「Design Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, The bleeding in the design pattern is prevented by suppressing the fluidity of the rest clear coating after coating and by suppressing a movement of the aqueous ink to the clear layer 2.例文帳に追加

また、塗装後に静止した状態のクリア塗料の流動性を抑制し、クリア層２への水性インクの移動を抑制して、意匠模様の滲みを防止することができる。 - 特許庁

To provide a method capable of easily forming a multicolor pattern coating film having extremely high-degree design effect by a simple coating method.例文帳に追加

きわめて高度な意匠性を有する多色模様塗膜を、単純な塗装方法により、容易に形成することのできる多色模様塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coated steel sheet excellent in design properties and weatherability and also excellent in snow sliding properties by forming a crimped pattern coating film on a steel sheet.例文帳に追加

鋼板上に縮み模様塗膜が形成されてなる意匠性、耐侯性に優れた塗装鋼板であって、且つ滑雪性にも優れた塗装鋼板を提供すること。 - 特許庁

A design pattern reduces complementary patterns SP1, SP2, which are divided complementarily, by an amount of a size variation, and mask patterns CP1, CP2 after reducing are formed on the mask.例文帳に追加

設計パターンが相補分割された相補パターンＳＰ１，ＳＰ２を寸法変動量だけ縮小させ、縮小後のマスクパターンＣＰ１，ＣＰ２をマスクに形成する。 - 特許庁

To provide a colored carbon fiber for producing a carbon fiber-reinforced composite material having high design flexibility to satisfy simultaneously expression of texture pattern or the like and color development.例文帳に追加

織目模様等の表現と発色を同時に満たすような、意匠性の高い炭素繊維強化複合材料を得るための、着色された炭素繊維を提供すること。 - 特許庁

To improve design beauty and values by freely coloring a cloth member for decoration to a favorite color pattern or the like according to a single color or a plurality of colors.例文帳に追加

装飾用生地部材に対し単色による好みの色または複数色による好みの色模様等に自由に着色でき、意匠的な美観・価値観を向上する。 - 特許庁

The system comprises a matching engine that accesses a data store of patterns that can be used as composable design elements to map components of the computing system to a pattern.例文帳に追加

このシステムは、構成可能な設計要素として用いることができるパターンのデータストアにアクセスし、コンピューティングシステムのコンポーネントをパターンにマッピングするマッチングエンジンを備える。 - 特許庁

A conversion difference D1 is calculated which indicates a difference between a measured value of a width W3 of a pattern 45a of a mask layer 45 formed on a diffraction grating layer 41 and a design value of the width.例文帳に追加

回折格子層４１の上に形成されたマスク層４５のパターン４５ａの幅Ｗ３の測定値とその設計値との差を示す変換差Ｄ１を算出する。 - 特許庁

The conductor wiring layer bonding part 14a is formed as the peripheral part of the island 15 and the flat width of the conductor wiring layer bonding part is assured by pattern design.例文帳に追加

導体配線層ボンディング部１４ａはアイランド１５の周辺部に形成し、パターン設計により導体配線層ボンディング部の平坦幅を確保できるようにしたものである。 - 特許庁

To efficiently design a dummy pattern to be formed on a wiring layer for eliminating the surface step of polished surfaces after a chemical mechanical polishing(CMP) process in a production process of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程でＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）工程後の研磨面の表面段差を解消するために配線層に形成するダミーパターンを効率よく設計する。 - 特許庁

The method, the apparatus and the computer program for visually indicating interaction between one or more edges of a design that contribute a pattern of a determined critical area are provided.例文帳に追加

定められたクリティカル・エリアのパターンに寄与する設計の１つ又は複数の辺間の相互作用を視覚的に表すための方法、装置、及びコンピュータ・プログラムが提供される。 - 特許庁

When the design is classified, words which are recalled to by a pattern and words which represent a purpose of use and usage are given as keywords to make it easy for a recipient to retrieve it.例文帳に追加

デザインの分類に当たっては、図柄が想起させる言葉、使用目的及び用途を表す言葉をキーワードとして付与することで受給者の検索を容易にする。 - 特許庁

Further, if a decorative layer 4 or an uneven pattern and decorative treatment by printing or embossing are applied to either one of the layers constituting the decorative sheet, design effect is enhanced.例文帳に追加

更に、化粧シートを構成する何れかの層に、装飾層４や凹凸模様等と、印刷、エンボス等による装飾処理を施せば、意匠性が向上する。 - 特許庁

To provide a high-frequency filter hardly causing a current concentration to a specific area of a resonance pattern and hardly causing the deviation of filter characteristics from design values.例文帳に追加

