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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Design correctionの意味・解説 > Design correctionに関連した英語例文

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Design correctionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 289



例文

To provide a design device for a gearwheel pair by which design tooth surface correction quantity for machining a satisfactory gearwheel pair resistant to a practical use in high yield independently of the experience of an operator.例文帳に追加

実用に耐え得る良好な歯車対を歩留まり良く加工するための設計歯面修正量を、オペレータの経験に依存することなく容易に設定できる歯車対の設計装置を提供する。 - 特許庁

To design wiring in which occurrence of EM is remarkably suppressed, without incurring problems such as expansion in circuit area, suspension of design time or difficulty of correction for large-scaled circuits.例文帳に追加

回路の面積の増大や、設計時間の長期化や、大規模な回路の場合における修正の困難性などの問題が発生することなく、EMの発生が著しく抑制された配線を設計する。 - 特許庁

Data checked by a first design rule 1 of design data of a pattern to be formed within a semiconductor device is corrected based on a correction guideline 5, and subjected again to the first desiging rule check.例文帳に追加

半導体装置内に形成されるパターンの設計データのうち第1のデザインルール1によるチェックが済んだデータを修正指針5に基づいて修正し、再び第1のデザインルールチェックにかける。 - 特許庁

To provide a design support system enabling a worker to correct drawing data while acquiring the correction procedure of the drawing data to efficiently improve the appearance of a quasi-design surface.例文帳に追加

作業者が図面データの修正要領を把握しながら図面データを修正することができ、準意匠面の見映えを効率的に改善することができる設計支援システムを提供する。 - 特許庁

例文

In performing the correction of proximity effect to a design pattern with which the structural layer of a semiconductor device can be designed, first, a plurality of divided areas DA are formed by dividing the whole area of a design pattern.例文帳に追加

半導体装置の構成層を設計する設計パターンに近接効果の補正をするにあたって、まず、設計パターンの領域全体を等分して複数の分割領域DAを生成する。 - 特許庁


例文

To provide a pattern forming method, capable of efficiently and uniformly performing formation and correction of pattern design data along a production process of semiconductor device or a request on pattern design process.例文帳に追加

パターンの設計データの作成および修正を、半導体装置の製造プロセスやパターン設計プロセス上の要請に沿って効率良く、かつ、均一に行うことができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁

And by calculating the offset distribution after the dry etching which uses the microloading effect (S5) and oversizing or under sizing the acquired design data according to the offset distribution, the design data after the correction is acquired (S6).例文帳に追加

そして、マイクロローディング効果によるドライエッチング後のオフセット分布を計算し(S5)、得られたオフセット分布に基づいて設計データをオーバーサイジングおよびアンダーサイジングすることで、補正後の設計データを得る(S6)。 - 特許庁

To securely and easily perform proximity effect correction while making an LSI fine as desired when a circuit design pattern having a plurality of overlapping design patterns is evaluated.例文帳に追加

互いに重なり合う複数の設計パターンを有する回路設計パターンの評価において、LSIに対して所望の微細化を図りながら近接効果補正を確実且つ簡単に行なえるようにする。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for accurately transferring a circuit pattern based on circuit design data, and to provide a mask pattern correction device, a circuit design device and a program for correcting the mask pattern.例文帳に追加

回路設計データに基づいた回路パターンを正確に転写するマスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラムマスクパターンを提供する。 - 特許庁

例文

At the time of editing a program code by an automatic program formation part 14 and a coding part 15 based on design information prepared by a basic design part 12 and a detailed design part 13, an automatically generated program code is prevented from correction or the like and consistency between the design information and the program code is secured.例文帳に追加

基本設計部12及び詳細設計部13で作成された設計情報に基づいてプログラム自動生成部14及びコーディング部15でプログラムコードを編集する際に、自動生成されたプログラムコードについてはその修正等ができないようにし、設計情報とプログラムコードとの一貫性を確保する。 - 特許庁

例文

A damping water required amount m required for correction speed vE_in is obtained concerning correction plates 47, 53 the design areal ratios of which are known and are minimum and maximum respectively and are made to be interpolation points 59, 61.例文帳に追加

絵柄面積率が既知でそれぞれ最小、最大である較正版47と較正版53について較正速度V_Einで必要な湿し水所要量mを求め、補間節点59,61とする。 - 特許庁

A logical design support apparatus 1 specifies a positional relationship between a description position of an uncorrected description place out of description place of logical description after a correction and a description position of description place of logical description before a correction.例文帳に追加

論理設計支援装置1は、修正後の論理記述の記述箇所のうちの未修整箇所の記述位置と、修正前の論理記述の記述箇所の記述位置との位置関係を特定する。 - 特許庁

In wiring, it is preferable to obtain a correction value in advance from the design data of a fiber length and the measured value of the optical fiber length obtained in real wiring so as to carry out the going around wiring in consideration of the correction value.例文帳に追加

