「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The linearity deviation to the meandering cycle length of the reproduced signals generated due to the high density recording of the meandering patterns are corrected by changing the meandering rate of the exposing light beam in the radial direction of the tracks according to the meandering cycle of the meandering patterns when forming predetermined meandering patterns by irradiating the original plate with the exposing light beam.例文帳に追加

原盤上に露光ビームを照射して所定の蛇行パターンを形成する際に、蛇行パターンの蛇行周期に応じて、露光ビームのトラックの径方向の蛇行量を変化させることにより、蛇行パターンの高密度記録化に伴い発生する蛇行周期長に対する再生信号の直線性のずれを補正する。 - 特許庁

The resin layer on a shaping base material 51 is irradiated with exposing light so that a focus coincides with the resin layer and the reflected light from the resin layer is received by an object lens 34 to be guided to an image surface optical system 40 while branched by a beam splitter 33 and received as an image by a CCD camera 42 having sufficient sensitivity with respect to the wavelength of the exposing light.例文帳に追加

露光用光を、造形基材５１上の樹脂層にフォーカスが一致するように照射す一方、その反射光を対物レンズ３４で受光し、ビームスプリッタ３３で分岐させて像面光学系４０へと導き、露光用光の波長に対し感度十分なＣＣＤカメラ４２で受像する。 - 特許庁

The cloth prepregs CP are wound around the rod material 1 in such a manner that the surfaces having a larger exposing area of the reinforcing fiber bundle LF in the shaft direction are arranged on the inner side so as to come in contact with the rod material 1, and the surfaces having a larger exposing area of the reinforcing fiber bundle CF in the circumferential direction are arranged on the outside.例文帳に追加

クロスプリプレグＣＰは、軸方向の補強繊維束ＬＦの露出面積の大きい側の表面を竿素材１に接するように内側に、周方向の補強繊維束ＣＦの露出面積の大きい側の表面を外側にそれぞれ配置するように、竿素材１に巻回されている。 - 特許庁

In addition, position detecting means 11 and 12 of a stage ST which is used for positioning a substrate to an exposing position and the position detecting means 11 and 13 (11 and 14) of the stage ST used for detecting the alignment information at an alignment position are arranged, so that the Abbe's aberration become nearly zero with respect to the exposing position and alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

In the image exposing system and the image exposing method, when an image formed by a DMD 12 is focused on a recording medium 24 moving relatively to the DMD 12 to expose the recording medium 24, light carrying the image is moved using a collimate optical system 14, a light deflector 16 and the focusing lens optical system 18.例文帳に追加

ＤＭＤ１２によって形成される画像を、ＤＭＤ１２に対して相対的に移動する記録媒体２４上に結像させて記録媒体２４を露光する際、前記画像を担持する光をコリメートレンズ光学系１４、光偏向器１６およびフォーカシングレンズ光学系１８を用いて画像を移動させる。 - 特許庁

To suppress an increase in the exposure time of an exposing device and to suppress variation in the shape of a resist pattern due to variation in the time from the end of an exposure process by the exposing device to a heat treatment carried out to change solubility of an exposed region of a resist film for a developer.例文帳に追加

露光装置における露光時間が長くなることを抑え、且つ露光装置にて露光処理を終えてからレジスト膜における露光された領域の現像液に対する溶解性を変化させるために行われる加熱処理を行うまでの時間のばらつきによるレジストパターンの形状のばらつきを抑えること。 - 特許庁

The adhesion of the insulation film is improved by including the steps of exposing a copper layer 5 in the interconnection of a semiconductor structure to reducing plasma and plasma containing carbon and exposing the inorganic barrier film 11 to plasma containing oxygen prior to forming the inorganic barrier film 11 on the copper layer 5 having the copper in the copper interconnection structure.例文帳に追加

銅相互接続構造の銅の層５上に無機バリア膜１１を形成する前に、相互接続半導体構造内の銅の層５を還元プラズマと炭素含有のプラズマに暴露する工程と無機バリア膜１１を酸素含有プラズマに暴露する工程を含むことにより、絶縁膜の接着性を改良する。 - 特許庁

This method for etching a nitride silicon layer on the surface of a substrate includes a fist step S1 of exposing the substrate surface to a oxidizing solution, to form an oxide film on the surface of the nitride silicon layer and a second step S2 of exposing the substrate surface to a fluorine- containing solution for etching the oxide film.例文帳に追加

