「Design correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In order to seek the "deepening economic unification "and "correction of development gaps" at the same time, a space design to connect the infrastructure development and industrial location is formulated by using economic theory.例文帳に追加

「経済統合の深化」と「開発格差の是正」を同時に追求すべく、経済理論を用いインフラ開発と産業立地を関連付ける空間デザインを策定。 - 経済産業省

Thereafter, an error between the position of the working part 15 of the robot 12 and the design designating position (designated point 9) is computed and correction instruction is made to the robot 12 so that the position of the working part 15 of the robot 12 matches with the design designating position in accordance with the error.例文帳に追加

そして、ロボット１２の作業部１５の位置と設計指定位置（指定点９）との誤差を計算し、その誤差に基づいて、ロボット１２の作業部１５の位置が設計指定位置に一致するようロボット１２に対し補正指示を出す。 - 特許庁

To provide a correction method for a design pattern 31 by which a moving amount to move edges E01 to E24 of a design pattern 31 of a semiconductor device can be accurately calculated so as to form a real pattern of the semiconductor device as desired on a wafer.例文帳に追加

半導体装置の実パタンがウェハ上に所望どおりに形成されるように、半導体装置の設計パタン３１のエッジＥ０１乃至Ｅ２４を移動させる移動量を正確に算出できる設計パタン３１の補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light proximity effect correcting device for a semiconductor production process, capable of performing the sufficient light proximity effect correction even under various conditions in the size and shape of a design pattern and the space width and positioning relationship between the design patterns.例文帳に追加

設計パターンの大きさ・形状や、設計パターン同士のスペース幅や位置関係が多様な状況下においても、十分な光近接効果補正を行うことのできる、半導体製造プロセスの光近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

Then, the refraction part of the diffraction optical element OE corrects an aberration component obtained by compositing the aberration component of the design reference wavelength of the diffraction optical element OE displaced with the correction and the aberration component of the design reference wavelength of the dioptric element RE.例文帳に追加

そして、回折光学素子ＯＥの屈折部は、補正に伴って変位した回折光学素子ＯＥの設計基準波長の収差成分と屈折光学素子ＲＥの設計基準波長の収差成分を合成した収差成分を補正する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic [440], design rule check [450], optical process correction [430], and phase mask shift assignment [420]).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図［４４０]、設計ルールチェック[４５０]、光学プロセス修正[４３０]、位相マスクシフト割り当て[４２０]）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic 440, design rule check 450, optical process correction 430, and phase shift mask assignment 420).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図４４０、設計ルールチェック４５０、光学プロセス修正４３０、位相マスクシフト割り当て４２０）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

To provide a circuit block having a skew correction function capable of executing partial synchronization-design in a function circuit (circuit block) unit, capable of carrying out exactly skew correction between respective function circuits connected each other, at a low electric power consumption, and capable of preventing system performance from getting worse.例文帳に追加

機能回路（回路ブロック）単位に部分的な同期設計を行い、相互に接続された各機能回路間のスキュー補正を、的確にかつ低消費電力で行い、システム性能の低下を防止するスキュー補正機能を有する回路ブロックを提供する。 - 特許庁

A mask correction unit 3 is determined in accordance with the space dependence 7 of a pattern obtained through photolithography and etching steps, design data 1 for producing a photomask are corrected using the mask correction unit 3 and the objective photomask is produced with a pattern forming device.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性７に基いてマスク補正単位３を決定し、このマスク補正単位３を用いてフォトマスク作成用の設計データ１に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。 - 特許庁

A correction means 22 compares the exposure pattern 32 calculated by the calculation means 21 and the design data 30 with each other to correct the mask pattern data 31 generated by the generation means 20.例文帳に追加

補正手段２２は、算出手段２１によって算出された露光パターン３２と、設計データ３０とを比較し、作成手段２０によって作成されるマスクパターンデータ３１を補正する。 - 特許庁

Therefore, for all buildings, the strength of especially even an irregular building can be accurately calculated, thus achieving an efficient design operation with less correction.例文帳に追加

したがって、すべての建物について、特に非整形な建築物であっても、その強度を正確に計算でき、手戻りの少ない効率的な設計作業を実現することができる。 - 特許庁

A management means 110 permits access (information reference, upward correction) to the storage means 113 through the communication means 130 for the design center side and the specific partner side 120 (X).例文帳に追加

