「Design Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

"integrated circuit topography" means a functional design which consists of the pattern, shape or configuration of the three-dimensional disposition of the electrical, electromagnetic or optical elements and circuitry of an integrated circuit;例文帳に追加

「集積回路の回路配置」とは，集積回路の電気的，電磁的又は光学的要素及び回路要素の3次元配置の模様，形状又は輪郭から成る機能的意匠をいう。 - 特許庁

(2) Paragraph (1) shall not apply in the case of an application for registration of the pattern or ornament of a design to be applied to a textile article, wallpaper or similar wall covering, lace or sets of textile articles or lace.例文帳に追加

(2)織物，壁紙又は類似の壁被覆材，レース又は織物若しくはレースの組物に適用する意匠の模様又は装飾の登録出願の場合は，(1)は適用されない。 - 特許庁

To provide a leather, on which design is imparted and a pattern excellent in abrasion resistance and following tensile force without causing crack of cured film is formed, and to provide a method for producing the leather.例文帳に追加

皮革上に意匠が付与された、耐摩耗性に優れ、かつ硬化膜が割れることなく引っ張りに対して追従する模様の形成された皮革およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To speed up optimizing work of exposure process design by easily acquiring the latent image charge density distribution on a photoreceptor and the two-dimensional exposure distribution corresponding to an input image pattern.例文帳に追加

感光体上の潜像電荷密度の分布と入力画像パターンに対応した２次元的露光量分布を容易に取得し，露光プロセス設計の最適化作業を迅速化する。 - 特許庁

To provide a design method of an integrated circuit device capable of reducing characteristic variation of a macrocell due to the difference of an automatic generation part of a dummy pattern for a flattening process of an insulation layer surface; and the like.例文帳に追加

絶縁層表面の平坦化処理用ダミーパターンの自動発生箇所の相違によるマクロセルの特性変動を低減する集積回路装置の設計方法等を提供すること。 - 特許庁

Here, each identification mark is composed of at least one of a character, a figure, a pattern, a numeral, a symbol, a trademark, a design, a symbol mark, and a character mark, and combinations of these and colors.例文帳に追加

ここで、前記識別マークは、文字、図形、模様、数字、記号、商標、意匠、シンボルマーク及びキャラクターマーク又はこれらと色彩との組合せの内少なくとも１つで構成されている。 - 特許庁

To provide an inexpensive vulcanizer for a large tire which facilitates dismounting without requiring accessories such as operating machines for partitioned segments or a design change in tire pattern.例文帳に追加

分割したセグメントの稼動装置等の付加装置やタイヤパターンの設計変更を必要とせずに、型抜きを容易に行うことができる安価な大型タイヤ用加硫装置を提供する。 - 特許庁

A data base in which a configuration surface, connection information, positional information and component information are associated with one another by every via, pattern and pad is created based on input design information of a printed circuit board.例文帳に追加

入力されたプリント基板の設計情報に基づき、ビア，パターン，パッドごとに構成面と接続情報と位置情報と部品情報とを関連づけたデータベースを作成する。 - 特許庁

To provide a device and a method for reliably fitting a skin in a fixing groove of an interior part body, and forming a fixed pattern without any space in design.例文帳に追加

内装部品本体の木目込み溝に確実に表皮材を木目込むことができると共に、この木目込みによって形成された木目込み模様を意匠的に隙間のないように形成できる。 - 特許庁

As for a price in housing design, the housing simulation system automatically calculates and presents the price of a house when a designer selects the basic pattern of the housing outline and in-house layout.例文帳に追加

住宅の設計における価格について、設計者が住宅外形の基本パターンと住宅内の間取りを選択することにより、自動的に住宅価格を計算提示する。 - 特許庁

A first light source shape is calculated on the basis of at least two pattern layouts defined in a design rule used when a semiconductor device is manufactured.例文帳に追加

本発明の一つの実施形態によれば、半導体装置を作製する際に用いるデザインルールで規定された少なくとも２つのパターンレイアウトに基づいて、第１の光源形状を算出する。 - 特許庁

To provide a method which allows a through-hole position and the through-hole position on design to directly coincide with each other in the film aligning in the case incapable of attaching a land pattern to a film for exposure.例文帳に追加