共振パターンの特定箇所への電流集中が生じにくく、かつ実際のフィルタ特性の、設計値からのずれが生じにくい高周波フィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a means by which a product having clearer uneven appearance and more excellent design than those of conventional products can be obtained, when an uneven pattern is imparted to a polyester-based fiber material.例文帳に追加

ポリエステル系繊維材料に凹凸柄を付与するにあたり、より凹凸感が鮮明になり、意匠性に優れた製品を得ることのできる手段を提供する。 - 特許庁

Then, the display control device displays a middle design being oscillated vertically or laterally right before finishing the change of a special pattern display device in response to the command.例文帳に追加

すると、表示用制御装置は、そのコマンドに応じて特別図柄表示装置の変動終了直前の中図柄を上下又は左右に揺らして表示する。 - 特許庁

A dyed product with an arbitrary cut shaped pattern in an arbitrary design which is not expressed in conventional dying methods, is easily obtained.例文帳に追加

このようにして従来の染色手段では表現出来なかった任意な切断形状の図柄を任意な構図に配置した染色物を容易に得ることが出来る。 - 特許庁

The design panel 1 is composed of a transparent member 2 provided in a surface with a light diffusing part 3, and a display pattern part 4 transmitting light, and a reflecting part 5 in a rear face.例文帳に追加

表面に光拡散処理部３と、光を透過する表示パターン部４とを備え、裏面に反射部５を備えた透明部材２により意匠パネル１を構成した。 - 特許庁

To maximally restrain a design change caused by a change in a shift pattern, by stabilizing a detection result by further restraining a variation in position detection accuracy.例文帳に追加

位置検出精度のばらつきをより一層抑制して検出結果の安定化を図るとともに、シフトパターンの変更に伴う設計変更をできるだけ抑制する。 - 特許庁

In the method for reducing the fogging effect in an electron beam lithography system, exposure is controlled in order to obtain a pattern matched to design data after processing.例文帳に追加

本発明は、電子ビームリソグラフィーシステムにおけるかぶり効果を減少させる方法に関し、設計データに一致する処理後のパターンを得るために露光が制御される。 - 特許庁

First, design data corresponding to a designed pattern are divided into a first stripe region group 61 composed of three stripe regions 61a-61c in a data arrange region 10.例文帳に追加

まず、データ配置領域１０上に設計パターンと対応する設計データを３本のストライプ領域６１ａ〜６１ｃからなる第１のストライプ領域群６１に区画する。 - 特許庁

The member 5 forming the floor surface is a decorative member for decorating the floor surface of the car, and formed of a carpet having high degree of freedom in design such as color and pattern.例文帳に追加

床表面を形成する部材５は乗りかごの床面を装飾する装飾部材であって、色、模様について意匠上の自由度の高い敷物とする。 - 特許庁

Thereby, the water-based ink that constitutes the design pattern layer 2 is caused to adhere to the surface of the substrate 1 without being repelled by it.例文帳に追加

これにより、模様層２を構成する水性インクが基材１の表面に弾かれることなく付着し、水性インクを基材１の表面に定着させることができる。 - 特許庁

In the case of assisting the design of the arrangement pattern, shape characteristics of a roof surface 22 on which the solar battery module 20 is arranged are extracted by a shape characteristic extraction means 4.例文帳に追加

配置パターンの設計支援にあたって、形状特徴抽出手段４によって太陽電池モジュール２０が配置される屋根面２２の形状特徴を抽出する。 - 特許庁

A process of forming the pattern 5 on the substrate 6 is simulated on the basis of the design data of the mask patterns 3, 4 formed on at least one of the masks 1, 2.例文帳に追加

少なくとも１枚のマスク１，２に形成されているマスクパターン３，４の設計データに基づいて基板６上にパターン５を形成するプロセスのシミュレーションを実行する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of easily coping with an optional change in design in accordance with a wiring pattern on a mounting substrate on which a semiconductor device is mounted.例文帳に追加

半導体装置が実装される実装基板上の配線パターンに応じて、任意の設計変更に容易に対応することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of simulation patterns is generated by executing simulation using a plurality of lithographic simulation models based on design data of a pattern of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のパターンの設計データに基づいて、複数のリソグラフィシミュレーションモデルを用いたシミュレーションを実行することにより複数のシミュレーションパターンを生成する。 - 特許庁