管理手段１１０は、設計センタ側及び特定パートナー側１２０（Ｘ）に対して、記憶手段１１３への通信手段１３０を介したアクセス（情報参照、上方修正）を許可する。 - 特許庁

To provide a method for correcting optical proximity effect and an apparatus therefor for carrying out optical proximity effect correction in a layout design pattern having a minute level difference without degrading the accuracy.例文帳に追加

微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行える光近接効果補正方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of cell libraries are laid to design a mask pattern and the correction amount by the OPC applied to the cell library is changed by considering the influences of cell library patterns laid in the periphery.例文帳に追加

複数のセルライブラリを配置してマスクパターンを設計し、セルライブラリに施されたＯＰＣの補正量を、周囲に配置したセルライブラリのパターンの影響を考慮して変化させる。 - 特許庁

A table producing means 43 creates a table 53 showing the mutual relation of the design dimension Wd, the finish dimension Wf and the correction dimension δ based on the selection result 52.例文帳に追加

テーブル作成手段４３は、選択結果５２に基づいて、設計寸法Ｗｄ、仕上り寸法Ｗｆおよび補正寸法δが相互に関連付けられたテーブル５３を作成する。 - 特許庁

To provide a color correction apparatus for detecting a color arrangement difficult to discriminate for color vision impaired people in a color design or a color signal and making the color arrangement distinguishable.例文帳に追加

本発明は、カラーデザインやカラー信号の中にある色覚異常者が識別しにくい配色を検出し、それらを区別できるようにする装置を提案しようとするものである。 - 特許庁

Then, a correction factor (S103) which is first-order correlation coefficient of electrical resistance to the wiring width and design specification variation (S104) are calculated at every wiring width and every wiring space.例文帳に追加

そして、配線幅、配線間隔毎に、配線幅に対する電気抵抗の一次の相関係数である補正ファクタ（Ｓ１０３）と設計寸法変動量（Ｓ１０４）を算出する。 - 特許庁

To provide a design method, with which the correction of an existing circuit or insertion of a new circuit between circuit blocks can be easily performed when designing an integrated circuit device while utilizing an IP.例文帳に追加

ＩＰを利用した集積回路装置の設計において、既存の回路の修正や回路ブロック間への新たな回路の挿入を容易に行ないうる設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a design support system having a knowledge database aimed at color correction allowing for the harmony between objects, and capable of providing support information without limiting data transfer time.例文帳に追加

オブジェクト相互の調和を考慮したカラー修正を目的とした知識データベースを備え、データ転送時間の制約なく、支援情報を提供することのできるデザイン支援システムを提供する。 - 特許庁

As a result, the characteristics of an optimum solid state image sensing element can be obtained by performing feedback for the measured result as design information or as a correction value to a manufacturing process.例文帳に追加

したがって、この測定結果を設計情報としてフィードバックするか、製造工程への補正値としてフィードバックすることで、最適な固体撮像素子の特性を得ることができる。 - 特許庁

Also, it is possible for a user to place a system order as he wants without any skill for the design or program, and to prevent the increase of developing costs or periods due to the subsequent additional correction.例文帳に追加

また、ユーザーはデザイン及びプログラムのスキルを必要とせずに思い通りのシステムオーダーができる、後からの追加修正による開発費用及び期間の増加も防止できる。 - 特許庁

In drawing, the correction time Δt is added to the irradiation time (ON-state time of each LD1) of each laser beam 5 designated based on the design data to obtain the irradiation time of each LD1.例文帳に追加

描画時、設計データに基づいて指定される各レーザビーム５の照射時刻（各ＬＤ１をＯＮする時刻）に補正時間Δｔを加算して各ＬＤ１の照射時刻とする。 - 特許庁

A pattern smaller than four times as large as the amount of fading of a charged particle beam used in a primary exposure process is extracted from the design patterns, and a pattern shape correction for correcting a proximity effect is calculated.例文帳に追加

この設計パターンの内、一次露光を行う際の荷電粒子ビームのボケ量の４倍より小さいパターンを抽出し、近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する。 - 特許庁

In such an optical head 10, the environmental temperature hardly becomes lower than the 15°C, and the aberration correction becomes unnecessary at low temperature because difference from the design temperature is small.例文帳に追加

