「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(91ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for treating microorganisms, by which conventional defects in microorganism-counting treatments, microorganism proliferation treatments or microorganism purification treatments can be solved.例文帳に追加

微生物数のカウント処理、微生物の増殖処理、微生物の純菌化処理における従来の欠点を解決することができる微生物の処理方法を提供する。 - 特許庁

In this device 20, at least one flow can be independently excluded toward an exclusion conveyor belt 90 having the flat elements 2 scanned as defects.例文帳に追加

本発明の装置（２０）は、欠陥品として走査された平坦要素（２）を有する排除コンベアベルト（９０）に向けて少なくとも１つの流れを別々に排除できる。 - 特許庁

To provide a rider support system for motorcycles and to enable the system to improve safety of motorcycle driving markedly by avoiding defects.例文帳に追加

自動二輪車用の運転者支援システムを提供することでありこのシステムは前記の欠点を回避し、二輪走行の安全性を格段に向上することができるようにする。 - 特許庁

To provide a polyester fiber free from the fatal defects of polyester fiber comprising low resiliency and low recovery under repeated compression and provide a cloth produced by using the fiber.例文帳に追加

ポリエステル繊維の宿命的な課題である低反発性、繰り返し圧縮に対する低回復性を改良したポリエステル繊維およびそれを用いた布帛を提供する。 - 特許庁

Such a structure as crystal defects formed at both tips in the longitudinal direction of the trench 2a are removed is thereby brought about when the trench 2a is filled with a p-type region 3.例文帳に追加

これにより、トレンチ２ａ内をｐ型領域３で埋め込む際にトレンチ２ａの長手方向の両先端部に形成される結晶欠陥が除去された状態となる。 - 特許庁

When the control section eliminates sampled pixels with a greater residual difference by calculating a regression straight line (SB6-SB8), they are sampled as those corresponding to defects (SB9).例文帳に追加

制御部は、回帰直線を求めて残差が大きい抽出画素を除去すると（ＳＢ６〜ＳＢ８）、これらを欠陥に相当する画素として抽出する（ＳＢ９）。 - 特許庁

The clear specimen current image can be obtained without including a difference in amplification rate between inputs, and thus measurement efficiency in analyzing defects of semiconductor specimens is improved.例文帳に追加

本発明により、入力間の増幅率の差を含むことなく鮮明な吸収電流像を取得でき、半導体試料の不良解析の測定効率を向上できる。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material free of the lowering of the film strength of an undercoat layer, free of defects such as coating streaks and cissing and having a good photosensitive layer.例文帳に追加

下塗り層の膜強度低下、さらには塗布スジやハジキ等の欠陥が防止され、良好な感光性層が形成された熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for evaluating eddy-current flaw detecting signals and capable of improving accuracy in evaluating the depth of defects to be detected by eddy-current flaw detection.例文帳に追加

渦流探傷により検出する欠陥深さの評価精度を向上させることができる渦流探傷信号の評価方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cerium-based abrasive material having large grinding rate and causing few polishing defects whether F, La and Nd are contained or not, if CeO_2/TREO is ≥40 mass%.例文帳に追加

ＣｅＯ_２／ＴＲＥＯ≧４０質量％であれば、Ｆ、Ｌａ、Ｎｄ含有の有無にかかわらず、研摩速度が大きく、研摩傷が少ないセリウム系研摩材を提供する。 - 特許庁

To manufacture plasma-sprayed alumina layers which are minimum in the number of defects in the layers such as cracks and holes, and high in wear resistance.例文帳に追加

プラズマ溶射された酸化アルミニウム層であって、その層内の欠陥、例えば亀裂及び穿孔の数が最少化されており、高い耐摩耗性を有する層を製造する。 - 特許庁

To suppress weld defects such as blow hole caused by the gasification of a coating material between coated steel plates at the welding time without needing troublesome and difficult gap control.例文帳に追加

面倒かつ困難な隙間管理をすることなく、溶接時に被覆鋼板間の被覆材料がガス化することに起因するブローホール等の溶接欠陥を抑制する。 - 特許庁

To provide a magnetic carrier and a two-component developer superior in developability and capable of forming high-quality images without image defects for a long period of time.例文帳に追加

現像性にすぐれ、画像欠陥のない高品質な画像を長期にわたり得ることが可能な磁性キャリアおよび二成分系現像剤を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resin sealing apparatus for a wafer and a resin sealing method capable of performing resin sealing without defects or voids while warpage and deformation of a wafer are prevented.例文帳に追加

ウエハの反りや変形を防止して充填不良やボイドの発生のない樹脂封止が可能なウエハの樹脂封止装置及び樹脂封止方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of surface defects by avoiding dew condensation on a photosensitive layer without lowering the productivity of an electrophotographic photoreceptor and the safety on manufacturing operation.例文帳に追加

