「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming device in which transfer paper can be inverted without exposing transfer paper to outside and an inverting part is easily mounted and inspected for maintenance.例文帳に追加

転写紙を外部に露呈すること無く反転可能で、反転部の装着や保守点検を容易に行えるようにした画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that the utilization efficiency of light from a light source part is bad in the case of exposing a printing plate by using 1st- order diffracted light from a diffraction grating type modulation element.例文帳に追加

回折格子型の変調素子からの１次回折光を用いて刷版を露光する際に光源部からの光の利用効率が悪い。 - 特許庁

The paper P is also held in the midst of an operation of scanning-exposing the rear side part of the paper P in the carrying direction.例文帳に追加

このペーパーＰの挟持は、該ペーパーＰの搬送方向後方側で前記露光エンジン７によって走査露光が行われている最中でも行われる。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film from the resist composition on an object surface, and exposing and developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像する。 - 特許庁

The front part of the protector 39 is exposed from the exposing opening 20b of a front cover 20, and also, the O-ring 41 is mounted on the outer peripheral surface 39c of the protector 39.例文帳に追加

プロテクタ３９は、その前面部が前カバー２０の露呈用開口２０ｂから露呈するとともに、外周面３９ｃにＯリング４１が掛けられている。 - 特許庁

In a discharge mechanism portion 166 in an automatic exposing device, a temporary support arm 154 corresponds to one end of a photopolymer form 102 stuck out of the surface plate 110.例文帳に追加

自動露光装置の排出機構部１６６では、仮支持アーム１５４が定盤１１０上からはみ出したフォトポリマー版１０２の一端部に対応している。 - 特許庁

To provide a method for conveying a substrate which can efficiently remove static electricity charged, without adversely affecting the substrate, and to provide an apparatus and a method for exposing.例文帳に追加

基板に悪影響を及ぼすことなく帯電した静電気を効率良く除去できる基板搬送方法、露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The stiffener plate 16 is arranged in a first area exposing outside from an open end 19 of the stiffener steel pipe 18, with loading of alternating axial force.例文帳に追加

この補剛板１６は、交番軸力の載荷に伴って補剛鋼管１８の開放端部１９から外部に露出する第１の領域に設けられる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a module loading a function element of the hollow exposing structure that may be resin-sealed in higher accuracy without use of an expensive dispenser.例文帳に追加

高価なディスペンサを用いることなく高精度で樹脂封止が可能な中空露出構造の機能素子モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁

The inserting portion 34 can be freely inserted into and removed from the nozzle hole 23, and is formed in the length exposing outside from the apical surface of the nozzle hole 23.例文帳に追加

当該挿入部３４は、ノズル孔２３に挿脱自在であり、かつノズル孔２３の先端面から外部へ露出する長さに形成されている。 - 特許庁

A sorting section 30 for sorting and conveying cut recording paper is disposed between an exposure unit for exposing and recording an image to the cut recording paper and a processor for performing development processing.例文帳に追加

カット記録紙に画像を露光記録する露光ユニットと、現像処理を行うプロセサとの間に、カット記録紙を振分搬送する振分部３０を配する。 - 特許庁

To quicken maintenance and exposing processing by correcting uneven exposure due to variation in the intensity of light emitted from an optical modulation element based on an easy calculation.例文帳に追加

簡易な計算に基づき、光変調素子から出射する光の強度バラツキに起因する露光ムラを補正して、メンテナンスや露光処理を迅速にする。 - 特許庁

After the prescribed time is measured by the 1st time measuring part 8, exposing operation by an exposure part 4 is started based on the result of judgement by the judging part 2.例文帳に追加

第１の計時部８で所定の時間が計時された後に、ブレ判断部２の判断結果に基づいて露光部４での露光動作が開始される。 - 特許庁

The cover member 103 can assume an open attitude for exposing an inner part of the body part 104 and a close attitude for separating the inner part of the body 104 from the outside.例文帳に追加

カバー部材１０３は、本体部１０４内部を露出させる開姿勢と、本体部１０４内部を外部から隔てる閉姿勢とを採り得る。 - 特許庁

Thus, the zero-order diffracted light is utilized as signal light for exposure, and the exposing and recording device good at the utilization efficiency of the light is constituted.例文帳に追加

これにより、０次回折光を露光用の信号光として利用することができ、光の利用効率のよい露光記録装置を構成することができる。 - 特許庁

The method comprises a step of exposing the first portion to a filtered beam of substantially fully ionized metallic ions under a pulse modulation electrical bias.例文帳に追加

