「Design correction」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

MANUFACTURING PROCESS OF DESIGN BASE MATERIAL, CORRECTION PROGRAM OF DESIGN PRINTING DATA AND MANUFACTURING SYSTEM OF DESIGN BASE MATERIAL例文帳に追加

意匠性基材の製造方法、意匠印刷データ補正プログラム、及び意匠性基材製造システム - 特許庁

COLOR CORRECTION PROGRAM FOR PRODUCING UNIVERSAL DESIGN VISUAL INFORMATION例文帳に追加

視覚情報をユニバーサルデザイン化する色修正プログラム - 特許庁

When it is determined that the correction result violates the design rule, wiring correction processing is executed again.例文帳に追加

デザインルールに違反していると判定された場合、再度配線修正処理を実行する。 - 特許庁

PROPERTY CORRECTION PROGRAM, PROPERTY CORRECTION METHOD, AND LSI DESIGN PROCESSOR USING THE METHOD例文帳に追加

プロパティ修正プログラム及びプロパティ修正方法及びこの方法を用いたＬＳＩ設計処理装置 - 特許庁

DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR DESIGN CORRECTION例文帳に追加

設計修正装置、設計修正方法及び設計修正プログラム - 特許庁

PATTERN CORRECTION DEVICE, PATTERN OPTIMIZATION DEVICE, AND INTEGRATED CIRCUIT DESIGN DEVICE例文帳に追加

パターン修正装置、パターン最適化装置及び集積回路設計装置 - 特許庁

The route design processing unit 233 again processes to design the route based on the route design request item after the correction for each route.例文帳に追加

経路設計処理部２３３は各経路についての修正後の経路設計要求事項を基に再度経路設計処理を行う。 - 特許庁

DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN PATTERN CORRECTION SYSTEM, AND DESIGN PATTERN CORRECTING PROGRAM例文帳に追加

設計パターン補正方法、マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法、設計パターン補正システム、及び設計パターン補正プログラム - 特許庁

(5) An amendment of an application for the registration of a design, or the registration of a design, may be allowed if it is by way of correction, including the correction of a mistake.例文帳に追加

(5) 意匠登録出願又は意匠登録の補正は，それが誤記の訂正を含む訂正によるものである場合に認めることができる。 - 特許庁

Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.例文帳に追加

一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁

Then OPC correction to the altered original design pattern is performed and an OPC correction pattern is formed.例文帳に追加

次に、変更後のオリジナル設計パターンに対してＯＰＣ補正が行われ、ＯＰＣ補正パターンが形成される。 - 特許庁

LSI DESIGN SYSTEM, LOGIC CORRECTION SUPPORT APPARATUS, LOGIC CORRECTION SUPPORT METHOD USED FOR THEM AND ITS PROGRAM例文帳に追加

ＬＳＩ設計システム、論理修正支援装置及びそれらに用いる論理修正支援方法並びにそのプログラム - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT DESIGN PATTERN DATA AND PHOTOMASK MADE BY PATTERN DATA OBTAINED BY THIS CORRECTION METHOD例文帳に追加

半導体回路設計パタンデータの補正方法、該補正方法により得られたパタンデータにより作製されたフォトマスク - 特許庁

Further, batch correction processing of the design data is carried out according to the received correction information.例文帳に追加

さらに、受け取られた補正情報に基づいて、設計データに対する一括の補正処理を行うようにする。 - 特許庁

To collect evaluations for impressions that a user has received from a design and to perform correction to a design based on a target.例文帳に追加

デザインからユーザが受けた印象について、評価を収集し、目標に即したデザインへの修正を可能にする - 特許庁

To carry out OPC (optical proximity correction) altogether even when layouts having different design rules are included.例文帳に追加

設計ルールの異なるレイアウトを含む場合でも、ＯＰＣ補正を一括で行う。 - 特許庁

LAYOUT CORRECTION/LIBRARY CELL REPLACEMENT MODULE AND EDA TOOL FOR SEMICONDUCTOR DEVICE DESIGN例文帳に追加

レイアウト修正・ライブラリセル置換モジュール及び半導体装置設計用ＥＤＡツール - 特許庁

To provide a temperature characteristic correction circuit which is used as circuits having various temperature dependent characteristics through an easy design change.例文帳に追加