電子写真感光体の生産性、及び製造作業上の安全性を低下させることなく、感光層上での結露を回避して表面欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

Meanwhile, if the difference exceeds the threshold, the operator determines the inspection object 11 to be defective and analyses the cause of defects and feeds back the analysis result to a preceding step (the electrode formation step).例文帳に追加

一方、差分が閾値を超える場合、検査対象物１１は、不良品であると判定し、不良の原因を分析し、前工程（電極工程）にフィードバックする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric barrier discharging electrode capable of exerting an expected performance from a physical property of a dielectric material by restraining defects of a dielectric substance.例文帳に追加

誘電体の欠陥の発生を抑え、誘電体材料の物性から期待される性能を発揮し得る誘電体バリア放電電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To allow flaws of a transparent resin film or fine surface defects of a transparent resin film with a transparent resin layer laminated thereon to be efficiently detected on a one-side surface only.例文帳に追加

透明樹脂フィルムのキズ、あるいはその上に透明樹脂層が積層された透明樹脂フィルムの微細な表面欠陥を、片側表面のみ効率よく検出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which can reduce crystal defects, etc. occurring from an element isolation region, and also to provide a semiconductor device manufactured by the same.例文帳に追加

素子分離領域から発生する結晶欠陥等の発生を低減することができる半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a repair apparatus and a method, finding potentially existing defects such as short-circuiting of an organic EL device, so as to enable to repair easily.例文帳に追加

本発明の目的は、有機ＥＬ装置のショート、潜在的に存在する欠陥を発見し、容易にリペアすることができるリペア装置および方法を提供することにある。 - 特許庁

To obtain a skin care composition or a makeup composition for matting, smoothing and/or uniformizing the texture of the skin and/or hiding defects in undulations of the skin.例文帳に追加

皮膚の肌理をつや消し、滑らか及び／又は均一にするための、及び／又は皮膚の起伏の欠点を隠すための、スキンケア組成物又はメイクアップ組成物の提供。 - 特許庁

The memory cell block has plural memory cell strings in which memory cells are arranged in the one direction and a redundant memory cell string for relieving defects of these memory cell strings.例文帳に追加

メモリセルブロックは、メモリセルが一方向に配置された複数のメモリセル列およびこれ等メモリセル列の不良を救済するための冗長メモリセル列を有している。 - 特許庁

To obtain a semiconductor element which is manufacturable at a low cost and with high efficiency and which has a small number of lattice defects, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

低コストおよび高い製造効率で製造が可能でありかつ格子欠陥が低減された半導体素子およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a double-walled film microcapsule suitably usable for pressure and heat sensitive recording wherein a wax outer wall which has a uniform quality and is free from defects is formed.例文帳に追加

感圧感熱記録用に好適に使用できる二重壁膜化マイクロカプセルであって、均質で欠陥のないワックス外壁を形成した二重壁膜化マイクロカプセルを提供する。 - 特許庁

The defect position and the area which is subject to stress are compared with each other and the defects are classified into classes based on the form and the result of a photoelasticity stress measurement.例文帳に追加

欠陥の位置および応力を受けた領域の位置を互いに比較し、欠陥をその形状および光弾性応力測定の結果に基づいてクラスに分類する。 - 特許庁

To reduce weld defects such as a blow hole by making zinc vapor produced from the plated layer be easily released when the zinc-based plated steel sheets are overlapped and are subjected to laser welding.例文帳に追加

亜鉛系めっき鋼板を重ねレーザー溶接する際にめっき層から発生する亜鉛蒸気を抜け易くし、ブローホールなどの溶接欠陥を少なくする。 - 特許庁

To provide a data processor and a data processing method for carrying out the display of feature quantities wherein the classification of defects extracted by a visual inspection device is facilitated.例文帳に追加

外観検査装置で抽出された欠陥の分類が容易になるような特徴量の表示を行うデータ処理装置、およびデータ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which stably forms images of high image quality on various recording materials without causing transfer defects such as voids and unevenness of images.例文帳に追加

種々の記録材に対して中抜けや画像のムラ等の転写不良を発生せず、高画質の画像を安定して形成する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a weld zone free of welding defects and also superior in mechanical characteristics by controlling the relation between the irradiation position and the welding speed of a high energy beam.例文帳に追加

高エネルギービームの照射位置と溶接速度との関係をコントロールすることによって、溶接欠陥がなく、しかも、機械的性質に優れた溶接部を得ることができる。 - 特許庁

To provide a roll member effective in prevention of the occurrence of plating surface defects due to roll surface characteristic, particularly its surface film structure, and its advantageous production.例文帳に追加

ロール表面性状に起因するめっき表面欠陥の発生阻止のために有効なロール部材、とくにその表面皮膜構造とその有利な製造方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a crucible which can form a vapor-deposition film having satisfactorily uniform film thickness and few defects due to bumping; a vacuum deposition method; and a vacuum deposition apparatus.例文帳に追加