露光用フィルムにランドパターンを付けられない場合のフィルム合わせにおいて、スルーホール位置と設計上のスルーホール位置を直接合わせることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a woody decorative material showing excellent design appearance by providing a printing layer comprising a pattern having a three- dimensional feeling and a transparent feeling up to the interior of a woody substrate.例文帳に追加

立体感と透明感を有する絵柄模様からなる印刷層を木質基板の内部にまで設けることによって優れた意匠的外観に呈する木質化粧材を提供する。 - 特許庁

In this method of creation, since the same mask pattern is exclusive-ORed twice, original data is restored; and an original design image is displayed on the completed QR code image.例文帳に追加

この作成方式によれば、同一マスクパターンの排他的論理和が２回とられるので元データが復元され、完成したＱＲコード画像上に元のデザイン画像が表示される。 - 特許庁

The flexible printed board 1a is formed three-dimensionally by performing vacuum pressure forming after forming the circuit pattern layer 3, the circuit protective layer 5 and the design print layers 6, 7.例文帳に追加

そして、フレキシブルプリント基板１ａは、回路パターン層３、回路保護層５、意匠印刷層６，７の形成後に真空圧空成形を施すことによって、立体的に成形されている。 - 特許庁

This nameplate is easy to manufacture since its shape part which constitutes a logo mark, design, or pattern is not make to look solid by making the substrate 1 itself not rugged like conventional manner.例文帳に追加

ネームプレートのロゴマークや意匠・模様を構成する形状部分を従来のように基板自体に凸凹をつけることで立体的に見せるのではないので、製作が容易である。 - 特許庁

To provide a technology by which the alternation of a layout pattern from the production side is made unnecessary, the design time can be shortened and the yield can be improved in the method for forming a mask.例文帳に追加

マスクの形成方法において、製造側からのレイアウトパターンの変更をなくし、設計工期を短縮するとともに歩留まりの向上を図ることができる技術を提供する。 - 特許庁

The personal authentication medium includes a substrate having a fine unevenness arranged in a character and/or design pattern having a height from 0.01 to 100 μm at least on one main face.例文帳に追加

文字及び／または模様パターンに配列され、０．０１〜１００μｍの高さを有する微細な凹凸を、少なくとも一主面上に有する基材を含む個人認証媒体。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit for improving the yield of semiconductor integrated circuit chips by forming a pattern of design layout with high accuracy on a wafer.例文帳に追加

設計レイアウトのパターンを精度良くウェハ上に形成することにより半導体集積回路チップの歩留まり向上が可能な半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

Due to the development of woven pattern (design) and dye techniques, colorful clothing came to be used in ceremonial rituals in the Imperial court, showing the cultural improvement in clothing of the court nobles. 例文帳に追加

織模様(紋)や染色技術の進展によって色彩に多様性が生まれ、朝廷における儀式行事に用いられることによって貴族の衣服は文化的な向上を見せた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This package implements a PageController design pattern, which essentially means that there is a single page processing requests and actions this page performs depend on parameters passed in GET or POST data.例文帳に追加

このパッケージは、PageController デザインパターンを実装したものです。 これは、リクエストの受け取りと (受け取った GET データあるいは POSTデータに依存した) アクションの実行をひとつのページで行うことを意味します。 - PEAR

To provide a panel structure capable of forming a barrier rib having a pattern and a height in accordance with design in a display area without generating projections interfering with adhesion between substrates.例文帳に追加

基板どうしの密着に支障となる突起を生じさせることなく、表示領域にパターンおよび高さが設計どおりの隔壁を形成することのできるパネル構造を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-colored pattern coating composition forming a flat coated film capable of expressing a colorful design by integrating a base color with patterned colors and excellent in weather resistance and a soil- preventing property.例文帳に追加

背景色と模様色が複合して、多彩な意匠感を表現できる耐候性および防汚性に優れたフラットな塗膜を形成することができる多色模様塗料組成物。 - 特許庁

A framework function extraction part 301 specifies a provision place of a function provided by use of a design pattern in a source code 101 of a framework to extracts the function.例文帳に追加

フレームワーク機能抽出部３０１は、フレームワークのソースコード１０１において、デザインパターンを用いて提供される機能の提供場所を特定することにより、その機能を抽出する。 - 特許庁

The means for deciding numbers of specific designs to be distinguished 67 decides numbers to be distinguished of the specific design after illumination by a direction pattern and a data table for deciding number to be distinguished 66 and the like.例文帳に追加