The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加

方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び／又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁

An orderer computer 300 transmits specification data having a dimension length measuring method for a photomask pattern and master design data through a communication line 500.例文帳に追加

発注者コンピュータ３００から、フォトマスクパターンに対する寸法測長方法とマスク設計データとを有する仕様データが通信回線５００を介して送信される。 - 特許庁

To improve the flexibility of pattern design by using resistors with the same resistance value between any electrodes, in a multi-electrode type resistor for surface mounting.例文帳に追加

表面実装用多電極型抵抗器において、何れの電極間でも同一抵抗値の抵抗として使用できるようにし、パターン設計の自由度を拡大する。 - 特許庁

By virtue of various pattern and design added on Uchiwa fan, Uchiwa fan is used as a tool for various purposes such as a fashion tool for introducing Japanese special feature, an advertising tool for business and others, and a ritual tool for showing 'heraldic emblem and family crest.' 例文帳に追加

日本の風物詩を伝えるおしゃれの小道具、商業などを目的に「宣伝」をする広告の道具、「紋章、家紋」などをあらわす儀式の道具である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This is because tsukesage, which is sold by the roll, is less expensive than a formal kimono with an ebamono design (where the pattern spreads over the kimono without its alignment being disrupted by the seams) so it would be easier to sell to customers. 例文帳に追加

これは価格の張る絵羽物の訪問着より着尺（反物）の状態で売られている付け下げの方が安価なため客に売りやすいという意味もあった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an optical sheet which is used for the back light unit of a liquid crystal display device, has a high-precision gradation pattern as a bright line prevention part, and is easy to design.例文帳に追加

液晶表示装置のバックライトユニットに使用されるとともに、輝線防止部として高精度のグラデーションパターンを備え、しかも設計が簡単な光学シートを提供する。 - 特許庁

To provide a dressed building plate capable of not making a defect position conspicuous and easily repairing it even if the defect is generated on a design pattern formed by ink jet coating.例文帳に追加

インクジェット塗装により形成された意匠模様に欠陥が生じてもこの欠陥箇所を目立たず容易に補修することが可能な化粧建築板を提供する。 - 特許庁

The determined blight transmissive regions or light shielding regions are disposed on each grid and necessary pattern forming energy, focal depth and beam diameter are calculated every grid by CAD(computer aided design) and converted to data.例文帳に追加

決定された光透過領域又は遮光領域を「各グリッド」に配置して、ＣＡＤでグリッドごとに必要な描画エネルギー、焦点深度、ビーム径を計算し、データ化する。 - 特許庁

At any time during the term of the industrial design registration, any person upon payment of the required fee, may petition the Director to cancel the industrial design on any of the following grounds: (a) that the industrial design does not give a special appearance to and can not serve as pattern for an industrial product or handicraft; (b) that the industrial design is not new or original; (c) that the industrial design is dictated essentially by technical or functional consideration to obtain a technical result; (d) that the industrial design is contrary to public order, health or morals; or (e) that the subject matter of the industrial design extends beyond the content of the application as originally filed.例文帳に追加

意匠登録の存続期間中，何人も，所定の手数料を納付して，次の何れかの理由に基づき，意匠の取消を局長に申請することができる。 (a)意匠が工業製品又は手工芸品に特別の外観を与えておらず，これらの模様として機能していないこと (b)意匠が新規又は独創的でないこと (c)意匠が技術的な結果を得るための本質的に技術的若しくは機能的考慮による特徴を主としていること (d)意匠が公の秩序，健康又は善良の風俗に反すること (e)意匠の内容が原出願の内容を超えていること - 特許庁

Pattern assignment units are calculated by dividing the sales number of lottery tickets for every predetermined quantity by using the scheduled number of winning, and a plurality of design patterns are successively assigned one by one by every predetermined number of division units specified in the pattern assignment units, and the serial numbers of the lottery tickets to which the design patterns are assigned are determined.例文帳に追加

宝くじ券の発売枚数を当せん予定数を用いて所定の分量ごとに分割したパターン割当単位を算出し、該パターン割当単位において特定された所定の数の分割単位ごとに、複数の絵柄のパターンそれぞれを順に１枚ずつ割り当てて、当該絵柄のパターンを割り当てた宝くじ券の通し番号を決定する。 - 特許庁

The business model design support system calculates requisite fitness to each player requisite of any business pattern from business unit characteristic of each player candidate, using business pattern DB (Database) 111 which records beforehand player type names of a business pattern and player requisites for every player type and player list DB (Database) 112 which memorizes beforehand player candidate names and business unit characteristics.例文帳に追加

