「Design correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Also, since the consistency is confirmed not by a back end but by the front end of logic design, the retrogression of design correction is reduced, power source inconsistency is detected more quickly and the design is quickly corrected.例文帳に追加

また、バックエンドではなく論理設計のフロントエンドで整合性を確認できるため、設計修正の後戻りが少なくなり、電源不整合をより早く検出して迅速に設計修正することが可能となる。 - 特許庁

To provide a correcting method of a design pattern which performs the correction of proximity effect to a design pattern by converting the area density of the design pattern into figure data so that the area density of the design pattern can be inputted into a general-purpose figure operating tool as a parameter.例文帳に追加

設計パターンの面積密度を汎用的な図形演算ツールにパラメータとして入力できるように、設計パターンの面積密度を図形データに変換し、設計パターンに対して近接効果の補正を行う設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for verifying a design pattern by which design patterns are verified while predicting an inoperable state of a circuit due to displacement in alignment and to provide a method for correcting a design pattern by which the above design patterns are subjected to necessary correction in accordance with the results of the verification.例文帳に追加

合わせずれによって回路が動作できないことがあることを予測して設計パターンを検証する設計パターンの検証方法と、その検証の結果に応じて、設計パターンに必要な補正を施す設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a correction method for design pattern data of semiconductor circuits which adopts the correction of the design pattern data relating to making of fine patterns onto semiconductor wafers at a practicable level amidst the recent increasing tendency to the higher fineness and hither density of patterns.例文帳に追加

最近の、パタンの微細化、高密度化がますます進む中、半導体ウエハ上への微細パタン作製に係わる設計パタンデータの補正を、実用レベルで採り入れた半導体回路の設計パタンデータの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a convergence correction structure that can simply adjust conversion correction without giving hindrance to the work and decreasing the flexibility of design.例文帳に追加

作業に支障をきたさず、設計自由度を少なくさせることなく、コンバージェンス補正のための調整を簡単に行うことができるコンバージェンス補正構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加

レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正（ＯＰＣ）または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect correcting method of photomask by which the operability of correction of black defect in a circular transmission pattern is largely improved and the correction almost just as design can be performed in the precision of correction too.例文帳に追加

円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

Then correction figure data to modify the figure of a correction portion to correct the optical proximity effect are created based on the design pattern data, and the obtained correction figure data are compounded in the width-corrected pattern data by using the correction portion data (S12, S14).例文帳に追加

次いで、光近接効果を補正するために補正部分の形状を変形させるための補正用形状データを、設計パターンデータに基づいて生成し、この補正用形状データを、補正部分データを用いて、幅補正後パターンデータに合成する（Ｓ１２及びＳ１４）。 - 特許庁

Accordingly, the defect correction method of the defective part is generated based on the position information, characteristic information, defect classification, and substrate design information of the defective part so as to make the defect correction by operating a defective correction mechanism 4 based on the generated defect correction method.例文帳に追加

そして、欠陥部位の位置情報、特徴情報、欠陥種別及び基板設計情報に基づいて欠陥部位の欠陥修正方法を生成し、生成された欠陥修正方法に基づき欠陥修正機構４を動作させて欠陥修正を行う。 - 特許庁

The design data can be applied to either case even if a processing of OPC (optical proximity correction) is not performed.例文帳に追加

なお、デザインデータは、ＯＰＣ（光近接効果補正）の処理が行われていてもいなくても、いずれの場合にも適用できる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method for efficiently performing lithography rule check on a design pattern after optical proximity correction.例文帳に追加

光近接効果補正後の設計パターンに対して効率的にリソグラフィールールチェックを行うパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gamma correction voltage generation apparatus capable of reducing a circuit cost and increasing the flexibility of a design.例文帳に追加

回路コストを低減でき且つ設計の柔軟性を増すことのできる、ガンマ補正電圧発生装置を提供する。 - 特許庁

The proximity effect correction coefficient and the deviation from the design dimension are interpolated and/or extrapolated using the fitting result.例文帳に追加

フィッティングした結果を用いて、近接効果補正係数と設計寸法からのずれを補間および／または外挿する。 - 特許庁

To provide a projection lens achieving the appropriate correction of optical aberration while restraining load on the design of the lens.例文帳に追加

レンズ設計の負荷を抑えつつ、光学的収差を適切に補正する投写レンズを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a two-dimensional code for improving a design shape by using the error correction code of the two-dimensional code.例文帳に追加

二次元コードのエラー訂正コードを用いることによってより意匠形状の向上した二次元コードを提供する。 - 特許庁

To provide a method for automatically applying techniques of optical proximity correction to a reticle design containing a plurality of features.例文帳に追加

複数のフィーチャを含むレチクル設計に光近接補正技術を自動的に適用する方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the working efficiency of layout design by improving a crosstalk error by a little wiring correction amount.例文帳に追加

少ない配線修正量でクロストークエラーを改善することにより、レイアウト設計の作業効率の向上を図ること。 - 特許庁

In a correction processing system for printed wiring board manufacture data as an embodiment of the present invention automatically, information regarding pattern design specifications included in design data is made to be generated by analyzing the CAD data (design data) first.例文帳に追加