また、特定図柄消光数決定手段６７は、演出パターンや消光数決定用データテーブル６６等によって照光後の特定図柄の消光数を決定する。 - 特許庁

All offset parameters of an exposure device, a superposition measuring instrument, etc. are reset to 0, and a test wafer is precedently exposed by using a complementary divided mark, in which a design pattern is divided into M blocks.例文帳に追加

露光装置、重ね合わせ測定器等のオフセットのパラメータを全て０にリセットし、設計パターンがＭ個のブロックに分割された相補分割マークを使って試験ウエハに先行露光する。 - 特許庁

To provide an outer wall executing structure inconspicuous in a joint part in a joining part of adjacent outer wall plates, and continuously revealing a pattern of a design surface, and the outer wall plate used for this outer wall executing structure.例文帳に追加

隣り合う外壁板の接合部における目地部が目立たず，意匠面の柄模様が連続して表出される外壁施工構造及びこれに用いる外壁板を提供すること。 - 特許庁

A left/right symmetry of a shape of the metal dummy pattern 6 viewed from the center GC of the gate electrode 1 is kept in the region of the gate electrode 1 even if a position of the metal dummy pattern 6 is displaced from its original design caused by the displacement of a mask of wiring.例文帳に追加

配線のマスクずれの発生により、メタルダミーパターン６の位置が設計時からずれた場合であっても、ゲート電極１の領域内において、ゲート電極１の中心ＧＣから見たメタルダミーパターン６の形状は、左右対称性が保たれる。 - 特許庁

To provide a selecting method of an exposing method in which selection of an exposing technique corresponding to a real chip layout design is realized and required gate line width control is attained, when the exposing method is selected to perform pattern transfer for a mask pattern by the selected exposing method.例文帳に追加

露光方法を選択し、選択した露光方法によりマスクパターンのパターン転写を行う際、実チップレイアウト設計に対応した露光技術の選択を可能にし、要求されるゲート線幅制御を達成できる、露光方法の選択方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for verifying pattern data of a semiconductor device for appropriately deciding whether the allowable error of design data of a pattern to be formed in a lithographic process using at least two masks is within an appropriate range or not by the use of simulation.例文帳に追加

少なくとも２枚のマスクを用いるリソグラフィ工程において、形成されるパターンの設計データの許容誤差が適正な範囲内であるか否かをシミュレーションを利用して適正に判断する半導体装置のパターンデータの検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a plate-like decorated molded body which is excellent for enabling implementation of design of various impressions combining a three-dimensional pattern with a color pattern, the plate-like decorated molded body obtained by this method, and a decorative resin sheet used for the plate-like decorated molded body.例文帳に追加

立体模様と色模様とを合わせた多種多様な印象のデザインを実現することができる優れた板状加飾成形体の製法と、それによって得られる板状加飾成形体と、それに用いられる加飾樹脂シートとを提供する。 - 特許庁

To provide an electroformed body on the surface of which a pattern, which has optional design properties such as a letter and a picture pattern, decorative properties and visibility, is formed by using a metal layer comprising a metallic material different from that of the electroformed body so that the metal layer has no difference in level and to provide a method for producing the electroformed body.例文帳に追加

表面に電鋳体とは異なる金属材料からなる金属層により文字、絵模様等任意のデザイン性、装飾性、視認性を有するパターンが形成され、この金属層に段差がない電鋳体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine which displays patterns with high identification property on the pattern display parts of a pattern display device, which improves the design property and decoration property of the background part of the patterns for increasing interest in a game and which is also provided with various game property.例文帳に追加

図柄表示装置の図柄表示部に高い識別性で図柄を表示し得ると共に、図柄の背景部の意匠性や装飾性を向上させることで遊技に対する興趣を増大させ、更に多彩な遊技性をも備える遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank and a mask, wherein the linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (real dimensional difference) between a design dimension of a line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of a line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Ｌｉｎｅａｒｉｔｙを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative plastic container which is excellent in recycle suitability and has high design properties including a picture pattern-like pattern by directly forming thin films with different refractive indices on the surface of a plastic container substrate by a vapor deposition, coating or printing means.例文帳に追加