ビジネスパターンのプレイヤタイプ名とタイプ毎のプレイヤ要件とを予め記録したビジネスパターンＤＢ１１１と、プレイヤ候補名とその事業体特性値とを予め記憶したプレイヤリストＤＢ１１２とを用い、各プレイヤ候補の事業体特性値から任意のビジネスパターンの各プレイヤ要件への要件適合度を算出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a washing-place floor for a bathroom which has a surface material excellent in design and capable of easily matching a concavo-convex pattern formed on the surface with a grid pattern when applying the grid pattern on the surface of the washing place floor, and to provide its surface material.例文帳に追加

本発明は、洗い場床表面に格子模様を施すにあたって、表面に形成された凹凸パターンと、格子模様とを容易に一致させることが可能なデザイン性に優れる表面材を有する浴室用洗い場床、およびその表面材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an irregular decorative pattern (embossing) giving technique to a surface of a decorative sheet such as building material and furniture, a method for retouch an embossing size and an aim in tuning an emboss pattern and a design in an emboss hologram pattern giving technique high in designability for preventing forgery, and a continuous embossing machine that can achieve the above.例文帳に追加

建材や家具などの化粧シートの表面への凹凸装飾パターン（エンボス）付与技術、および偽造防止向けの意匠性の高いエンボスホログラムパターン付与技術における、エンボスパターンと絵柄の同調におけるエンボス寸法・見当の修整方法およびそれを実現できる連続エンボス機を提供する。 - 特許庁

The method of generating a design layout pattern of a semiconductor aims to generate by a projection optical system a layout pattern in which wiring lines are designed in the same pitch on a wafer, and the method includes a process of making uniform wiring line end parts 101 of the layout pattern 100 and the opposition space 101a between patterns formed in this wiring line direction.例文帳に追加

ウェハ上に配線ラインが等ピッチで設計されているレイアウトパタンを投影光学系により形成するための半導体設計レイアウトパタン生成方法であって、レイアウトパタン１００の配線ライン端部１０１とこの配線ライン方向に配置されたパタン間の対向スペース１０１ａを均一化する工程を含む。 - 特許庁

In this design and producing method of semiconductor integrated circuit in which plural semiconductor integrated circuits having the stored ROMs which are different in data to be stored are formed on one sheet of wafer, the ROM pattern is formed by being synthesized with the common pattern among plural semiconductor integrated circuits other than the said pattern.例文帳に追加

各々記憶するデータが異なる内蔵ＲＯＭを有する複数の半導体集積回路を１枚のウェハ上に形成する半導体集積回路の設計、製造方法において、ＲＯＭパターンを、当該パターン以外の複数の半導体集積回路間で共通のパターンと合成して形成するようにした。 - 特許庁

To provide a trial article whereon a demanded minute roughness pattern is easily formed in a short preparation period for demands for diversified minute roughness patterns, and to provide, based on this trial article, the trial article with the minute roughness pattern which enables an exact evaluation of a design including the minute roughness pattern, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

多様化した微細凹凸模様の要求に対して、簡易に短い作製期間で、要求された微細凹凸模様が形成された試作品を提供し、この試作品により、微細凹凸模様を含めた設計を正確に評価することができる微細凹凸模様付試作品及びその製作方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, whereby in the semiconductor device using a gate electrode such as SRAM, a gate electrode pattern is formed faithful to a reticle pattern, without making complicated layout design, and the region of the gate electrode pattern is reduced, as compared with prior art.例文帳に追加

ＳＲＡＭのようなゲート電極を用いる半導体装置において、複雑なレイアウト設計を経ないでレティクルパターンに忠実にゲート電極パターンが形成され、しかもこのゲート電極パターンの面積が従来より低減されて形成される半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An element shape pattern which is formed every working partition of a print mask material 60 is specified based on working shape data relating a kind, a dimension and a forming position on the print mask material 60 of a working shape which composes a working pattern incorporated in design data (garber data) of the working pattern formed in the print mask material 60.例文帳に追加

印刷マスク材６０に形成する加工パターンの設計データ（ガーバーデータ）に含まれる該加工パターンを構成する加工形状の種類、寸法及び印刷マスク材６０上での形成位置に関する加工形状データに基づいて、印刷マスク材６０の各加工区画ごとに形成する要素形状パターンを特定する。 - 特許庁