好ましくは、布線の際、予めファイバ長の設計値と実際に布線して得られた光ファイバ長の測定値から補正値を求め、この補正値を考慮して周回布線する。 - 特許庁

To provide a method for verifying optical proximity effect correction using a layout-to-layout inspection method that enables accurate and precise inspection of differences between an original design of a semiconductor device and a revised design of the semiconductor device and verification of accuracy of the optical proximity effect correction by considering exposure conditions.例文帳に追加

露光条件を考慮することで、半導体の原デザインと半導体の修正デザインとの間の差異点及び光学近接効果補正の正確度を正確かつ精密に検査できるレイアウト対レイアウト検査方法を用いた光学近接効果補正の検証方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of design values among design values assigned to for a correction calculation expression for correcting the geometric measurement error carried originally by the measuring device 10 are used as variables, and the variables are optimized by numerical analysis, and a measured value is operated by using the acquired optimum correction calculation expression.例文帳に追加

測定装置10が本来有する幾何学的な測定誤差を補正する補正計算式に代入された設計値のうちの複数の設計値を変数として、その変数を数値解法により最適化し、得られた最適補正計算式を用いて測定値を演算するようにした。 - 特許庁

Reference design patterns in a plurality of types are subjected to correction processes using a mathematical model in a plurality of times for the respective parameters to calculate a plurality of corrected reference design patterns on each reference design pattern of a plurality of types.例文帳に追加

複数種類の標準設計パターンそれぞれに対して、数式モデルを用いた補正処理を複数のパラメータの値それぞれで複数回行うことにより、複数種類の標準設計パターンそれぞれ毎に複数の補正後標準設計パターンを算出する。 - 特許庁

To provide a software design verification device for automatically verifying the consistency of software design sheets, and for reducing correction costs due to return and a verification program and a verification target program to be used for this software design verification device.例文帳に追加

本発明は、ソフトウェア設計書間の整合性検証を自動的に行い、手戻りによる修正コストを低減することが可能なソフトウェア設計検証装置ならびにそれに用いる検証プログラムおよび検証対象プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The logical design support device 1 then specifies a position that corresponds to the check result before the correction and the check result after the correction using the specified positional relationship, and replaces a message so that a message format of the check result before the correction located at the specified position matches a message format of the check result after the correction.例文帳に追加

そして、論理設計支援装置1は、特定された位置関係を用いて、修正前チェック結果と修正後チェック結果とが対応する位置を特定し、特定した位置に所在する修正前チェック結果のメッセージのフォーマットを修正後チェック結果のメッセージのフォーマットに一致するようにメッセージを置換する。 - 特許庁

The design support device is configured to add the output side time constant of the object cell to the correction object elapsed time in order to correct the elapsed time.例文帳に追加

設計支援装置は、補正対象の経過時間に対象セルの出力側の時定数を加算することにより、該経過時間を補正する。 - 特許庁

To provide a layout editor which is difficult to make correction errors in elimination working of a layout diagram in a mask layout design for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のマスクレイアウト設計でのレイアウト図形の消去作業において、修正ミスの起こり難いレイアウトエディタを提供する。 - 特許庁

Then, a zero point position correction value (Δx, Δy) for reducing the root mean value of the measuring error ΔZa as compared with a permissible value in terms of design is obtained.例文帳に追加

次に、測定誤差ΔZ_aの二乗平均値を設計上の許容値よりも小さくする原点位置補正値(Δx,Δy)を求める。 - 特許庁

This method of high order aberration correction is also applicable for the design of contact lenses and intra-ocular lenses, and for the execution of refractive eye surgery.例文帳に追加

高次収差の矯正のこの方法は、コンタクトレンズ及び眼内レンズの設計のため、及び眼の屈折手術の実施のためにも適用できる。 - 特許庁

A button and a roller structure are installed, independently on the COB module, and design flexibility of the optical mouse is widened significantly, design alteration cost is reduced, and position aiming and correction requirement during production are lowered.例文帳に追加

ボタン及びローラー構造をCOBモジュールに独立設置する他、光学マウスの設計自由性を大幅に広げ、設計変更コストを削減、製造時の位置照準及び修正要求を低下させるものである。 - 特許庁

The design process module processing part 100 comprises a design process module DB 119, a data retrieval part 110, a data working part 11 as process information forming part, a module editing part (display, editing and execution part, automatic changing part) (design parameter correction part) 112, and a data transfer control part 113.例文帳に追加

設計プロセスモジュール処理部100は、設計プロセスモジュールDB119と、データ検索部110と、プロセス情報作成部としてのデータ加工部111と、モジュール編集部(表示・編集・実行部、自動変更部)(設計パラメータ修正部)112と、データ転送制御部113とからなる。 - 特許庁