プラスチック容器基材表面に屈折率の異なる薄膜を蒸着、塗工または印刷手段によって直接設けることにより、リサイクル適性に優れた、絵柄状のパターンを含む、意匠性の高い加飾プラスチック容器を提供することである。 - 特許庁

A mask correction unit 3 is determined in accordance with the space dependence 7 of a pattern obtained through photolithography and etching steps, design data 1 for producing a photomask are corrected using the mask correction unit 3 and the objective photomask is produced with a pattern forming device.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性７に基いてマスク補正単位３を決定し、このマスク補正単位３を用いてフォトマスク作成用の設計データ１に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。 - 特許庁

To obtain an induction heating cooker capable of facilitating a design of a substrate by reducing a wiring pattern part area of a printed circuit board in which a high frequency large current flows, reducing a pattern loss of the substrate, and facilitating a body assembling operation.例文帳に追加

高周波大電流の流れるプリント基板の配線パターン部面積を低減させることで基板の設計を容易にすると共に、基板のパターン損失も低減することができ，また本体組立作業を容易にすることのできる誘導加熱調理器を得る。 - 特許庁

If the finger is contacted with that part, the second light source 7 is lighted on at a second pattern, and because brightness and color or the like of the light transmission pattern 3a which has loomed up on the design plate 1 are changed, it is confirmed by this that the switch is turned to be ON state.例文帳に追加

指がその部分に接触すると、第２光源７が第２のパターンで点灯され、意匠板１に浮かび上がった光透過パターン３ａの輝度、色等が変化するので、これにより、スイッチがＯＮ状態になったことを確認することができる。 - 特許庁

To provide a raised fabric forming a three-dimensional pattern in which the uneven pattern formed on the surface of the raised fabric forms shadow even when viewed from all angles and suitable for an interior finishing material improving the appearance of a vehicular trim and a house interior finish having a more three-dimensional design.例文帳に追加

立毛布帛表面に形成された凹凸模様が、あらゆる角度から見ても陰影を形成し、より立体的な意匠を有する車両および家屋内装の見映えを向上し得る内装材に適する立体模様形成立毛布帛を提供する。 - 特許庁

The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).例文帳に追加

予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁

To eliminate the adverse influence that the dimensional fluctuation of a resist pattern induced by consequence of the degradation in the transmittance of a defect correction portion exerts on device quality when a design pattern dimension is reduced like, for example, about 1 μm in the dimension value on the photomask.例文帳に追加

デザインパターン寸法がフォトマスク上の寸法値で例えば約１μｍという様に縮小されるときに、欠陥修正部分の透過率低下に起因して生じるレジストパターンの寸法変動がデバイス品質に悪影響を及ぼす点を改善する。 - 特許庁

A first correction component (an amount of OPC correction) of the optical proximity effect is determined from an amount of deviation ΔP from the ideal (design) pattern of the prediction pattern and the amount of the correction is calculated by adding a second correction component (ΔF/MEEF) meeting the simulation error to the first correction component.例文帳に追加

予測パターンの理想（設計）パターンからのずれ量ΔＰから光近接効果の第１補正成分（ＯＰＣ補正量）を求め、当該第１補正成分にシミュレーション誤差に応じた第２補正成分（ΔＦ／ＭＥＥＦ）を付加して補正量を算出する。 - 特許庁

Then correction figure data to modify the figure of a correction portion to correct the optical proximity effect are created based on the design pattern data, and the obtained correction figure data are compounded in the width-corrected pattern data by using the correction portion data (S12, S14).例文帳に追加

次いで、光近接効果を補正するために補正部分の形状を変形させるための補正用形状データを、設計パターンデータに基づいて生成し、この補正用形状データを、補正部分データを用いて、幅補正後パターンデータに合成する（Ｓ１２及びＳ１４）。 - 特許庁

In the slot machine adding a token to a game player according to a reel pattern combination displaying a plurality of patterns on an outer peripheral face, the slot machine is provided with the display screen, other than the reel, for displaying the design such as a character, a number or a pattern and for continuously or intermittently rotating.例文帳に追加

外周面に複数個の図柄を表示したリールの図柄の組合せに応じて、遊技者にメダルを付与するスロットマシンにおいて、前記リールとは別に、文字、数字、絵柄等の図柄を表示し、連続または間欠回動する表示スクリーンを備えたスロットマシン。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加

また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