膜厚均一性が良好で、かつ、突沸に起因する欠陥等の少ない蒸着膜が成膜できるルツボ、真空蒸着方法、および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A user category designated by the user is temporarily sorted on the basis of the sub-category of low-order sorting with similarity in the features of images as a reference the images of respective defects.例文帳に追加

ユーザが指定するユーザカテゴリを、各々の欠陥の画像を、画像の特徴の類似性を基準として、いったん、その下位分類たるサブカテゴリに基づいた分類をおこなう。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing silicon carbide single crystals which can provide the silicon carbide single crystals being reduced in micro pipe defects compared with conventional ones.例文帳に追加

従来に比し、マイクロパイプ欠陥をより低減した炭化ケイ素単結晶を得ることができる炭化ケイ素単結晶の製造方法および製造装置を実現する。 - 特許庁

To provide a die head for obtaining a coating film free from coating defects caused by bubbles by quickly removing bubbles in a manifold, a coating device and a method of manufacturing an optical film.例文帳に追加

マニホールド内の気泡を速やかに除去し、気泡を原因とした塗布欠陥がない塗布膜を得るダイヘッド、塗布装置、光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

A thin-film electron source manufactured by this method has 1.5×1,018 or lower for the defects, of which the defect level of the electron acceleration layer is not larger than 1.5 eV.例文帳に追加

この方法で製造された画像表示装置の薄膜電子源は、その電子加速層の欠陥順位が１.５ｅＶ以下の欠陥を、１.５×１０１８個以下有する。 - 特許庁

To provide a device and a method for inspecting defects of a semiconductor capable of deciding an optimum process condition even if electrical evaluation is not performed.例文帳に追加

電気的評価を行わなくても、最適なプロセス条件を決定することができる半導体欠陥検査装置、および半導体欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture an SOI substrate achieveing high bonding strength between a single-crystal semiconductor layer and a support substrate by reducing adhesion defects between the single-crystal semiconductor layer and the support substrate.例文帳に追加

単結晶半導体層と支持基板との接着不良を低減し、単結晶半導体層と支持基板との接着強度の高いＳＯＩ基板を製造する。 - 特許庁

To overcome defects of conventional techniques by using an LPP/LCP polarizing film as a trim/retarder polarization correcting element (PCE) of a liquid crystal (LC) display panel.例文帳に追加

ＬＰＰ／ＬＣＰ偏光フィルムを液晶（ＬＣ）表示パネルのトリム・リターダ偏光補正素子（ＰＣＥ）として利用することにより従来技術の欠点を克服する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of reducing crystal defects in a diffusion layer and further reducing the chip size by reducing the dead area.例文帳に追加

拡散層の結晶欠陥を減少させることができ、さらにデッドエリアを減少させてチップサイズを小さくすることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Data in a part where patterns are joined, the part produced in the negative resist while drawing with electron beams, is deleted from the part where defects are detected by the above comparing inspection (process 104).例文帳に追加

この比較検査で得られた欠陥検出部から、電子線描画処理時に上記ネガレジストに生じた描画繋ぎ部分のデータを削除する（工程１０４）。 - 特許庁

As a result, splash of a process liquid can be prevented from adhering to a substrate W when pulling it up and drying it, and defects can be prevented from occurring in the substrate W.例文帳に追加

その結果、引き上げ乾燥時に基板Ｗに処理液の飛沫が付着するのを防止することができ、基板Ｗに欠陥が生じるのを防止できる。 - 特許庁

After forming the silicon nitride film/silicon oxide (nitride) film, radical oxygen is supplied in such a quantity as to be required for correcting defects through a gas supply port and then annealing is conducted at a low temperature.例文帳に追加

シリコン窒化膜／シリコン酸(窒)化膜を形成後、欠陥を修復するのに必要な量のラジカル酸素を炉内にガス導入口から導入し、アニールを低温で行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, easily decreasing a reverse direction leakage current by reducing defects in a semiconductor substrate during manufacturing processes.例文帳に追加

製造工程中に半導体基板に発生する欠陥を低減し、逆方向リーク電流を小さくすることが容易な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In certain preferred embodiments, the process solution of the present invention may reduce defects when employed as a rinse solution either during or after the development of the CMP processing.例文帳に追加

いくつかの好ましい実施態様においては、本発明のプロセス溶液は、CMP処理の間又はその後にすすぎ溶液として用いた場合、欠陥を低減することができる。 - 特許庁

Moreover, since the film formation is less apt to be held at positions other than on the substrate W, the situation where defects are introduced into the compound semiconductor film M is controlled significantly.例文帳に追加

その上、基板Ｗ上以外の場所での成膜が起こりにくくなっているため、化合物半導体膜Ｍへ欠陥が導入される事態も有意に抑制されている。 - 特許庁