このような光ヘッド１０において、環境温度が１５℃より低温となる場合は生じにくく、また、その設計温度との差も小さいため、低温時の収差補正は不要になる。 - 特許庁

At the time, an optimization function for which the combination of an undercut amount and a bias correction amount capable of obtaining a target design dimension is made into a function is obtained, and further, the combination of a prescribed undercut amount UCo, a first bias correction amount αo and a second bias correction amount βo on the function is extracted and decided from the obtained optimization function.例文帳に追加

この際、目的とする設計デザイン寸法を得ることができるアンダーカット量とバイアス補正量の組みを関数化した最適化関数を求め、更に、求められた最適化関数より、この関数上の所定のアンダーカット量ＵＣｏ、第１のバイアス補正量αｏ、第２のバイアス補正量βｏの組みを抽出して決める。 - 特許庁

A request under section 29(3) of the Act for the correction of a mistake in the register, in any certificate of registration, or application for the registration of a design, or any document filed in pursuance of such an application, or in proceedings in connection with any design, shall be made in form 23.例文帳に追加

登録簿，登録証，又は意匠の登録願書若しくは当該出願に従っての届出書類，又は意匠に関連する争訟手続において提出の何等かの書類における過誤の訂正についての法第29条(3)に基づく請求は，様式23を使用して行うものとする。 - 特許庁

The charger has at least one or more internal elements having a previously set design parameter, and a measured parameter obtained by actually measuring the internal elements is used as a new correction parameter instead of the design parameter and variations in the output of the charger are corrected.例文帳に追加

充電器は予め設定した設計パラメータを有する少なくとも１つ以上の内部素子を備え、前記設計パラメータの代わりに、前記内部素子を実測して得た実測パラメータを新たな補正パラメータとして用い、前記充電器の出力のバラツキを補正する。 - 特許庁

In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated.例文帳に追加

実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。 - 特許庁

To provide a lens unit capable of reducing wavefront aberration caused in an optical pickup objective lens even when the refractive index of a glass material is changed by the change of the temperature of the optical pickup objective lens, and to provide an element for aberration correction, and the design method of the element for aberration correction.例文帳に追加

光ピックアップ対物レンズの温度が変化したことにより硝材の屈折率が変化しても、光ピックアップ対物レンズにおいて発生する波面収差を低減することができるレンズユニット、収差補正用素子、及び収差補正用素子の設計方法を提供する。 - 特許庁

The kinds of data are tele-direction correction values and wide-direction correction values in which difference of an actual focus position at the time the object distance is infinite and a focus position on design is obtained every a plurality of zoom positions from a wide end to a tele end and also every moving direction of the zoom lens to these zoom positions.例文帳に追加

データの種類は、被写体距離が無限遠であるときの実際のフォーカス位置と設計上のフォーカス位置との差を、ワイド端からテレ端までの複数のズーム位置毎に、かつそのズーム位置へのズームレンズの移動方向別に取得したテレ方向補正値及びワイド方向補正値とする。 - 特許庁

To provide a disk controller capable of facilitating the design of a data transfer means between elements having different data processing speed and capable of reducing the scale in addition to saving the electric power of a whole circuit including an error correction circuit, by reducing the range of increase/decrease of power consumption in the error correction circuit.例文帳に追加

誤り訂正回路における消費電力の増減幅を小さくし、誤り訂正回路を含めた回路全体の省電力化が図れる上、データ処理速度の異なる要素間のデータ授受手段の設計容易化、小規模化が図れるディスク制御装置の提供。 - 特許庁

When reading the edit content data 21a, the system design information edit support device 1 refers to the correction association rules 23a, and searches the correction content data 22a showing the corrected contents corresponding to the contents indicated by the edit content data 22a.例文帳に追加

システム設計情報編集支援装置１は、編集内容データ２１ａを読み出した場合に、修正内容対応付けルール２３ａを参照し、編集内容データ２２ａの示す編集の内容に対応する修正内容を表す修正内容データ２２ａを、検索する。 - 特許庁

The method includes approximating rounding of at least one corner of an image of the design, generating a representation of the design further to the approximate rounding of the at least one corner, generating an initial representation of a mask utilized to image the design based on the representation, and performing optical proximity correction (OPC) further to the initial representation of the mask.例文帳に追加