本発明のプリントは配線板製造データの補正処理システムでは、まず、ＣＡＤデータ（設計データ）を解析することによって、設計データ中に含まれているパターン設計仕様に関する情報を自動的に生成するようにする。 - 特許庁

Then, a correction filter is used to perform image restoration processing, the correction filter being obtained by reconfigurating the image restoration filter based on the design data according to difference information between the optical characteristics determined from design data and the optical characteristics of the imaging optical system to be used in actual imaging.例文帳に追加

そして、設計データより求まる光学特性と実際の撮影に使用する撮像光学系の光学特性との差異情報から、設計データに基づく画像回復フィルタを再構成した補正フィルタを用いて画像復元処理を行う。 - 特許庁

The design dimension variation is interpolated to the wiring space (S105) and is converted to a design dimension correction quantity (S106) and wiring space value giving integer value is extracted (S107).例文帳に追加

設計寸法変動量を配線間隔に対して補間するとともに（Ｓ１０５）、設計寸法補正量に変換し（Ｓ１０６）、整数値となる配線間隔の値を抽出する（Ｓ１０７）。 - 特許庁

To provide a design method of semiconductor integrated circuit for minimizing variation in timing and wiring path at correction of wiring, and for reducing design period and development cost.例文帳に追加

配線の修正にあたり、タイミングや配線経路の変更を最小限にし、設計期間や開発コストの低減を図るようにした半導体集積回路の設計方法を提供する。 - 特許庁

To drastically reduce violation in timing analysis after a layout design to drastically reduce a period of layout correction in a logic circuit and a rework of a logic design stage.例文帳に追加

レイアウト設計後のタイミング解析における違反を大幅に削減し、論理回路におけるレイアウト修正の期間、および論理設計段階への手戻り回数を大幅に削減する。 - 特許庁

A correction dimension selecting means 42 selects a correction dimension δ relating to a correction pattern feature 23 which gives the highest evaluation of the finished state of the semiconductor device in each design dimension Wd based on the evaluation result 51.例文帳に追加

補正寸法選択手段４２は、評価結果５１に基づいて、設計寸法Ｗｄ毎に、半導体デバイスの仕上り状態の評価が最も高くなる補正パターン図形２３に関する補正寸法δを選択する。 - 特許庁

To provide a logic synthetic method and a logic synthesizer which can reduce time and effort for analysis of a correction part and examination of contents of correction and facilitate further the correction of logic of a module even if large scale correction is needed at the time of logic design of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の論理設計時に大規模修正が必要になった場合でも、修正箇所の解析や修正内容の検討の手間を削減し、モジュールの論理修正をより容易化することができる論理合成方法および論理合成装置を提供する。 - 特許庁

When an input design data is subjected to rule-base proximity correction in the process of forming a pattern based on the design data of an electronic device on a substrate to be exposed, the pattern is moved by calculating a correction amount by using a pattern side as a unit and then subjected to the model-base proximity correction to create an exposure data.例文帳に追加

被露光基板上に電子デバイスの設計データに基づいてパターンを形成する工程において、入力した設計データに対し、ルールベースの近接効果補正を行う際に、パターンの辺を単位に補正量を算出して移動した後、モデルベースの近接効果補正を行って露光データを作成する。 - 特許庁

To provide a circuit analysis method, for easily specifying a correction point or a correction method in a circuit to be designed, and to provide, a circuit analysis program and a circuit design support device.例文帳に追加

設計対象回路における修正箇所又は修正方法を容易に特定可能な回路解析方法、回路解析プログラム、及び回路設計支援装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide the design of a spectacle lens for the correction of human vision, including the correction of high order aberrations, and super-normal vision having a remarkably satisfactory function by using spectacles.例文帳に追加

高次収差の矯正を含む人間の視力の矯正用眼鏡レンズの設計と，眼鏡を利用して，著しく良好な機能を有する最適な視力の提供を可能にする。 - 特許庁

Correction portion data are created (S4, S6) to specify a correction portion in a layout pattern where a figure is to be modified to correct an optical proximity effect based on design pattern data.例文帳に追加

設計パターンデータに基づいて、レイアウトパターンのうち光近接効果を補正するために形状を変えるべき補正部分を特定する補正部分データを生成する（Ｓ４及びＳ６）。 - 特許庁

The pattern area rate in the peripheral region around the correction cell including the respective pattern as the objective of correction is measured based on the design data for forming the real pattern (ST1 to ST3).例文帳に追加

実パターン形成用の設計データに基づき、補正対象となる各パターンを含む補正セルを中心とした周辺領域内におけるパターン面積率を測定する（ＳＴ１〜ＳＴ３）。 - 特許庁

Then, an optimum proximity effect correction coefficient and deviations of the patterns from design dimensions when drawn by using the proximity effect correction coefficient are calculated for every reference emission amount.例文帳に追加

