「Design Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a design method of mask pattern that can be simply corrected without increasing a chip area so as not to deform a circuit pattern on a film for forming a surface layer side circuit due to a level difference of a substrate side circuit.例文帳に追加

表層側回路を形成する為の膜上の回路パターンが、基板側回路の段差に起因して変形しないように、チップ面積を増大させることなく、簡易に補正することが出来るマスクパターンの設計方法の提供。 - 特許庁

In the memorabilia, a pattern composed by turning ashes or pieces of remains or both of them to all or a part of a design material 11a is formed as an internal pattern 11 inside a memorabilia body 10 composed of a transparent material.例文帳に追加

透明材料からなる記念品本体１０の内部に、遺灰若しくは遺骨片或いはその両方をデザイン素材１１ａの全部若しくは１部としてなる模様を、内部模様１１として形成してある記念品である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a block capable of arbitrarily changing the thickness of each layered raw material composing a stripe pattern and making the block having the stripe pattern rich in changeful design, and to provide a manufacturing apparatus of the block.例文帳に追加

縞模様を構成するべく層状をなす各原材の厚みが任意に変更設定でき、意匠的変化に富んだ縞模様を有するブロックを製造できるブロックの製造方法及びブロック製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for pattern matching, for producing a template on the basis of design data without carrying out exposure simulation of the like, and capable of forming an image along an actual pattern.例文帳に追加

本発明は、露光シミュレーション等を行うことなく、設計データに基づいてテンプレートを作成する装置であって、実パターンの大きさに沿った画像の形成が可能なパターンマッチング用画像作成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Therefore, the position where the space key is arranged or a circuit pattern in the neighborhood is made relatively scarce so that the design of the circuit pattern of the keyboard substrate 2 can be made relatively easy by forming the contact 2b for leading at the position.例文帳に追加

よって、スペースキーが配置される位置やその近傍の回路パターンは比較的に疎であるので、この位置に引出し用接点２ｂを設ければ、キーボード基板２の回路パターンの設計が比較的容易になるからである。 - 特許庁

It is said that Hidehisa, wearing Kasuo no kabuto (helmet (of armor, armour) with Kasuri-pattern design) and Jinbaori (sleeveless campaign jacket worn over armor) with short sleeves made of white glossy silk of Hinomaru (national flag of Japan) pattern and holding Uma-jirushi commanders' flags ahead with a white letter of "無" on a dark blue ground, went first into the fray with a party of soldiers under his command. 例文帳に追加

このとき秀久は糟尾の兜と白練りに日の丸を付けた陣羽織を着て、紺地に無の字を白く出した馬印を眞先に押し立て、手勢を率いて諸軍の先に進んだといわれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor.例文帳に追加

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

To decrease a variation in wiring capacitance caused by a dummy pattern used for a flattening process of an LSI layout pattern, and not to degrade the extraction accuracy of a parasitic element in a design process.例文帳に追加

ＬＳＩレイアウトパターンの平坦化処理に用いるダミーパターンによって生じる配線容量変動を低減すると共に、設計工程における寄生素子抽出精度を可能な限り落とすことがないようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a mask blank and a mask, wherein linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (actual dimensional difference) between a design dimension of the line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of the line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Linearityを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクを提供する。 - 特許庁

Since simulation is carried out by using the data as the dimension data of the auxiliary pattern prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern, simulation can be performed with high accuracy and a fitting error can be minimized.例文帳に追加

補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行うため、高い精度でシミュレーションを行うことができ、フィッティング誤差を極めて小さくすることが可能となる。 - 特許庁

These unitized slates 1A, 1B, 1C, etc., are successively arranged according to a stone arrangement shape of a random shape pattern different in respective areas P1, P2, etc., to form an arrangement pattern non-repetitive on the design.例文帳に追加

このユニット化した石板１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…を各領域Ｐ１，Ｐ２…毎に異なる乱形パターンの石組配列形態に従い順次に配列することで各領域Ｐ１，Ｐ２…毎にデザイン上の繰り返しのない配列パターンを形成する。 - 特許庁

Thus, the design is properly adapted to an area to which the pattern of the form is desired to be adapted by automatically varying the size and the shape of the pattern image according to variation of the size and the shape of the form.例文帳に追加

