「Deflector」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

A deflector comprises a pair of horizontal deflecting coils (3) and a pair of saddle-type vertical deflecting coils (4), connects a front bundle (29) positioned in the vertical coil (4) and screen side and a rear bundle (19) positioned in electron gun side, and provides with a side conductor harness (120) forming a main window in the middle area between the above two bundles.例文帳に追加

偏向装置は１対の水平偏向コイル（３）とサドル形の１対の垂直偏向コイル（４）とを含み、上記垂直偏向コイル（４）はスクリーン側に位置する前部の束（２９）と電子銃側に位置する後部の束（１９）、および上記２つの束を接続し、上記２つの束間の中間領域に主窓を形成する側部導体ハーネス（１２０）を具備している。 - 特許庁

This system is equipped with: at least one sensor for measuring the extent of substrate offset in the direction of deflection; a means for modifying the position data or feeding of the same to correspond to laterally moving scans; and a control unit for controlling read-out of the data for the deflector in dependence of the offset measured by the detector to compensate the offset.例文帳に追加

本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。 - 特許庁

The beam deflector is provided with a pair of magnetic poles, an insulating member installed on the magnetic pole, at least one pair of electrodes which are arranged on the insulating member and face each other interposing a space through which the ion beam passes, and constitute an asymmetrical einzel lens along the travel direction of the ion beam, and at least one power source which impresses voltage across the pair of electrodes.例文帳に追加

ビーム偏向器は一対の磁極と、磁極上に設けられた絶縁部材と、絶縁部材上に配置されイオンビームが通過する空間を挟んで相対向するとともに、イオンビームの進行方向に沿って非対称なアインツェルレンズを構成する少なくとも１つの電極組と、電極組に電圧を印加するための少なくとも１つの電源とを備えている。 - 特許庁

A lens holder 20 which positions a cylindrical lens 1 for linearly forming an image of the luminous flux from the light source on a light deflector, has an inclined surface 22a as a lens receiving surface which positions the cylindrical lens 1 freely rotatably with the axis of the cylinder as a center by being brought into contact with a portion of the incident curved surface 10 of the cylindrical lens 1, which does not contribute to imaging of the luminous flux.例文帳に追加

光源からの光束を光偏向器上で線状に結像するためのシリンドリカルレンズ１を位置決めするレンズホルダ２０は，シリンドリカルレンズ１の入射曲面１０の光束の結像に寄与しない部分と当接することによって，シリンドリカルレンズ１をその円柱の軸線を中心として回転自在に位置決めするレンズ受け面としての傾斜面２２ａを有する。 - 特許庁

The gun lens contains a deflector unit (110) which directs one emission peak of at least two emission peaks towards an opening area of the diaphragm, thereby selecting one emission peak from at least two emission patterns.例文帳に追加

装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 - 特許庁

To allow any exposure means to form an image with good quality by surely assuring the amplitude of a vibration mirror in an image forming apparatus having a plurality of the exposure means for forming latent images on a latent image carrier by deflecting a light beam emitted from a light source by a resonantly vibrating deflector and scanning the latent image carrier with the deflected light beam.例文帳に追加

共振振動する偏向器により光源から射出される光ビームを偏向させるとともに該偏向光ビームを潜像担持体に走査させて該潜像担持体上に潜像を形成する露光手段を複数個有する画像形成装置において、いずれの露光手段においても振動ミラーの振幅を確実に確保して良好な品質で画像を形成する。 - 特許庁

A rib for controlling an air flow 94A consecutively guiding the air flow generated by the rotation of the light deflector 62 together with an fθ lens 63 as shown by the arrow is provided near the lens 63, and a rib for controlling an air flow 94B consecutively guiding the air flow together with an fθ lens 64 as shown by the arrow is provided near the lens 64.例文帳に追加

ｆθレンズ６３の近傍には、光偏向器６２の回転によって生じる気流を矢印で示すようにｆθレンズ６３と共に連続的に案内する気流制御用リブ９４Ａが設けられ、ｆθレンズ６４の近傍には、気流を矢印で示すようにｆθレンズ６４と共に連続的に案内する気流制御用リブ９４Ｂが設けられている。 - 特許庁