基板表面の窒化シリコン層をエッチングする方法であって、基板表面を酸化性溶液に晒すことによって、前記窒化シリコン層表面に酸化膜を形成する第１ステップＳ１と、基板表面をフッ素含有溶液に晒すことによって、酸化膜をエッチングする第２ステップＳ２とを行うことを特徴としている。 - 特許庁

In this method for controlling exposure, the energy data of exposing beams L detected by an exposure sensor 29 provided at an aligner main body 2 are transmitted through an interface 31 and an interface 32 for setting target energy constituted of a high speed parallel interface to an excimer laser light source 1, and the following pulse emission of the exposing beams L is controlled based on this.例文帳に追加

露光装置本体２に備えた露光量センサ２９で検出した露光ビームＬのエネルギーデータを、高速パラレルインターフェイスからなる目標エネルギー設定用インターフェース３１、インターフェース３２を介してエキシマレーザ光源１に送信し、それに基づいてこの後の露光ビームＬのパルス発光を制御する構成とした。 - 特許庁

The ND filter film having light transmittance information of each position is obtained by exposing and photographing image electronic data having the light transmittance information of each information for composing the ND filter by an exposure photographing device directly exposing and photographing the image electronic data on the film 10 and developing the film 10.例文帳に追加

ＮＤフィルタを構成するための位置ごとの光透過率情報を有している画像電子データを、該画像電子データを直接露光撮影可能である露光撮影装置によりフィルム10に露光撮影して、該フィルムを現像処理することにより、位置ごとの光透過率情報を有したＮＤフィルタフィルムを得る。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device carries out: an HMDS gas exposure step for exposing a substrate having a resist layer or an amorphous carbon layer on its surface to an HMDS gas; and an oxygen-containing gas exposure step for exposing the substrate to an oxygen-containing gas, thereby forming a silicon oxide film at least on the resist layer or the amorphous carbon layer.例文帳に追加

レジスト層もしくはアモルファスカーボン層を表面に有する基板にＨＭＤＳガスを曝すＨＭＤＳガス暴露工程と、基板に酸素含有ガスを曝す酸素含有ガス暴露工程と、を行うことにより、少なくともレジスト層もしくはアモルファスカーボン層の上にシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

The cover member 16 includes an opening 16d1, and is capable of switching between a function part exposing state in which the function part 4a is exposed by exposing the function part 4a from the opening 16d1 and a function part shielding state in which the function part 4a is shielded accompanied by the rotation of the cover member 16.例文帳に追加

カバー部材１６は、開口１６ｄ１を有し、カバー部材１６の回転に伴って、開口１６ｄ１から機能部４ａを露出させて機能部４ａを露出させる機能部露出状態と、機能部４ａを遮蔽する機能部遮蔽状態との間で切り替え自在に構成されている。 - 特許庁

The testing device 1 is capable of carrying out in a sequentially repeated manner an operation in a high temperature exposing mode of supplying the testing chamber 10 with high-temperature air from the high temperature side temperature regulating part 20, and an operation in a low temperature exposing mode of supplying the testing chamber 10 with low-temperature air from the low temperature side temperature regulating part 21.例文帳に追加

試験装置１は、高温側温調部２０から高温の空気を試験室１０に供給する高温晒しモードによる運転と、低温側温調部２１から低温の空気を試験室１０に供給する低温晒しモードによる運転とを順次繰り返し実施可能とされている。 - 特許庁

A cutter knife with a blade breaking protecting function is provided with an exposing section which exposes a part of the blade body near the tip end part of a blade body projecting/retracting cutter knife holder to the outside of the holder and a slider stopper which prevents a slider making the blade body movable on a slider groove from coming off from the exposing section.例文帳に追加

刃体出没式カッターナイフのホルダーにおいて先端部分に近い部所の刃体の一部をホルダーの外部に露出させる露出部分を設け、スライダー溝において刃体を移動可能にするスライダーが露出部分から外れるのを防止するスライダー止を設ける事を特徴とする刃折れ防止機能付きカッターナイフ。 - 特許庁