次いで、基準照射量毎に、最適な近接効果補正係数と、この近接効果補正係数を用いて描画したときのパターンの設計寸法からのずれとを算出する。 - 特許庁

To attain reduction in the labor hour required for a correction for error avoidance, improvement in the freedom of layout design, and reduction in the load to DA by reducing the correction quantity corresponding to noise value error.例文帳に追加

ノイズ値エラーに対応した修正量を低減することにより、エラー回避のための修正に要する手間の削減，レイアウト設計の自由度向上，ＤＡへの負担低減をはかる。 - 特許庁

To improve the quality of operation design and to reduce man-hours for reexamination or correction in an operation phase.例文帳に追加

運用設計の品質を向上することが出来、また、運用フェーズにおける再検討や修正の工数を削減すること。 - 特許庁

To mold a molding having a highly precise surface shape close to design data with reduced number of times of the correction of a molding die.例文帳に追加

少ない型補正の回数で設計値に近い高精度な面形状を有する成形品を成形できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which whether a design layout pattern is good or not can be discriminated and a clear guideline for correction is presented.例文帳に追加

設計レイアウトパターンの良否判定が可能で修正指針の明確な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a design method for a semiconductor integrated circuit allowing automatic correction of circuit information about a correction circuit into circuit information about a circuit wherein timing deterioration or wiring congestion is suppressed, along a cell layout of a mask layout design, in a short time.例文帳に追加

修正回路の回路情報をマスクレイアウト設計のセル・レイアウトに沿った、タイミング悪化や配線混雑の抑制された回路の回路情報に修正することが自動的に且つ短期間で可能となる半導体集積回路の設計方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to decrease the errors of correction work after mask layout design of semiconductor integrated circuits and to execute the circuit correction after the mask layout design with the fewest possible number of masks.例文帳に追加

半導体集積回路のマスクレイアウト設計後の修正作業の誤りを減少させ、マスクレイアウト設計後の回路修正をできるだけ少ないマスク数で行なう事を可能とする半導体集積回路設計方法、及び半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

The drawing data with a corrected design pattern in each correction cell is produced based on the pattern area rate in the peripheral region around each correction cell and on the proximity correction data obtained for each pattern area rate (ST7, ST8).例文帳に追加

各補正セルを中心とした周辺領域内におけるパターン面積率と、前記パターン面積率毎に得た近接効果補正用データとに基づいて、当該補正セル毎に設計パターンを補正した描画データを作成する（ＳＴ７，ＳＴ８）。 - 特許庁

A plurality of basic design data of a cam device 1 designed for a basic element of a cam slide 3, one basic design data is selected from a plurality of basic design data based on the objective cam slide 3, correction based on the objective cam slide 3 is added to the selected basic design data to obtain the final design data, and the cam device 1 is manufactured based on this final design data.例文帳に追加

カムスライド３の基本要素に対して設計されたカム装置１の基本設計データを予め複数個準備し、目的のカムスライド３に基づいて複数個の基本設計データから一つの基本設計データを選択すると共に、この選択した基本設計データに、目的のカムスライド３に基づく補正を加えて最終設計データを得、この最終設計データに基づいてカム装置１を製造する。 - 特許庁

Thus, an operation in which a capacitance is close to that in design is attained, irrespective of the manufacturing variation of the capacitor subjected to correction.例文帳に追加

これにより，補正対象キャパシタの製造ばらつきにかかわらず，その設計上の容量に近い容量で動作するようにする。 - 特許庁

To flexibly adapt to design change etc., by improving precision of correction on a temperature measured by a temperature sensor mounted on a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置に搭載された温度センサによる測定温度の補正の精度を向上させ、設計変更等に柔軟に対応する。 - 特許庁

To miniaturize a device and to enhance the degree of freedom in optical design by providing an optical element other than a correction lens in a fixed frame.例文帳に追加

補正レンズ以外の光学素子を固定枠に設けることにより、装置の小型化を図り、光学的な設計の自由度を高める。 - 特許庁

To make an effective correction only by the change of a wiring layer even if a circuit is to be changed after making a mask in a standard cell design method.例文帳に追加

スタンダードセル設計方式において、マスク作成後に回路変更を行う場合でも、配線層のみで効果的な修正を行う。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measurement method capable of precisely specifying a correction part to a design value of a measured object having an uneven surface.例文帳に追加

凹凸面を有する被測定物の設計値に対する修正部分を精度よく特定できる三次元測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deficiency correction method in case scattering deficiency of a hologram color filter occurs or any factor hologram of a hologram color filter are not made as the design.例文帳に追加

ホログラムカラーフィルターの散乱性欠陥や何れかの要素ホログラムが設計通りに出来ていない場合の欠陥修正方法。 - 特許庁

To provide a method for enhancing the efficiency of the proximity correction of a pattern forming process in terms of given chip layout design, and constitution therefor.例文帳に追加

所与のチップ・レイアウト設計に関するパターン形成プロセスの近接補正の効率を高める方法および構成を提供すること。 - 特許庁