この方法は、デザイン像の少なくとも１つのコーナーの丸みを近似する工程と、該少なくとも１つのコーナーの近似した丸みにさらにデザインの描写を生成する工程と、その描写に基づき、デザインを撮像するために利用するマスクの最初の描写を生成する工程と、マスクの最初の描写に光近接効果の補正ＯＰＣをさらに実施する工程とを含む。 - 特許庁

An imaging device 2 has a control unit 110 and a storage unit 111 which preliminarily stores correction information to correct an error between an actual flange back of the imaging device 2 and its design value.例文帳に追加

撮像装置２は、制御部１１０と、記憶部１１１を備え、記憶部１１１は、撮像装置２の実際のフランジバックと設計値との誤差を補正するための補正情報を予め記憶する。 - 特許庁

To provide an automatically corrected watch allowing a user to easily and reliably recognize whether the time correction process is satisfactorily performed or not, and capable of preventing the cost increase and solving the restriction on an external design.例文帳に追加

時刻修正処理が良好に行われているか否かを容易にかつ確実に認識でき、また、コストアップを防止でき、外装デザイン上の制約を解消できる自動修正時計を提供する。 - 特許庁

To improve design efficiency of a pattern by individually defining a basic pattern and a correction rule on pattern formation, in pattern forming data to be used on forming a geometric pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。 - 特許庁

To provide a system for outputting a file with a data structure that can be readily extended, provide a module design, easily cope with future science and technology and simplify debug and correction.例文帳に追加

容易に拡張可能で、モジュール化でき、将来の科学技術への対応が容易で、デバッグ及び修正を簡略化可能なデータ構造を有するファイルを出力するシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device to reduce the time required for verifying DRC (design rule check) while improving reliability in a mask pattern data subjected to optical proximity correction, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

光近接効果補正したマスクパターンデータについて信頼性を向上させつつＤＲＣの確認に要する時間を短縮する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image scanning device in which a shading correction mechanism is constituted of a less number of components than ever before with the increased degree of freedom of the design and the reduced size and weight.例文帳に追加

本発明は、シェーディング補正機構を従来よりも少ない部品点数で構成することができると共に、設計の自由度を増やして小型・軽量化することができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase synchronization circuit and a radio communication device which can eradicate a frequency correction error, keep a voltage-to-frequency conversion gain Kvco low, and relax PLL phase noise design.例文帳に追加

周波数補正ミスをなくせ、電圧対周波数変換利得Ｋvcoを低く抑えることが可能で、ＰＬＬ位相ノイズ設計を緩和できる位相同期回路および無線通信装置を提供する。 - 特許庁

A pattern most approximate to the design pattern is selected from the finely processed test resist patterns, and the test pattern used for the formation of the selected pattern is adopted as a correction pattern (S4, S8).例文帳に追加

微細化されたテスト用レジストパターンの中から前記設計パターンに最も近いパターンを選択し、選択されたパターンの形成に用いたテスト用パターンを補正パターンとして採用する（Ｓ４，Ｓ８）。 - 特許庁

To provide a duty correction circuit that corrects a duty ratio to a desired numeric value even if the characteristics of an N-type transistor and a P-type transistor deviate from the design stage due to variations in process and change in process.例文帳に追加

プロセスバラツキや、プロセス変更によりN型トランジスタ及びP型トランジスタ双方の特性が設計段階に対してずれても、デューティ比を所望の数値に補正するデューティ補正回路を提供する。 - 特許庁

To provide a bifocal hard contact lens which is excellent in visual acuity correction of both of distant visual acuity and near visual acuity, is high in a lacrimal fluid exchange rate and has a safe lens design excellent in wearability.例文帳に追加

遠方視力と近方視力の両方のる視力矯正に優れ、かつ涙液交換率が高く、装用性に優れた安全なレンズデザインを有する遠近両用ハードコンタクトレンズを提供する。 - 特許庁

To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for designing a lens for vision correction, in which, when design of a diopter lens being not the diopter lens considered that a user can see most clearly is adopted, since the aberration is increased accompanying such the design, by reducing the aberration, the lens capable of obtaining more comfortable war feel can be provided.例文帳に追加

「ユーザーにとってもっともはっきり見えると考えられる度数のレンズ」ではない度数のレンズの設計を採用する際に、それに伴って収差が増大することがあるため、その収差を軽減してより快適な装用感を得られるレンズを提供することのできる視力矯正用レンズの設計方法を提供すること。 - 特許庁