To provide an image exposure device for recording a desired image on a recording medium by scanning and exposing the recording medium wound round the outer peripheral surface of a drum rotating at constant speed with an exposing beam, and capable of detecting the float of the recording medium in the midst of exposure recording with simple and inexpensive device constitution.例文帳に追加

定速度で回転するドラムの外周面に巻き付けられた記録媒体を、露光ビームで走査露光して所望の画像を記録媒体に記録する画像露光装置であって、簡易かつコストのかからない装置構成で、露光記録中に記録媒体の版浮きを検出することのできる画像露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent image compression due to relative delay of the conveyance speed of the photo sensitive material of the laser exposing unit with respect to the laser beam scanning speed derived from setting of the conveyance speed of a photo sensitive material of a laser exposing unit at the same speed as the conveyance speed of a photosensitive material of a developing processing unit for achieving miniaturization of a photography processing unit.例文帳に追加

写真処理装置の小型化を図るために、レーザ露光装置の感光材の搬送速度を現像処理装置の感光材の搬送速度と同一速度に設定した結果、レーザビームの走査速度に対してレーザ露光装置の感光材の搬送速度が遅くなるために生じる画像の圧縮を防止すること。 - 特許庁

This method also includes an exposing process to expose the photo-polymerization material 9 by making light enter the substrate 7 from the lower part of a portion where a light emitting material in the substrate 7 exists, a developing process to develop the substrate 7 posterior to the exposing process, and a drying process to dry the substrate 7 posterior to the developing process.例文帳に追加

さらに、基板７内の発光する材料が存在する部分より下方から基板７に光を入射させ、光重合材料９を露光する露光工程と、露光工程後の基板７を現像する現像工程と、現像工程後の基板７を乾燥する乾燥工程とを備える。 - 特許庁

Furthermore, the carrying device includes an estimating means estimating the exposing amount of the recording medium at the discharging port, a deciding means deciding a removing method of the recording medium according to the estimated exposing amount when the jam of the recording medium is generated, and an outputting means outputting the decided removing method.例文帳に追加

さらに、搬送装置は、排出口における記録媒体の露出量を推定する推定手段と、記録媒体のジャムが発生すると、推定された露出量に応じて記録媒体の除去方法を決定する決定手段と、決定された除去方法を出力する出力手段とを含む。 - 特許庁

Since the exposing width W3 of the first barrier wall member 32 is set narrower than the exposing width W4 of the second barrier wall member 33, not yet exposed part in the exposure projection region of the exposed part 33-1 of the second barrier wall member 33 is exposed to form a new exposed part 32-2-1 in the first barrier wall member 32.例文帳に追加

これにより、第1の隔壁部材32の露光幅Ｗ3は第2の隔壁部材33の露光幅Ｗ4よりも狭く設定されているので、第2の隔壁部材33の露光部33−1の露光投影領域で未だ露光されていない部分も露光され、第1の隔壁部材32に新たな露光部32−2−1が形成される。 - 特許庁

The manufacturing method of a liquid crystal display panel includes an exposing step to expose the resist arranged on the surface of a panel substrate 1 and a step of cutting the substrate 1 into blocks like into a 1st block 21, a 2nd block 22, and a 3rd block 23 each having one or more liquid crystal panels before the exposing step.例文帳に追加

液晶表示パネルの製造方法は、パネル基板１の表面に配置されたレジストに対して露光を行なう露光工程を含み、露光工程の前に、第１区画２１、第２区画２２および第３区画２３が複数の液晶表示パネルを有するように、パネル基板１を区画ごとに分断する分断工程を含む。 - 特許庁

The SiCO film for example is formed on a fluorine-added carbon film by subjecting a surface of the fluorine-added carbon film on a semiconductor wafer to a nitriding processing, by exposing the same to a plasma atmosphere obtained by making nitrogen gas plasma and then exposing the semiconductor wafer to plasma obtained by making triethylsilane gas and oxygen gas for example plasma.例文帳に追加

半導体ウエハ上のフッ素添加カーボン膜の表面部を、窒素ガスをプラズマ化して得られるプラズマ雰囲気に曝すことにより窒化処理し、次いで半導体ウエハを例えばトリメチルシランガス及び酸素ガスをプラズマ化して得られるプラズマに曝すことによりフッ素添加カーボン膜の上に例えばＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a device and a method for optical disk original disk recording which enables even an original disk exposing device for an optical disk which uses which enables even an original disk exposing device for an optical disk which uses an electron beam to makes pit width corrections by pit lengths with beam intensity while a beam current taken out of a source is held stable.例文帳に追加