容易な設計変更で様々な温度依存性を有する回路に対応する。 - 特許庁

To provide a novel method for the design and construction of a spectacle lens for the correction of human vision, including the correction of high order aberrations.例文帳に追加

高次収差の矯正を含む人間の視力の矯正用眼鏡レンズの設計と作成のための新規性のある方法。 - 特許庁

The design areal ratio between the maximum design areal ratio and the minimum design areal ratio of the correction plates 47, 53 of the plate to be used for the next printing job is obtained.例文帳に追加

次の印刷ジョブに使用されるべき版の、較正版４７，５３の最大の絵柄面積率と最小の絵柄面積率の間にある絵柄面積率を求める。 - 特許庁

To shorten time for design by eliminating a process of returning to a macro design when correction of the entire circuit design is impossible because of a timing error.例文帳に追加

タイミングエラーによる全体回路設計の修正が不可能であるときにマクロ設計に戻る処理をなくすことにより、設計時間を短縮することを課題とする。 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN DESIGN RESTRICTION DEVELOPING METHOD AND CALCULATION METHOD OF OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION CONDITION例文帳に追加

光近接効果補正方法、光近接効果補正装置、光近接効果補正プログラム、半導体装置の製造方法、パターン設計制約策定方法および光近接効果補正条件算出方法 - 特許庁

To provide a document design correction device and a document design correction program, for presenting whether an image element corrected by a document preparator is intentional or unintentional to the document creator.例文帳に追加

文書作成者が修正したイメージ要素が意図的か非意図的かを文書作成者に提示することができる文書デザイン修正装置及び文書デザイン修正プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a property correction program for correcting a property by detecting the leakage of an illegal pass in the property in the logical design of LSI design, and to provide a property correction method and an LSI design processor using the method.例文帳に追加

ＬＳＩ設計の論理設計においてプロパティ中の不正パスの漏れを検出してプロパティを修正するプロパティ修正プログラム、及びプロパティ修正方法、及びこの方法を用いたＬＳＩ設計処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a source code protection device capable of protecting a source code before correction from the correction of a source code by a program design tool.例文帳に追加

プログラム設計ツールによるソースコードの修正から修正前のソースコードを保護することのできるソースコード保護装置を提供する。 - 特許庁

This reduces design restrictions such as a correction to the shape of the armrest 34.例文帳に追加

したがって、アームレスト３４の形状を修正したりする等の意匠上の制約が少ない。 - 特許庁

DISPLAY DEVICE AND DESIGN DEVICE EACH HAVING AMBIENT LIGHT SOURCE CORRECTION FUNCTION, METHOD OF DESIGNING, AND COLORIMETER UNIT例文帳に追加

環境光源補正機能付きの表示装置とデザイン装置と、デザイン方法、及び測色計ユニット - 特許庁

To reduce the moving quantity of arrangement of a cell in the correction of violation of timing restriction after layout design.例文帳に追加

レイアウト設計後のタイミング制約違反の修正においてセルの配置移動量を削減する。 - 特許庁

A design support device 1 includes an extraction unit 1a, a creation unit 1b and a correction unit 1c.例文帳に追加

設計支援装置１は、抽出部１ａと、作成部１ｂと、修正部１ｃとを有している。 - 特許庁

the name and address of the person seeking the correction and his or her interest in the design 例文帳に追加

訂正を求める者の名称及び宛先並びに当該意匠に係る当該人の権利 - 特許庁

To reflect correction performed by using a transmission line circuit analyzing tool on a logic circuit design tool.例文帳に追加

伝送線路回路解析ツールを用いて行った修正を論理回路設計ツールに反映する。 - 特許庁

To remove the necessity of a clock delay correction to be a design processing amount increment factor and to reduce the developing period, in the design of a logic circuit applying a gated clock design.例文帳に追加

ゲーテッドクロック設計を適用した論理回路の設計において、設計処理量増大要因となるクロック遅延補正の必要性を除去し、開発期間の低減を図る。 - 特許庁

To provide a phase correction optical element which has a simple electrode construction and wherein design of a phase correction profile is easy and has a degree of freedom, to provide an optical pickup apparatus and to provide a phase correction method.例文帳に追加