The file processing unit 231 lists the route design request item for the plurality of the routes of the route design request storage unit 241, displays the result of the route design in an additional form in an output unit 213, and receives a correction to the list by an input unit 214.例文帳に追加

ファイル処理部231は経路設計要求格納部241の複数経路についての経路設計要求事項をリスト化して出力装置213に経路設計の結果を付加した形で表示させ、入力装置214によりそのリストへの修正を受け付ける。 - 特許庁

Since the pattern formation data 91 include a basic pattern part 911 and the correction rule part 913, the basic pattern and the correction rule on pattern formation are defined individually, which easily improves design efficiency of a pattern.例文帳に追加

パターン形成用データ91は、基礎パターン部911と補正ルール部913とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。 - 特許庁

To solve problems in layout design of a custom core such as memory core or analog core, in which it is difficult to recognize current information during manual layout design, and layout design based on electromigration becomes further difficult, resulting in increased man-hours for correction after layout design since a rule for electromigration is complicated due to segmented processes.例文帳に追加

メモリやアナログなどのカスタムコアのレイアウト設計では、人手によるレイアウト設計が多く、レイアウト設計中に電流情報の認識が困難であり、またエレクトロマイグレーションに関するルールがプロセスの微細化により複雑化するため、エレクトロマイグレーションを守ったレイアウト設計がより困難となり、レイアウト設計後の修正工数が大きい。 - 特許庁

To simplify correction and adjustment of operating timing between components in the design and development of an LSI having the components with a different characteristic by logical processing.例文帳に追加

特性の異なる下地が存在するLSIの設計及び開発における下地間の動作タイミングの補整を論理的な処理によって簡略化する。 - 特許庁

To provide a layout design device for achieving a layout capable of reducing power consumption by one-time layout-correction processing while satisfying timing restrictions.例文帳に追加

タイミング制約を満足させつつ、消費電力量を削減できるレイアウトを、1度のレイアウト修正処理で実現できるレイアウト設計装置を提供する。 - 特許庁

The data processing in the computer-aided design (CAD) system includes determination that a feature of a three-dimensional model has conditions which need correction.例文帳に追加

コンピュータ支援設計(CAD)システムにおけるデータ処理は、3次元モデルのフィーチャが、訂正を必要とする条件を有しているという決定を含む。 - 特許庁

11.4. If the amendment or correction is determined to have changed the substantial matter of the invention or industrial design, the applicant should file a new application.例文帳に追加

11.4. 変更又は訂正が発明又は意匠の実質的な事項を変更するものと認められる場合、出願人は新しい出願をしなければならない。 - 特許庁

To provide a timing error correction method capable of eliminating surely a holding error and a set-up error of an integrated circuit designed by a hierarchization design method.例文帳に追加

階層化設計手法で設計される集積回路のホールドエラー及びセットアップエラーを確実に解消し得るタイミングエラー修正方法を提供する。 - 特許庁

Tone correction corresponding to a recording medium and a proper toner providing amount are determined by carrying out color design using a recording medium having a desired color and a white toner.例文帳に追加

所望の色の記録媒体と白色トナーを用いた色設計を行うことで、記録媒体に応じた階調補正と適正なトナー付与量を決定する。 - 特許庁

To enhance the efficiency of circuit design by reducing a wiring correction work in layout of a semiconductor integrated circuit, while preventing a chip size from becoming redundantly large.例文帳に追加

チップサイズが冗長に大きくなることを抑えながら、半導体集積回路のレイアウトにおける配線修正作業を減らし、回路の設計を効率化する。 - 特許庁

To provide a CAM design system capable of automating and automatically checking a series of manual operation such as an optimum blank layout, a test pattern design, a correction of a change in dimension, a confirmation of a manufacturing constraint, and a writing of a manufacturing work instruction or the like.例文帳に追加

板取の最適レイアウト、テストパターン設計、寸法変化の補正、製造上の制約確認、製造作業指示書の作成など、一連の人手介入作業を自動化し、自動チェックするCAM設計システムを提供する。 - 特許庁

To enable measurement of a surface shape, even when design values of the surface shape is defined by a plurality of functions, as a shift amount from the design values of the surface shape after conducting an alignment correction of the measurement data.例文帳に追加

表面形状の設計値が複数の関数によって定義される場合にも、測定データのアライメント補正を行った上で被測定体の表面形状の設計値からのずれ量として測定することができるようにする。 - 特許庁

When the precision measurement result of a lens surface shape is not within the tolerance, the correction quantity of the forming mold is found on the basis of the precision measurement result and design data of the forming mold (forming mold correction quantity calculation section 152).例文帳に追加

レンズ面形状の精度測定結果が公差内に入っていない場合は、その精度測定結果と成形型の設計データとに基づいて成形型の修正量が求められる(成形型修正量算出部152)。 - 特許庁