To reduce relative differences of positional deviation for every light source by a deflector in the axial direction along the direction deflected by the plane tilt of a turnup mirror when a turnup point by the turnup mirror is in the optical path, and to reduce color slippage in the subscanning direction in the case of forming a full color image by using three light sources developing colors in each color of RGB in particular.例文帳に追加

光路中に折り返しミラーによる折り返し点がある場合に、この折り返しミラーの面倒れによって偏向される方向に沿う軸方向の偏向器での光源毎の位置ずれ量の相対差を軽減し、特に、例えば、ＲＧＢのそれぞれの色に発色する３個の光源を用いてフルカラー画像を形成する場合における、副走査方向の色ずれを軽減する。 - 特許庁

After scanning a desired region of a testpiece by a primary charged particle beam and colliding secondary charged particles secondarily generated from the region by irradiation of the primary charged particle beam with secondary electron conversion electrodes 33, secondary electrons generated by a first E×B deflector 31 fixed to the surface on the sample side of the secondary electron conversion electrodes 33 via an insulating material is taken in a detector 34.例文帳に追加

試料の所望領域を一次荷電粒子ビームで走査し、一次荷電粒子ビームの照射により領域から二次的に発生する二次荷電粒子を二次電子変換電極33に衝突させた後、二次電子変換電極33の上記試料側の面に絶縁物を介して固定した第１のE×B偏向器31により発生する二次電子を検出器34に取り込む。 - 特許庁

In the scanning type image forming device for scanning a photoreceptor by deflecting a luminous flux from a light source with an optical deflector and by converging light as a light spot on an optically conductive photoreceptor with a scanning lens 106 to be installed in the optical housing 101; the scanning lens 106 is fixed by securing a 0.2 mm or more thickness of an adhesive layer on a lens sticking base 103.例文帳に追加

光源からの光束を、光偏向器により偏向させオプティカルハウジング１０１に取り付けられる走査レンズ１０６により光導電性の感光体に光スポットとして集光し、感光体を走査する走査型の画像形成装置において、走査レンズ１０６を、レンズ接着台１０３上に接着層の厚みを０．２ｍｍ以上確保して固定した。 - 特許庁

A wash element 18 for washing one or more reusable fluid manipulators comprises: at least one nozzle for connection to a fluid pump to generate a fluid jet; and at least one deflector surface positioned to deflect the fluid jet toward a washing zone 33 for receiving at least a portion of a fluid manipulator 3.例文帳に追加

流体噴流を生成する流体ポンプに接続するための少なくとも１つのノズルと、流体マニピュレータ３の少なくとも一部が入る洗浄域３３に向かって流体噴流を偏向するよう位置付けられた少なくとも１つの偏向板表面を含む１または２以上の再利用可能な流体マニピュレータを洗浄するための洗浄要素１８とする。 - 特許庁

This displacement measuring instrument uses a light scanning device for launching a plurality of beams α and β different in incident angles to a deflector for changing the progressing direction of light, and is equipped with a screening means 12 for screening the other beam α(β) to prevent the beam from irradiating a measuring object 10 when one beam β(α) irradiates the object 10.例文帳に追加

光の進む方向を変える偏向器に対して入射角が異なる複数のビームα，βを出射する光走査装置を用いた変位測定装置であって、一つのビームβ（α）が測定対象物１０に照射されている時、他の前記ビームα（β）を測定対象物１０に照射させないように遮蔽する遮蔽手段１２を備える。 - 特許庁

In the device capable of scanning two different surfaces to be scanned with a light beam by the single deflector, first modulation start timing being the modulation start timing of the light beam emitted from a first light source and second modulation start timing being the modulation start timing of the light beam emitted from a second light source are controlled on the basis of the detection result of a single optical sensor.例文帳に追加

単一の偏向器で互いに異なる２つの被走査面に光ビームを走査可能な装置において、第１光源から射出される光ビームの変調開始タイミングである第１変調開始タイミングと、第２光源から射出される光ビームの変調開始タイミングである第２変調開始タイミングとを、単一の光センサの検知結果に基づいて制御する。 - 特許庁