この発明は、電子ビームによる光ディスク用原盤露光装置においても、ソースから取り出されるビーム電流を安定させたままで、ビーム強度によって各ピット長毎のピット幅補正を行うことを可能とする光ディスク原盤記録装置とその方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device having a plurality of wiring layers, a first wiring layer is formed in a pattern by splitting a desired pattern into a plurality of split patterns and exposing the split patterns by connecting the patterns to each other and a second wiring layer is formed in a pattern by collectively exposing the pattern.例文帳に追加

複数の配線層を有する半導体装置の製造方法において、第一の配線層は所望パターンを複数に分割し、前記分割されたパターンをつなぎ合わせて露光することでパターン形成され、第二の配線層は一括露光によりパターン形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an image forming device allowing a user to confirm the process cartridge to be changed by using a pre-exposing means, and also confirm that another cartridge has been mounted after removing the old one from the device without opening the open and close door by using the same pre-exposing units.例文帳に追加

前露光手段を利用して交換が必要なプロセスカートリッジを確認することができ、さらに、プロセスカートリッジを装置本体から取り外した後に、新しいプロセスカートリッジを装着したことを、前露光手段を利用して開閉ドアを閉じた状態で確認することができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This projection mask 3 for transmitting a electron ray and selectively exposing the board 1 is provided with a plurality of exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc., where the predetermined pattern for exposing the board 1 formed, and marks 6 for dimensional measurement formed in correspondence with the exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc.例文帳に追加

電子線を透過させて基板１上を選択的に露光する投影マスク３であって、基板１上を露光するための所定のパターンが形成された複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・と、複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・のそれぞれに対応して形成された寸法測定用のマーク６とを備える。 - 特許庁

This camera having a shake reducing system (shake detection part 12 and shake system control part 11) for preventing influence by the shake at the time of exposing operation is equipped with an exposure device 3 performing the exposing operation for film, and a shake system operation control part 7 restricting the operation of the shake reducing system after finishing the operation of the device 3.例文帳に追加

露光動作時のブレによる影響を防止するためのブレ軽減システム（ブレ検出部１２，ブレシステム制御部１１）を有するカメラにおいて、フィルムの露光動作を行う露光装置３と、露光装置３の動作終了後に、上記ブレ軽減システムの動作を制限するブレシステム動作制御部７とを具備する。 - 特許庁

A luminous flux passing aperture part 211 for making luminous flux enlarged and projected from the projection optical device pass, and an exposing aperture part 212 for exposing at least a part of an image adjustment part constituting the projection optical device to the outside are formed on the outside housing 2 of the projector 1.例文帳に追加

プロジェクタ１の外装筐体２には、投射光学装置から拡大投射される光束を通過させるための光束通過用開口部２１１と、投射光学装置を構成する画像調整部の少なくとも一部を外部に露出させるための露出用開口部２１２とが形成されている。 - 特許庁

It is also possible to assure a rotating performance while keeping a wet performance at the time of a new product state by exposing a central rubber layer 32 constituted by hysterisis loss rubber at a tire equator plane CL side and by exposing both side rubber layers 34 having a high frictional coefficient at both sides at the surface of the tread 30 at the time of new product state.例文帳に追加

新品時のトレッド３０の踏面において、タイヤ赤道面ＣＬ側に低ヒステリシスロスのゴムで構成された中央ゴム層３２を、その両側に摩擦係数の高い両側ゴム層３４を露出させることにより、新品時にウエット性能を確保しつつ、転がり性能も確保することができる。 - 特許庁

An exposure method comprises: forming a liquid immersion region of a liquid on a substrate; exposing the substrate by irradiating the top of the substrate with exposure light through the liquid in the liquid immersion region; and determining exposure conditions in exposing the substrate on the basis of the receding contact angle of the liquid on the surface of the substrate at the time when the surface of the substrate is tilted.例文帳に追加

露光方法は、基板上に液体の液浸領域を形成し、液浸領域の液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光し、基板表面を傾斜させたときの基板表面における液体の後退接触角に基づいて、基板を露光するときの露光条件を決定する。 - 特許庁