本方法は、パルス変調電気バイアスの下で実質的に完全に電離した金属イオンのフィルタリングされたビームに第１部分を露出させる工程を含む。 - 特許庁

To provide an exposing method which can improve alignment precision, regardless of the coating state of an antireflection film at aligning of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハにおけるアライメント実行に際して反射防止膜の塗布状態に拘らずアライメント精度を向上し得る露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposing method by which a fine exposure which is not restricted by any wavelength of an optical source can be realized without damaging any photomask and any photosensitive resist layer.例文帳に追加

フォトマスクや感光性レジスト層を損傷させることなく、光源の波長に制限されない微細な露光を実現できる露光方法を提供すること。 - 特許庁

A resin package 11 seals the power element 1, electrode terminals 2a, 2b, and 2c, and metal block 3, while exposing the metal layer 7 of the insulation substrate 4.例文帳に追加

樹脂パッケージ１１は、絶縁基板４の金属層７を露出させつつ、パワー素子１，電極端子２ａ，２ｂ，２ｃ及び金属ブロック３を封止している。 - 特許庁

The organic polymer film to be removed on a substrate is completely decomposed and removed by exposing to ultraviolet rays of ≤180 nm wavelength.例文帳に追加

基板上の除去すべき有機高分子膜を、波長が１８０ｎｍ以下の紫外線に露出することで、完全に分解除去することができる。 - 特許庁

The first mask pattern is transferred to the first area of the resist film by exposing the first area constituting of a part of the resist film with use the first mask.例文帳に追加

第１のマスクを用いて、レジスト膜の一部を構成する第１領域を露光することにより、レジスト膜の第１領域に第１のマスクパターンを転写する。 - 特許庁

In the implantation inhibition layer forming process, the implantation inhibition layer having a pattern exposing a region to which ions are implanted is formed in a silicon carbide substrate.例文帳に追加

注入阻止層形成工程では、炭化珪素基板において、イオンが注入される領域を露出させるパターンを有する注入阻止層を形成する。 - 特許庁

To realize sufficient exposure control accuracy reproducibility at the time of executing the stepwise progressive focusing method by using pulsed light as exposing light.例文帳に追加

露光光としてパルス光を用いて段階累進焦点法を実施する場合に、十分な露光量制御精度再現性を実現することである。 - 特許庁

In this method and device, the silver clay formed body 1 is sintered by exposing the silver clay formed body 1 to the flame 13 of solid alcohol fuel 11.例文帳に追加

銀粘土成形体１に固体アルコール燃料１１の炎１３を当てることにより銀粘土成形体１を焼結する方法および装置。 - 特許庁

To provide a method for synthesizing a target polynucleotide through a reduced number of steps and by exposing the growing nucleic acid chain to a reduced amount of a reagent.例文帳に追加

成長中の核酸鎖をより少ない量の試薬にしか曝露せず且つ少ないステップ数にてターゲットとなるポリヌクレオチドを製造する方法を提供する。 - 特許庁

The outsole includes a plate-like main part made of felt, and spikes 46 held in the main part and exposing the end surfaces from the bottom face of the main part.例文帳に追加

アウトソールは、フェルトからなり板状である主部と、主部に収容されかつその端面が主部の底面に露出するスパイク４６とを備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device for avoiding the deterioration of the property of a capacitive insulating film by exposing an upper electrode, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

上部電極を露出させることによる容量絶縁膜の特性の劣化を回避するための半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The sources of group II and group VI are operated to expose the III-V buffer layer to group II element flux before exposing to group VI element flux.例文帳に追加

ＩＩ族及びＶＩ族ソースを操作して、ＩＩＩ−Ｖバッファ層をＶＩ族元素フラックスに暴露する前にＩＩ族元素フラックスに暴露させる。 - 特許庁

When forming an oxide film on the surface of the sample 10 to be oxidized by exposing the sample 10 to an ozone gas, a target oxidation region is locally heated.例文帳に追加

被酸化試料１０にオゾンガスを暴露することにより、当該試料の表面に酸化膜を形成するにあたり、被酸化領域を局所加熱する。 - 特許庁

To reduce down time incident to maintenance of the device for producing a semiconductor by making possible to replace a susceptor without exposing a reaction chamber to the atmosphere.例文帳に追加

反応室を大気にさらすことなくサセプタを交換することができるようにして、半導体製造装置のメンテナンスによるダウンタイムを低減する。 - 特許庁

A latent image after being formed by exposing a pattern area by converting a laser beam 8 for exposure on the upper layer is developed to form a pattern.例文帳に追加