Then, an advancing angle being the angle from Z direction of the ion beams 2 which have passed through each pair of the electrodes 32 is measured respectively near the downstream side of the electrostatic deflector 30, and DC voltage to be applied on each pair of the electrodes 32 which is required for correcting the advancing angle to a prescribed angle is respectively obtained, and that DC voltage is respectively applied on each pair of the electrodes 32.例文帳に追加

そして、静電偏向器３０の下流側近傍において、各電極対３２間を通過したイオンビーム２のＺ方向からの角度である進行角をそれぞれ測定し、その進行角を所定の角度に補正するのに必要な各電極対３２に印加する直流電圧をそれぞれ求め、その直流電圧を各電極対３２にそれぞれ印加する。 - 特許庁

To constitute an annealing furnace having an annealing base, a protective hood, a radial blower for circulating a protective gas in the protective hood, a heat exchanger for cooling the protective gas, and a deflector for selectively connecting a flow path led to the heat exchanger to the heat exchanger with the radial blower so as to attain advantageous cooling of the protective gas without exerting inconvenient effect to the structure of the annealing furnace.例文帳に追加

焼鈍台と保護フードと保護フード内で保護ガスを循環させるラジアルブロワと保護ガスを冷却するための熱交換器と熱交換器へ通じる流路を選択的にラジアルブロワに接続する変向装置とを有する焼鈍炉を焼鈍炉の構造に不都合な影響を及ぼすことなく、保護ガスの有利な冷却が得られるように構成すること。 - 特許庁

This thin film electro-optical deflector consists of a planar optical waveguide containing a thin ferroelectric oxide layer, a first electrode containing a conductive substrate and conductive epoxy, a second electrode connected to the planar optical waveguide, a support substrate, a clad layer adhered to the second electrode deposited on the support substrate, and a hole penetrating through the support substrate and the clad layer and connecting the second electrode to an external voltage source.例文帳に追加

薄膜電気光学偏向装置は、薄い強誘電性酸化物層を含むプレーナ光学導波路と、導電性基板及び導電性エポキシを含む第１の電極と、プレーナ光導波路に連結された第２の電極と、サポート基板と、サポート基板に堆積させられた第２の電極に付着されたクラッド層と、サポート基板及びクラッド層を通過し、第２の電極を外部電圧源へ接続する孔と、を有する。 - 特許庁

A pulse light oscillator 10 includes: a continuous oscillating laser light source 1 for continuously emitting laser light; and an electro-optical beam deflector 2 which is arranged on a light path of the laser light emitted from the continuous oscillating laser light source 1, and which deflects a propagation direction of the laser light incident according to an applied driving voltage by electro-optical effect.例文帳に追加

本発明によって、レーザー光を連続出射する連続発振レーザー光源１と、前記連続発振レーザー光源１から出射されたレーザー光の光路上に配置され、印加される駆動電圧に基づいて入射されたレーザー光の伝播方向を電気光学効果により偏向する電気光学ビーム偏向器２と、を備えることを特徴とするパルス光発振器１０が提供される。 - 特許庁

Based on a first analyzing image formed with measurement light that is reflected in a retroreflective manner from the first test surface 71 back to the interferometer 30 via the reflection deflector 10B and on a second analyzing image formed with measurement light that is reflected in a retroreflective manner from the second test surface 72 back to the interferometer 30, a relative tilt of the first test surface 71 and the second test surface 72 is analyzed.例文帳に追加

第１被検面７１から再帰反射され、反射偏向素子１０Ｂを介して干渉計３０に戻る測定光により形成される第１解析用画像と、第２被検面７１から再帰反射されて干渉計３０に戻る測定光により形成される第２解析用画像とに基づき、第１被検面７１および第２被検面７２の相対的な傾きが解析される。 - 特許庁