A composite sheet 60 having a conductive ink layer on one surface of its plastic film is stacked on the conductor exposing part E through an insulation spacer 56 having openings 58 straddling the two metallic bandlike conductors 52A, 52B by facing its surface on the conductive ink layer side to the conductor exposing part E, and they are bonded and integrated together.例文帳に追加

この導体露出部Ｅに、２条の帯状導体52Ａ、52Ｂに跨がる開口58を有する絶縁スペーサ56を介して、プラスチックフィルムの片面に導電性インク層を有する複合シート60を、その導電性インク層側の面を前記導体露出部Ｅに向けて積層し、これらを接合一体化する。 - 特許庁

The lithographic apparatus is operable in a substrate exposing configuration to expose a substrate W with a pattern of radiation and a radiation beam inspection configuration in which the pattern of radiation that would be exposed on the substrate W if the lithographic apparatus was in the substrate exposing configuration is inspected by a radiation beam inspection device 10.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、基板Ｗが放射のパターンで露光される基板露光構成と、リソグラフィ装置が基板露光構成で構成された場合に基板Ｗに露光されることになる放射のパターンが放射ビーム検査装置１０によって検査される放射ビーム検査構成で動作させることができる。 - 特許庁

A master disk exposing device is constituted to form the pits or the grooves with steep edges by setting the focus positions of a beam A for forming the pits and a beam B for forming the grooves, each exposing a substrate 1 in which photoresist layers are formed in two layers, at an appropriate position with focus position setting means such as expanders 20, 24, respectively.例文帳に追加

フォトレジスト層が二層に形成された基板１を露光するピット形成用ビームＡ、グルーブ形成用ビームＢのフォーカス位置を、それぞれエキスパンダ２０，２４等のフォーカス位置設定手段により最適な位置に設定することにより、エッジが急峻なピット及びグルーブを形成し得るようにする。 - 特許庁

This method is to laminate the laser-transmitting resin component and the laser-nontransmitting resin part over each other vertically in a sandwich form and expose a laser beam to the end part of a joint area between the resin parts of different materials by a laser exposing head of a laser exposing device arranged at a position to the side of the joint area part.例文帳に追加

レーザ透過性樹脂部品と、レーザ非透過性樹脂部品を上下にサンドイッチ状に積層し、その材質の異なる樹脂部品間の接合面部分の側方位置にレーザ照射装置のレーザ照射ヘッドを配置し、このレーザ照射ヘッドより前記接合面の端部に向けてレーザ光を照射する。 - 特許庁

The sub-processes are: (A) forming a first layer of photosensitive coating film; (B) exposing the first layer of the coating film through a first photomask; (C) forming a second layer of photosensitive coating film wider than the first layer; and (D) exposing the second layer of the photosensitive coating film through a second photomask.例文帳に追加

（Ａ）１層目の感光性塗布膜を形成する工程、 （Ｂ）１層目の感光性塗布膜を第１のフォトマスクを介して露光する工程、 （Ｃ）２層目の感光性塗布膜を１層目の感光性塗布膜幅よりも広く形成する工程、 （Ｄ）２層目の感光性塗布膜を第２のフォトマスクを介して露光する工程。 - 特許庁

The environment testing machine 1 can successively repeatedly execute operation in a high temperature exposing mode for supplying high temperature air to the testing chamber 10 from the high temperature side temperature regulating part 20 and operation in a low temperature exposing mode for supplying low temperature air to the testing chamber 10 from the low temperature side temperature regulating part 21.例文帳に追加

試験装置１は、高温側温調部２０から高温の空気を試験室１０に供給する高温晒しモードによる運転と、低温側温調部２１から低温の空気を試験室１０に供給する低温晒しモードによる運転とを順次繰り返し実施可能とされている。 - 特許庁

The manufacturing method includes: (a) producing a single-phase solution by combining polymer resin with a supercritical gas which is generated by exposing a gas to high temperature and pressure, and (b) forming a polishing pad from the single-phase solution; wherein the supercritical gas is generated by exposing a gas to high temperature and pressure.例文帳に追加

