脱脂液槽１０内の底部に設けたバブル発生ノズル１１より発生させたバブル１３を当てて、サイドメンバ１の下向面１ｂ及び下向面１ｂに接する内側面１ｄに付着する油分を洗浄する。 - 特許庁

The water filling quantity of the wash water 92 at partial load time is increased more than a conventional quantity in the geothermal steam turbine device 1, and since the wash water 92 of this increase quantity is used for eliminating dryness of the main steam 91, the main steam flowing passage can be cleaned by the wash water 92 even at partial load time.例文帳に追加

地熱蒸気タービン装置１では部分負荷時の洗浄水９２の注水量が従来よりも増大され、この増大分の洗浄水９２が主蒸気９１の乾き度の解消に用いられるので、部分負荷時であっても洗浄水９２による主蒸気通流路の洗浄を行うことができる。 - 特許庁

To provide a bristle material for an industrial brush, which is capable of uniformly removing dirt and foreign objects stuck to a cleaned object compared with the conventional synthetic resin industrial brush bristle and preventing scratches from being formed on a base; and the industrial brush using the bristle material for the industrial brush for at least one part.例文帳に追加

従来の合成樹脂製の工業ブラシ用毛材に比べて洗浄対象物上に付着した汚れや異物を満遍なく除去することが出来るとともに、基盤上にすり傷等を付けることがない工業ブラシ用毛材およびこの工業ブラシ用毛材を少なくとも一部に使用した工業ブラシの提供。 - 特許庁

In addition, at this time since the deodorizing cartridge 153 is exposed, a person intending to clean the rear upper face of the Western style toilet bowl 110 notices the existence of the deodorizing cartridge 153, furthermore, notices adhesion of dust on the deodorizing cartridge 153, the deodorizing cartridge 153 is taken out to be cleaned.例文帳に追加

また、このときに脱臭カートリッジ１５３が露出するので、洋風便器１１０の後部上面を清掃しようとした人が脱臭カートリッジ１５３の存在に気付き、さらに、脱臭カートリッジ１５３に埃が付着しているとそれに気が付き、脱臭カートリッジ１５３を取り出して清掃するようになる。 - 特許庁

This method continuously prevents odor from being generated a narrow gap or the like of a toilet, bathroom, kitchen, lavatory or the like, which cannot be washed by water usually and got at when cleaned in the water section space, from evolving odor by spreading liquid detergent containing components to inhibit activity of enzymes for facilitating odorant generation through spraying or the like.例文帳に追加

水まわり空間における普段水洗できない、かつ、清掃時に手の届かない隙間などの部位に対して、臭気物質の生成を促す酵素の活性を阻害する成分を含有する液剤をスプレーなどの手法を用いて行き届かせることで、臭気の発生を継続的に防止する方法を提供する。 - 特許庁

To stably and excellently clean a surface of a belt by suppressing wear of a tip of a cleaning blade provided in a cleaning mechanism for cleaning the surface of the belt and turn-up of the blade as much as possible and appropriately controlling an adhesive amount of an object to be removed in an object to be cleaned by the cleaning blade.例文帳に追加

ベルトの表面をクリーニングするためのクリーニング機構に設けられたクリーニングブレードの先端部の摩耗やブレードめくれを可及的に抑制したり、クリーニングブレードによるクリーニング対象物における除去対象物の付着量を適切にコントロールしたりすることで、ベルトの表面のクリーニングを安定的かつ良好に行う。 - 特許庁

The microelectronic photoresist cleaning composition is suitable for cleaning the multi-metal microelectronic device, and the multi-metal microelectronic device is cleaned, without causing any substantial or significant electro-chemical corrosion to occur, when there is a subsequent rinsing step employing water.例文帳に追加

本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。 - 特許庁

The manufacturing method has a process of cleaning the chlorine waste plastics in a cleaning solvent, a process of heating and fusing the cleaned chlorine waste plastics at a temperature equal to or lower than 190°C, and a process of standing to cool the fused chlorine waste plastics, and solidifying the same into block-like, pellet-like or powder-like material.例文帳に追加

本製造方法は、洗浄液で塩素系廃プラスチックを洗浄する工程と、洗浄した塩素系廃プラスチックを１９０℃以下の温度で加熱、溶融する工程と、溶融した塩素系廃プラスチックを放冷し、ブロック状、ペレット状又はパウダー状に固形物化する工程とを備えている。 - 特許庁

This apparatus has a drive unit which rotates a winding shaft particularly for cleaning up a surface of a printer cylinder by means of the cleanup cloth transferred from a supply shaft to the winding shaft for the dirty cleanup cloth where the cloth is pressed against the surface to be cleaned up, through the instrumentality of a rubber rod.例文帳に追加

供給シャフトから汚れた清浄化布のための巻き取りシャフトへ移送されるようになっていてゴム棒の助けで清浄化されるべき表面に押し付けられる清浄化布により特に印刷機シリンダーの表面を清浄化するための、該巻き取りシャフトを回転させる駆動装置を有する装置。 - 特許庁

A square hole 5f for cleaning is bored on the base board 5 of the condensing unit at the disposing position of the condenser 7 whereby the oil contamination or the like of the condenser 7 can be cleaned simply by only extracting the base board 5 for condensing unit and arranging a water receiving pan 25 below the square hole 5f for cleaning to receive cleaning water.例文帳に追加

コンデンシングユニット用台板５には、凝縮器７の載置位置に洗浄用角孔５ｆを穿設したから、コンデンシングユニット用台板５を引出し、洗浄用角孔５ｆの下面に受水皿２５を配置して洗浄水を受けるようにするだけで、簡単に凝縮器７の油汚れ等を洗浄できる。 - 特許庁

A cleaning medium circuit having a loop at least partially closed is arranged at a tool 4 to be cleaned equipped with a rigid material on a cleaning medium purifying apparatus for a rigid material cutting device 2 and a sedimentation tank 8 and a cleaning medium pump 9 are arranged in series at a latter part of the tool 4 in a stream direction of a cleaning medium circuit.例文帳に追加

硬質材切削装置２のための洗浄媒体浄化装置に、硬質材を装備した洗浄すべき工具４に、少なくとも部分的に閉じたループの洗浄媒体回路を設け、洗浄媒体回路の流れの方向にみて工具４の後段に、沈殿槽８および洗浄媒体ポンプ９を順次に設ける。 - 特許庁