このように、帳票のサイズないし形状の変化に対応させて地紋画像のサイズないし形状を自動的に変化させることにより、帳票の地紋を適用したい領域に適切に地紋を適用することが可能となる。 - 特許庁

A delay time calculation error between the timing design process 103 and the timing validation process 104 is calculated, and a minimum wiring width specified in a design rule is added, with a wide part containing the delay time calculation error, to generate a wiring pattern.例文帳に追加

タイミング設計工程１０３およびタイミング検証工程１０４間の遅延時間計算誤差を算出し、設計ルールで規定された最小配線幅に、前記遅延時間計算誤差を包含する幅広部分を加えた配線パターンを作成する。 - 特許庁

And each of the set positional relationships is used to position the defect output by the inspection equipment 1 and the design data, and a local pattern of the site at which the defect is positioned is extracted from the design data for every positional relationship (step S6).例文帳に追加

そして、設定された位置関係の夫々を用いて検査装置１が出力した欠陥位置と設計データとを位置合わせし、設計データから欠陥位置が位置合わせされた部位の局所パターンを位置関係毎に抽出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin decorative plate having excellent design properties having a recess state tuned with a design pattern and a method for manufacturing the thermosetting resin decorative plate to simply manufac ture the plate at a low cost with good productivity.例文帳に追加

絵柄模様と同調した凹状部を有する意匠性に優れた熱硬化性樹脂化粧板と、該熱硬化性樹脂化粧板を生産性良く簡便且つ安価に製造するための熱硬化性樹脂化粧板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a design on the surface of an article having a curved surface by which a picture, a character, a design and a pattern or the like are easily applied on the surfaces of a portable telephone, a cup, a bottle and a can or the like and to provide a printed wrapping material.例文帳に追加

曲面を有する携帯電話やカップ、ビン、缶等の表面に、絵やキャラクター、図柄模様などを簡易に付けることができる曲面を有する物品表面への図柄形成方法及び印刷ラッピング材料を提供する。 - 特許庁

A screen transition edition part 33 prompts a user to select the items of the second logical design information generated by the definition file generation part 32 and the physical design information stored in the screen transition pattern storage part 22 at every inquiry processing.例文帳に追加

画面遷移編集部３３は、定義ファイル生成部３２によって生成された第２の論理設計情報および画面遷移パターン格納部２２に格納されている物理設計情報の項目を問い合わせ処理毎にユーザに選択させる。 - 特許庁

The system includes means configured to receive designation of an agricultural field on the map, then to receive a fertilization design condition including a fertilizer pattern and a priority condition, to design fertilization patterns for the agricultural field, and to display the designed fertilization patterns on the same screen.例文帳に追加

地図上での圃場の指定を受け付け、肥料パターン及び優先条件等の施肥設計条件を受け付け、該圃場に対する施肥パターンを設計し、設計した施肥パターンを同一画面上に表示する手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To sufficiently detect a failure of an interface part of a BIST design object circuit with a scan test design object circuit, and automatically generate a test pattern in a semiconductor integrated circuit using both a BIST and a scan test.例文帳に追加

ＢＩＳＴとスキャンテストを併用する半導体集積回路において、ＢＩＳＴ設計対象回路とスキャンテスト設計対象回路とのインタフェース部分の十分な故障検出を可能にし、かつテストパターンの自動生成を可能にする。 - 特許庁

To provide a decorative sheet simultaneously formed with injection-molding for a decorative molded body certainly developing design effect of an uneven pattern, generating no abrasion or pollution, keeping good appearance over a long period of time and excellent from an aspect of design effect.例文帳に追加

凹凸模様の意匠性を確実に発揮することができ、摩耗や汚染などがなく、長期にわたり良好な外観を維持することが可能である、意匠的に優れた加飾成形体の射出成形同時加飾用加飾シートを提供する。 - 特許庁

The user can select the household electrical appliance to buy, make a design such as a color, a pattern, or a shape of the external appearance component capable of individually designing by software, transmit the design data, and order the household electrical appliance.例文帳に追加

購入する家庭電化製品を選択して、個別デザインが可能な外観部品に色や柄あるいは形状などのデザインをソフトウェアにより作成し、そのデザインデータを送信すると共に、家庭電化製品の発注処理を行なうことができる。 - 特許庁

To provide a light proximity effect correcting device for a semiconductor production process, capable of performing the sufficient light proximity effect correction even under various conditions in the size and shape of a design pattern and the space width and positioning relationship between the design patterns.例文帳に追加