露光用のレーザービーム８を上層に集光し、パターン領域を露光して潜像を形成した後、該潜像を現像液で現像してパターンを形成する。 - 特許庁

In an exposing device 1, the belt-shaped substrate 9 is intermittently conveyed along its longitudinal direction, and is exposed region-to-region with predetermined lengths.例文帳に追加

露光装置１は、帯状基板９をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する。 - 特許庁

To provide a methyl methacrylate polymer which has been modified in resistance to yellowing induced by exposing gamma radiation for sterilization in a medical field.例文帳に追加

医学分野での用途で殺菌用にガンマ放射線にさらされることによって誘発されるメタアクリル酸メチルポリマーの黄色化に対する耐性を改良する。 - 特許庁

A specific machine (machine A) that is a specific aligner is arbitrarily selected from among a plurality of aligners for exposing a substrate to light via a mask pattern.例文帳に追加

マスクのパターンを介して基板を露光する複数の露光装置のうちから特定の露光装置である特定号機（号機Ａ）を任意に選定する。 - 特許庁

The in-line controller 1 successively instructs the main controller 3 and exposing machine 20 to start the treatment based on the inputted treatment information and the recipe flow information.例文帳に追加

インラインコントローラ１は、入力された処理情報およびレシピフロー情報に基づいてメインコントローラ３および露光機２０に処理の開始を順次指令する。 - 特許庁

To recover elements with high purity in a compound semiconductor substrate without exposing a film formed on the compound semiconductor substrate to an etchant.例文帳に追加

化合物半導体基板上に製膜した膜をエッチャントにさらすことなく、化合物半導体基板から 高純度な化合物半導体の元素を回収する。 - 特許庁

Each of the lower electrodes 22 is covered with a second inter-layer film 25 formed with a plurality of openings for exposing the middle part of each of the lower electrodes 22.例文帳に追加

下部電極２２は、各下部電極２２の中央部を露出させる複数の開口部が設けられた、第２の層間絶縁膜２５に覆われている。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method includes a process of coating a semiconductor board 20 with the photoresist film, and of exposing the photoresist film to light, while the semiconductor board 20 is kept inclined.例文帳に追加

半導体基板２０上にフォトレジスト膜を塗布する工程と、半導体基板２０が傾斜した状態でフォトレジスト膜を露光する工程とを具備する。 - 特許庁

In one embodiment thereof, the method includes a step of positioning the substrate surface in a processing chamber (100) and a step of exposing the substrate surface to a boride (120).例文帳に追加

一態様によると、その方法は、処理チャンバ（１００）内に基板表面を位置決めするステップと、基板表面をホウ化物（１２０）に晒すステップと、を備える。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck which can attract and hold with higher accuracy an attracting object at the bottom surface thereof, and also to provide an exposing apparatus having the chuck.例文帳に追加

底面で被吸着物を高精度に吸着保持することができる静電チャックおよびこの静電チャックを備えた露光装置を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of creating the constitution part by a predetermined material; and a step of exposing at least one surface of the constitution part to laser radiation.例文帳に追加

本方法は、前記構成部品を所定の材料で作製するステップと、前記構成部品の少なくとも１つの表面を、レーザ放射に曝すステップと含む。 - 特許庁

The vacuum suction of a GaAs substrate 1 to a vacuum chuck 5 is performed, and a positive resist 4 is exposed through a mask 7a from an exposing light source 6a to perform patterning.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板１を真空チャック５に真空吸着し、露光光源６ａからマスク７ａを通してポジ型レジスト４を感光させ、パターニングを行う。 - 特許庁

To provide a correction of an exposure width, which is necessary when line widths and spacings are so small that required line widths are not obtained in exposing and developing a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの露光及び現像を行った場合、ライン＆スペースが小さい場合において要求線幅が得られないために補正が必要である。 - 特許庁

To prevent a power source from being wastefully consumed when an optical shake correction means in a photographing optical system is actuated in the midst of observation through an electronic finder before exposing film.例文帳に追加

フィルム露光前の電子ファインダー観察中に、撮影光学系内の光学振れ補正手段を作動させておくと、電源を無駄に消費することになる。 - 特許庁

This process for producing the modified substrate includes a step of exposing to radiation a substrate while in contact with an aqueous solution containing a hydrophilic polymer and an antioxidant.例文帳に追加

また基材を親水性高分子および抗酸化剤を含む水溶液と接触下、放射線照射する該改質基材の製造方法。 - 特許庁