簡単な電極構成であって位相補正プロファイルの設計が容易で且つ自由度がある位相補正光学素子、光学ピックアップ装置及び位相補正方法を提供する。 - 特許庁

When the lens has the axial chromatic aberration, though it depends on the design of a photographic lens as well, a precise focus position is shifted delicately, so that a correction value is preset and correction is performed with the preset correction value.例文帳に追加

撮影レンズの設計にも依るが、レンズが軸上の色収差を持つ場合、精密なフォーカス位置はそれぞれ微妙にずれるので、予め補正値を持っておいてそれで補正する。 - 特許庁

The correction pattern is generated according to a calculated value of the size (a correction pattern generating part 50) and a corrected layout pattern is generated by adding the correction pattern to a design layout pattern (a graphic calculating part 52).例文帳に追加

その計算値に従って補正パターンを生成し（補正パターン生成部５０）、その補正パターンを設計レイアウトパターンとを加算して補正済レイアウトパターンを生成する（図形演算部５２）。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR SUPPORTING DESIGN OF RECOGNITION RESULT CORRECTION SCREEN AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM WITH PARTS GROUP OF RECOGNITION RESULT CORRECTION SCREEN DESIGN SUPPORT PROGRAM STORED THEREIN例文帳に追加

認識結果修正画面設計支援システム、認識結果修正画面設計支援方法、及び認識結果修正画面設計支援プログラム部品群を記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

In a next size correction quantity determining process (ST15), the size correction quantity of a design pattern of a photomask is determined according to the calculated mean value, so that the transfer pattern has specific design values.例文帳に追加

次の寸法補正量決定工程ＳＴ１５において、算出した平均値に基づいて、転写パターンが所定の設計値となるようにフォトマスクの設計パターンの寸法補正量を決定する。 - 特許庁

A designer refers to the user correction data stored in the DB 6 by using a designer terminal 10 and also uses the user correction data for a product design as design data 12.例文帳に追加

設計者は設計者端末１０を使用して、ユーザ修正データＤＢ６に格納されているユーザ修正データを参照し、また該ユーザ修正データを設計データ１２として製品設計に使用する。 - 特許庁

A first correction component (an amount of OPC correction) of the optical proximity effect is determined from an amount of deviation ΔP from the ideal (design) pattern of the prediction pattern and the amount of the correction is calculated by adding a second correction component (ΔF/MEEF) meeting the simulation error to the first correction component.例文帳に追加

予測パターンの理想（設計）パターンからのずれ量ΔＰから光近接効果の第１補正成分（ＯＰＣ補正量）を求め、当該第１補正成分にシミュレーション誤差に応じた第２補正成分（ΔＦ／ＭＥＥＦ）を付加して補正量を算出する。 - 特許庁

A design pattern to be formed on an induction substrate is set (S21), and the correction of a pattern shape for correcting the proximity effect is calculated regarding the design pattern (S22).例文帳に追加

感応基板上に形成すべき設計パターンを設定（Ｓ２１）し、それについて近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する（Ｓ２２）。 - 特許庁

On the basis of this result, condition change such as change of a design, correction of a paper pattern, or change of the cloth is performed and design of optimal clothing accessories is supported.例文帳に追加

この結果に基づいてデザインの変更、型紙の修正、生地の変更などの条件変更を行い、最適な衣料服飾品の設計を支援する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁

Thus, the correction of the file and the simulation are repeated to design the IC (steps 202 to 211).例文帳に追加

このようにして、ファイルの修正とシミュレーションを繰り返して、ＩＣを設計する（ステップ２０２〜２１１）。 - 特許庁

The logical design support device 1 then extracts the difference between the check result before the correction and the check results after the correction in which each of the message formats are replaced.例文帳に追加

そして、論理設計支援装置１は、メッセージのフォーマットが置換された修正前チェック結果と修正後チェック結果との差分を抽出する。 - 特許庁

To enhance flexibility of design by securing responsibility to various correction technique and responsibility to many models regarding correction of horizontal crosstalk.例文帳に追加

横クロストークの補正に関して、様々な補正手法への対応性と多機種への対応性とを確保にすることで、設計のフレキシビリティの向上を図る。 - 特許庁