設計パターンの大きさ・形状や、設計パターン同士のスペース幅や位置関係が多様な状況下においても、十分な光近接効果補正を行うことのできる、半導体製造プロセスの光近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

This ceramic building plate 1 has a plurality of design projections 23 divided by a plurality of continuous joint parts 22 and a plurality of crossing joint parts 23, and the design projection 21 is formed with a designed pattern 301 by printing ink with the printing roll 4.例文帳に追加

窯業系建築板１は，複数の連続目地部２２と複数の交錯目地部２３とによって区画した複数の意匠凸部２１を有し，意匠凸部２１には，印刷ロール４によるインク印刷を行った意匠模様３０１を形成してなる。 - 特許庁

A scanning speed controller 8 decides the maximum scan speed geared to the design rule from the relation between the quantity of stage oscillation and the stage scanning speed, referring to a scanning speed table 10, based on the pattern size and the design rule inputted from an input apparatus 9.例文帳に追加

スキャンスピード制御装置８は入力装置９から入力されるパターンサイズ及び設計ルールを基にスキャンスピードテーブル１０を参照し、ステージ振動量とステージスキャンスピードとの関係から設計ルールに応じた最大のスキャンスピードを決定する。 - 特許庁

The container 10 with the variable pattern lid is fitted with an outer lid 22 having a transparent upper face part 21 provided with an external design pattern 20 consisting of a large number of lines distributed regularly and an internal plate 25 provided with an internal design pattern 26 arranged slidably with respect to the upper face 21 inside the face 21 and consisting of a large number of lines distributed regularly.例文帳に追加

本発明の可変模様蓋付容器１０は、規則正しく分布された多数の線による外側デザインパターン２０が設けられた透明な上面部２１を有する外蓋２２と、該上面部２１の内側に該上面部２１に対してスライド可能に配置され、規則正しく分布された多数の線による内側デザインパターン２６が設けられた内側プレート２５とを備える可変模様蓋１２が取り付けられている。 - 特許庁

In addition, the surface pattern between the adjoining blade composing members (1 and 2) is made different to prevent degradation of a design property by dividing it into a plurality of members.例文帳に追加

また、隣接する羽体構成部材（１，２）間の表面模様を異ならしめることにより、複数の部材に分割したことによる意匠性の低下を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a transfer method to a sheet, a transfer device, and a sheet product, capable of transferring the same design or pattern at the same position of a base sheet of various printed materials, etc.例文帳に追加

各種の印刷物等の基体シートの同じ位置に同じ模様や柄などを転写することができるシートへの転写方法、転写装置、及びシート製品を提供する。 - 特許庁

This textile as an apparel is light and stretchable, capable of freely selecting any textile material and has conspicuously uneven design conferring a desired pattern.例文帳に追加

また使用する繊維素材に適材適所が指摘され，着用時のより高い快適性を追及したファッション性のある自由なアパレルの産出が強く求められてきた。 - 特許庁

Accordingly, the display part 64 covered with the flange part 40A can be seen through, and the display part 64 further can be seen as it is separated from the circumferential design a pattern and easily recognized.例文帳に追加

これにより、フランジ部４０Ａに覆われた表示部６４が透視でき、しかも表示部６４が周囲のデザイン図から切り離されたように見えて容易に識別できる。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method realizing at least one of enhancement of the degree of freedom in pattern design for each layer and enhancement of productivity of the device.例文帳に追加

レイヤ毎のパターン設計上の自由度の向上及びデバイスの生産性の向上の少なくとも一方を実現する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a moving image recording/reproducing device and a change method for image pattern display, allowing an optional change of a SKIN design interlockingly with setting or a state of the device.例文帳に追加

装置の設定や状態に連動してＳＫＩＮデザインを任意に変更可能とする動画像記録再生装置および画像パターン表示の変更方法を、提供する。 - 特許庁

To provide a fabric material for producing a mark by transferring a design or a pattern printed on a transfer paper with a sublimation dye.例文帳に追加

昇華性染料を以て図柄、模様等を印刷した転写紙を使って、該転写紙に印刷された図柄、模様を転写できるようにしたマーク用生地材料を提供する。 - 特許庁

To provide a design-precoated metal sheet with no cracking on a coating film even by processing by adjusting elongation ratio of a plain color- base coating film and elongation ratio of a printed pattern coating film.例文帳に追加