The system has a print head device 102 having a plurality of ink jet nozzles, a drying station 104 located downstream of the print head device 102 and configured so as to generate and emit air in the vicinity of a printing medium, a deflector 402 attached between the print head device and the drying station and configured so as to deflect a certain quantity of air generated by the drying station.例文帳に追加

本発明のシステムは、複数のインク噴出ノズルを有するプリントヘッド装置１０２と、該プリントヘッド装置１０２の下流にあり、プリント媒体の近傍で空気を生成して放出するように構成された乾燥ステーション１０４と、前記プリントヘッド装置と前記乾燥ステーションとの間に取付けられ、前記乾燥ステーションが生成する空気のうちのある量をそらすよう構成されているデフレクタ４０２とを備えている。 - 特許庁

The collimate optical system 14 and the focusing lens optical system 18 have distortion of ftanθ characteristics and, in order to eliminate distortion of the image due to distortion, the image formed by the DMD 12 is corrected in the direction orthogonal to the deflecting direction depending on the ftanθ characteristics for each pixel array in in the direction orthogonal to the deflecting direction of the light deflector 16.例文帳に追加

その際、コリメートレンズ光学系１４とフォーカシングレンズ光学系１８の歪曲収差の特性をｆ・ｔａｎθ特性とするとともに、歪曲収差特性による画像の歪みが生じないように、上記ｆ・ｔａｎθ特性に応じて、ＤＭＤ１２によって形成される画像について、光偏向器１６の偏向方向と直交する方向の画素列毎に、偏向方向と直交する方向の補正を行なう。 - 特許庁

Deflection distortion correction is made to a wafer 12 by mark positions 25A and 25B, the deflection position of a positioning deflector 8 is corrected according to the deflection distortion value, corrected electron beams 9 are applied to the wafer 12, and patterns are accurately drawn on the wafer 12, thus accurately executing the calibration of electron beams and hence accurately operating the electron beam-drawing apparatus for improving yields.例文帳に追加

ウェハ１２にマーク位置２５Ａ，２５Ｂを使って偏向歪みの補正を施し、この偏向歪み値に応じて位置決め偏向器８の偏向位置を補正し、補正された電子線９をウェハ１２に照射し、ウェハ１２にパターンを正確に描画することにより、電子線の校正を精度良く実施する事が可能となり、電子線描画装置を高精度にて稼動でき歩留まりの向上を達成することができる。 - 特許庁

The wavelength selective switch comprises: an optical demultiplexer for separating an incident light with a plurality of wavelengths every wavelength of light and outputting the separated wavelengths of light; an optical amplifier for selectively amplifying or absorbing the separated wavelengths of light; an optical deflector for selectively deflecting the output of the optical amplifier; and an optical multiplexer for multiplexing the selectively deflected light and outputting the multiplexed light.例文帳に追加

複数の波長が入射された光を波長別に分離して出力する光逆多重化器と、波長別に分離された光を選択的に増幅または吸収する光増幅器と、光増幅器の出力を選択的に偏向させる光偏向器と、選択的に偏向された光を多重化して出力する光多重化器と、を備えることを特徴とする波長選択スイッチ。 - 特許庁

The hybrid deflector 500 for an ion implantation system is composed of a magnetic deflection module 350 which works to deflect ion beam from a beam axis, an electrostatic deflection module 504 which works to deflect the ion beam from the beam axis, and a controller 304 which, based on one or a plurality of input controlling signals, operates either the magnetic deflection module or the electrostatic deflection module selectively.例文帳に追加

本発明に係るイオン注入システムのためのハイブリッド偏向器５００は、イオンビームをビーム軸から偏向するように動作する磁気偏向モジュール３５０と、前記イオンビームを前記ビーム軸から偏向するように動作する静電偏向モジュール５０４と、１つまたは複数の入力制御信号に基づいて、前記磁気偏向モジュールと前記静電偏向モジュールの１つを選択的に動作させるコントローラー３０４とを含む。 - 特許庁

By arranging the duct 300 in this way, the optical box 101 is not increased in size and a space for arranging modules around a photoreceptor 400 except the optical scanner 100 is not limited, and air for cooling certainly pass through the vicinity of the light deflector, thus the optical scanner 100 having a layout without waste space and a high cooling performance is provided.例文帳に追加