For the design, the first bias correction of widening the shifter part opening width of the light shielding film from both sides, the second bias correction of narrowing the non-shifter part opening width of the light shielding film to both sides, and the prescribed amount of an undercut part are arranged.例文帳に追加

設計デザインに対し、遮光膜のシフター部開口幅を両側から広げる第1のバイアス補正と、更に、遮光膜の非シフター部開口幅を両側へ狭める第2のバイアス補正と、且つ、所定量のアンダーカット部を設ける。 - 特許庁

When a program code is generated, the difference information of pre-correction and post-correction design drawings and definition information in the range where the generated program code is affected by the difference information are used for realizing generation or erasure of a partial program code.例文帳に追加

プログラムコード生成に際して、修正前と修正後の設計図面の差分情報と、差分情報が生成プログラムコードに影響を与える範囲の定義情報を用い、部分的なプログラムコードの生成または削除を実現する。 - 特許庁

To provide a program for making it unnecessary for a user to operate the position correction of component number or component name performed by a user himself to the previously automatically generated design drawing even when a design drawing is automatically generated again by changing layout, and for reflecting it on the design drawing automatically generated this time.例文帳に追加

レイアウトの変更により設計図を再度自動生成させた場合であっても、前回自動生成させた設計図に対して使用者自らが行った部品番号及び部品名の位置修正に関して操作することなく、今回自動生成された設計図に対して反映することができるプログラムを提供する。 - 特許庁

Position correcting pads 15a to 15c for obtaining the correction amount for correcting position shifting from a design value of each pad 13 are provided in at least three points on a test board.例文帳に追加

テストボード上の少なくとも3点には各パッド13の設計値からの位置ずれを補正するための補正量を求める位置補正用パッド15a〜15cが設けられる。 - 特許庁

When the CD design value is equal to the predetermined value or lower, the aforementioned one pattern is exposed using a second dose, which is obtained by adding a correction dose to the first dose.例文帳に追加

前記CD設計値が前記所定値以下であれば、前記第1ドーズ量に補正ドーズ量を加えて得られる第2ドーズ量で前記一つのパターンを露光する。 - 特許庁

To provide a semiconductor mask layout pattern correction/verification device capable of verifying/correcting a pattern by a margin value different from a normal design reference value in the open end part of wiring.例文帳に追加

配線の開放端部においては、通常の設計基準値とは別個の余裕値でパターンの検証・補正が行える半導体マスクレイアウトパターン補正・検証装置を得る。 - 特許庁

To design a processing having a data amount such as wiring correction, and depending on a processing speed, by use of a low cost computer having a low processing capacity and a small amount of memory.例文帳に追加

配線修正などのデータ量が処理速度に依存する処理を、処理能力の低く、少ないメモリを搭載した安価なコンピュータで設計可能にする。 - 特許庁

The design support device is configured to determine the elapsed time of a Vds (output voltage) calculated by Vds<Vgs(input voltage)-Vth(gate threshold voltage) as a correction object elapsed time.例文帳に追加

設計支援装置は、Vds(出力電圧)<Vgs(入力電圧)−Vth(ゲート閾値電圧)であるVdsの経過時間を補正対象の経過時間に決定する。 - 特許庁

By making a pattern design using this configuration, without using spare cells, the logic correction after making the mask can be made only by the change of the wiring layer.例文帳に追加

この構成でパターン設計を行うことにより、予備のセルを使うことなく、マスク作成後の論理修正を配線層のみの変更で行うことが可能となる。 - 特許庁

To acquire the correction information of a program as logical coordination on a design desired by a developer without performing the manual source code analysis of a program file.例文帳に追加

人手によるプログラムファイルのソースコード解析を行うことなく、開発者が望む設計上の論理的なまとまりとしてプログラムの修正情報を得ることができるようにする。 - 特許庁

(a) the correction of any clerical error or error in translation in any certificate of registration, application for the registration of a design or document lodged in pursuance of such application, or in the register;例文帳に追加

(a) 登録証,意匠登録出願若しくは当該出願に伴なって提出される書類又は登録簿における誤記又は翻訳の誤りの訂正 - 特許庁

To provide a system for receiving the data of an original from a customer and executing operation such as the reading and correction of design and block copy data and the check of correcting positions through an on-line.例文帳に追加

顧客からのデータ入稿を受け付け、デザイン及び版下データの閲覧や修正、修正箇所の確認などの作業をオンラインで行うシステムを提供する。 - 特許庁

例文

To enable a user to perform fine correction to a layout without damaging the design property of existing layout by a document edition device equipped with an image layout function.例文帳に追加

画像レイアウト機能を備えた文書編集装置で、既存のレイアウトの持つデザイン性を損なうことなく、ユーザがレイアウトに対して微修正を施すことを可能とする。 - 特許庁




  
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