単色ベース塗膜の伸び率と印刷柄模様塗膜の伸び率を調整することで、加工しても塗膜割れのない意匠プレコート金属板を提供する。 - 特許庁

To improve throughput and yield as the whole of processes at the time of forming an element pattern of different design rule by an exposure system different in resolution in a post stage.例文帳に追加

後工程で異なる解像度の露光系により異なるデザインルールの素子パターンを形成する際の工程全体としてのスループットと歩留まりの向上を図る。 - 特許庁

To provide a liquid crystal spatial light modulator as a mask for exposure capable of accurately forming the desired mask pattern, even if making design rule to be more minute makes progress.例文帳に追加

設計ルールの微細化が進んでも、所望通りのマスクパターンを正確に形成することができる露光マスクとしての液晶空間光変調器を実現すること。 - 特許庁

To provide a mount testing apparatus by which the propriety of land pattern design formed on a printed wiring board can be tested for a short time, and to provide its mount testing method.例文帳に追加

プリント配線板上に形成されるランドパターンの設計の適否を短時間で試験することができる実装試験装置およびその実装試験方法を提供する。 - 特許庁

A design pattern transfer to an exposure field 45 or 46 is continually carried out without changing a removal direction of the substrate 12 to be treated and a flow direction of a liquid film respectively.例文帳に追加

露光フィールド４５あるいは４６への設計パターンの転写が、それぞれ被処理基板１２の移動方向及び液膜の流れの方向を変えずに、連続して行われる。 - 特許庁

When the CD design value is equal to the predetermined value or lower, the aforementioned one pattern is exposed using a second dose, which is obtained by adding a correction dose to the first dose.例文帳に追加

前記ＣＤ設計値が前記所定値以下であれば、前記第１ドーズ量に補正ドーズ量を加えて得られる第２ドーズ量で前記一つのパターンを露光する。 - 特許庁

The determined light transmissive regions or light shielding regions are disposed on each gird and necessary pattern forming frequency, focal depth and beam diameter are calculated by CAD(computer aided design) and converted into data.例文帳に追加

決定された光透過領域又は遮光領域を、「各グリッド」に配置してＣＡＤで必要な描画回数、焦点深度、ビーム径を計算し、データ化する。 - 特許庁

To provide an epoch-making method for producing a dyed product by which a noble and sonorous pattern or design having new demitints and a three-dimensional effect can be expressed.例文帳に追加

今までにないぼかしがあり且つ立体感のある高貴で格調高い模様，柄を表現し得る画期的な染物の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The simulation results are compared with a limitation and the data from the comparison are provided for showing whether or not any limitation is violated during simulation by a test rod pattern design.例文帳に追加

シミュレーション結果は限界と比較され、比較からのデータは、シミュレーション中にいずれかの限界が試験ロッドパターンデザインにより違反されたか否かを示すために提供される。 - 特許庁

Two kinds of drawing data D2A, D2B are generated by executing two kinds of rasterizing processing on design data having exposure amount information described in the drawing pattern.例文帳に追加

描画パターンを記述した露光量情報を有する設計データに対して２種類のラスタライズ処理を実行して２種類の描画データＤ２Ａ，Ｄ２Ｂを生成している。 - 特許庁

To provide a method of designing a printed board wherein a disposition design of a dummy pattern for restricting warpage deformation of a multilayered wiring board can be performed in a short time.例文帳に追加

多層配線基板の反り変形を抑制するダミーパターンの配置設計を、短時間で行えるプリント基板の設計方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit, a semiconductor integrated circuit design method, a scanning test pattern generation method, and a program capable of reducing cost in a scanning test.例文帳に追加

スキャンテストにおけるコストを低減することができる半導体集積回路、半導体集積回路設計方法、スキャンテストパタン生成方法及びそのプログラムを提供すること - 特許庁

The simulate pattern is compared with a pre-OPC design layout obtained in a process 218 (process 220) to determine whether the manufactured mask demonstrates the desired patterning performance (process 222).例文帳に追加

シミュレートパターンを工程２１８で得られたプレＯＰＣ設計レイアウトと比較し（工程２２０）、所望のパターニング性能を発揮するかどうかを判定する（工程２２２）。 - 特許庁