ダクト３００をこのように配置することで、光学箱１０１を大型化させることもなく、かつ感光体４００の周囲の光走査装置１００以外のモジュールの配置空間を圧迫することもなく、しかも確実に偏光器近傍に冷却のための空気を通過させることができるため、無駄のないレイアウトと高効率の冷却性能を備えた光走査装置１００を提供できる。 - 特許庁

The charged particle beam exposure device in a division exposure transfer system has functions for correcting the three-dimensional distortion generated by the space charge lens by the distortion of at least a set of octupoles 14; and correcting low-order distortion generated from the octupoles 14 by a set of six poles 15, two stigmeters 9, 10, three focus lenses 11-13, and at least one deflector.例文帳に追加

分割露光転写方式の荷電粒子線露光装置であって、空間電荷レンズによって生じた３次幾何歪を１セット以上の８極子１４の歪により補正し、且つ、前記８極子１４から生じる低次の歪を１セットの６極子１５、２個のスティグメータ９，１０、３個のフォーカスレンズ１１〜１３、１個以上の偏向器により補正する機能を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁

The cantilever type element comprises a barrier layer composed of a dielectric substance having a low thermal conductivity, a first deflector layer patterned to have a first uniform resistor extending by a length L_H1 from the basic part element, and a second high electrical resistance substance having a high thermal expansion coefficient.例文帳に追加

カンチレバー型要素は、低い熱伝導度を有する誘電性物質から構成される障壁層と、高い熱膨張係数を有する第一の電気的に抵抗性の物質から構成され、基部要素から長さＬ_Ｈ１で延在する第一の均一な抵抗器部分を有するようにパターン化された、第一偏向板層と、高い熱膨張係数を有する第二の電気的に抵抗性の物質で構成される。 - 特許庁

The data storage device 100 is provided with a storage medium 106 having a data storage location 108, at least one emission device 156 for emitting electron beams 104 approximately aligned with the data storage device 108, and a beam deflector 158 including a plurality of steering electrodes 160, 162, 164 and 166 constituted to selectively adjust the aligning of the electron beams 104 with the data storage location 108.例文帳に追加

データ記憶装置（１００）は、データ記憶場所（１０８）を有する記憶媒体（１０６）と、前記データ記憶場所（１０８）と概ね整列した電子ビーム（１０４）を放出する少なくとも１つの放出器（１５６）と、前記データ記憶場所（１０８）に対する前記電子ビーム（１０４）の位置合わせを選択的に調整するように構成される複数の操縦電極（１６０、１６２、１６４、１６６）を含むビーム偏向器（１５８）とを備える。 - 特許庁

The deflector for a charged particle beam 100 is provided with a plurality of insulative body portions 4 and a plurality of electrode portions 2 inside a cylindrical body 1 having a beam passage where a charged particle beam 20 passes.例文帳に追加

荷電粒子ビーム２０が通るビーム路を有する筒状体１の内側に、複数の絶縁体部４および複数の電極部２がある荷電粒子ビーム用偏向器１００であって、ビーム路から見通せる位置に、電極部２と、少なくとも表面が半導電性または導電性である遮蔽体１０とを配置するとともに、ビーム路から見通せない位置に、絶縁体部４を配置したことにより、帯電を防止しつつ、小型で高寸法精度の荷電粒子ビーム用偏向器を得ることができる。 - 特許庁

The equipment provides the method that selects the several small regions by a deflector and it exposes, in a uniform sequence, the selected small region located within the group.例文帳に追加

感応基板上に転写すべきパターンを複数の小領域に分割して備えたマスクを用いて、各小領域に荷電粒子線を選択的に照射することによって当該小領域の転写像を前記感応基板上に形成する荷電粒子線露光方法において、前記複数の小領域を、少なくとも２つ以上の小領域からなる複数のグループに分け、前記複数のグループを偏向器によって選択し、前記複数のグループ内の小領域の露光を一定のシーケンスで行うことを特徴とする荷電粒子線露光方法。 - 特許庁