生産の方法は、（ａ）ポリマー樹脂を、高い温度および圧力にガスを晒すことにより生成される超臨界ガスと組み合わせて単相溶液を生成すること、および（ｂ）該単相溶液から研磨パッドを形成することを含み、該超臨界ガスはガスを高い温度および圧力に晒すことによって発生させる。 - 特許庁

The copier 100 comprises a photosensitive drum 108 provided between side frame members 210, supporting members 220 provided for each side frame member 210, an exposing unit 112 with both end parts supported by the corresponding supporting members 220, and height adjusting mechanisms 300 for adjusting the height of the exposing unit 112.例文帳に追加

側枠部材２１０間に配設された感光体ドラム１０８と、側枠部材２１０の各々に配設された支持部材２２０と、両端部が、対応する支持部材２２０に支持された露光ユニット１１２と、露光ユニット１１２の高さを調整しうる高さ調整機構３００とを備えた複写機１００。 - 特許庁

A format signal transmitting clock CLK of each track is transmitted to a formatter system 15 from a pulse generator 13, and further a pit exposing data signal is transmitted to a control circuit 17 of short pit exposing beam intensity, then the short pit is formed by transmitting a pit forming signal to an optical modulator 3 from the circuit 17.例文帳に追加

パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピットを形成する。 - 特許庁

An image forming apparatus 10 is provided with a photoreceptor drum 12, an electrifier 14, electrifying the surface of the photoreceptor drum, an exposing means 16, forming a latent image pattern by exposing the surface of the photosensitive drum, a developing means 20, making a toner image of a latent image pattern and a heater 32 installed inside the photoreceptor drum 12.例文帳に追加

画像形成装置１０を、感光ドラム１２と、感光ドラムの表面を帯電させる帯電器１４と、感光ドラムの表面を露光して潜像パターンを形成する露光手段１６と、潜像パターンをトナー像化する現像手段２０と、感光ドラム１２の内部に配置されたヒータ３２と、を備えるものとする。 - 特許庁

To provide an exposing device, a polarization converting member and an exposing method using them by which an exposure pattern forming region may be prevented from having an unexposed portion remained when a member for converting exposure light into linearly polarized light of P-polarized light or S-polarized light includes a plurality of rod-like polarization converting elements.例文帳に追加

露光光をＰ偏光又はＳ偏光の直線偏光に変換する部材が複数本の棒状の偏光変換素子により構成されている場合に、露光パターン形成用領域に未露光の領域が残ることを防止できる露光装置、偏光変換部材及びこれらを使用した露光方法を提供する。 - 特許庁

This image pickup device for picking up the image of a subject and exposing the picked-up image of the subject on a photosensitive medium is equipped with a lens for receiving the image of the subject, an exposure part for exposing the image on the photosensitive medium and an EL light emitting body for emitting light to the subject, and the EL light emitting body is arranged near the lens.例文帳に追加

被写体を撮像し、撮像した被写体の像を感光媒体に露光する撮像装置であって、被写体の像を受光するレンズと、像を感光媒体に露光する露光部と、被写体に対して発光するＥＬ発光体とを備え、ＥＬ発光体は、レンズの近傍に配置される。 - 特許庁

To suppress increase in the formation area of an aligning mark use for an exposing method using a scanning transfer light aligner and an electron beam aligner.例文帳に追加

スキャン転写型光露光装置と電子ビーム露光装置とを用いた露光方法に用いられる位置合わせマークにおいて、その形成領域の増加を抑制する。 - 特許庁

An insulating film made of a photosensitive electric insulating material for exposing the mounting end of the mounting region is formed in at least one surface of the probe.例文帳に追加

プローブの少なくとも一方の面には、前記取付け領域の前記取付け端部を露出させる感光性電気絶縁材料からなる絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

In another example, a lithographic apparatus is heated in order to maintain a temperature differential between the apparatus and the surrounding environment, and to minimize any fluctuation due to the exposing radiation.例文帳に追加

他の実施例では、露光装置と周囲環境とで異なる温度に維持され、露光のための放射による変動が最小化されるように露光装置が加熱される。 - 特許庁

To provide an exposure device which can perform exposing treatment excellently by suppressing influence a device or a material of substrate perimeter is suffered by a leakage of a liquid forming oil immersion region.例文帳に追加

液浸領域を形成する液体の漏洩により基板周辺の装置・部材が受ける影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