「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method for eliminating photo and etching process in a key forming process to prevent a misalignment in the following photo process.例文帳に追加

後続のフォト工程における誤整列を防止するためのキーの形成工程においてフォト及びエッチング工程を省略する方法を提供する。 - 特許庁

IMAGE READER AND PHOTO PROCESS UNIT PROVIDED WITH THE READER例文帳に追加

画像読取装置およびその装置を備えた写真処理装置 - 特許庁

In a manufacturing process, it is possible to decrease use members such as a photo-mask and photo-resist and to reduce the number of steps.例文帳に追加

製造プロセスにおいて、フォトマスク、フォトレジストなどの使用部材を減らし、工程数を削減することができる。 - 特許庁

At least one (photo)oligomerizable or (photo)polymerizable additive is added to the primary ceramic process color inks.例文帳に追加

少なくとも一つの（光）オリゴマー化又は（光）ポリマー化可能な添加剤が原色セラミック・プロセスカラーインクに添加される。 - 特許庁

A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加

そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁

CLEANER FOR EXHAUST GAS GENERATED IN BOARD MANUFACTURING DEVICE HAVING PHOTO PROCESS例文帳に追加

フォト工程を有する基板の製造装置で発生する排ガスの浄化装置 - 特許庁

The process is significantly simplified since a photo lithography method is not used in the forming process of the blast mask.例文帳に追加

さらに、ブラストマスクの形成工程でフォトリソグラフィー法を用いないので、工程を著しく簡略化できる。 - 特許庁

Furthermore, the long photo-curing time, problem of the light emitting diodes, can be solved by carrying out the preheating process as a pre-stage operation of the photo-curing process.例文帳に追加

且つ、発光ダイオードの場合の課題である硬化作業時間の長期化を予熱工程を光硬化工程の前段の動作として行うことで解消している。 - 特許庁

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTO-CURABLE MOISTURE-PROOF INSULATION COATING FOR PACKAGED CIRCUIT BOARD, INSULATED ELECTRONIC PART AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、実装回路板用光硬化性防湿絶縁塗料、絶縁処理された電子部品及びその製造法 - 特許庁

To provide a process and an apparatus for manufacturing a photo-reaction product sheet which sticks a photo-reactive composition accurately on a support.例文帳に追加

光反応性組成物を支持体に精度よく貼り付ける光反応生成物シートの製造方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

This process cartridge 100 comprises a charging device 5 and a photo conductor drum 3.例文帳に追加

本発明のプロセスカートリッジ１００は、帯電装置５および感光体ドラム３を備える。 - 特許庁

A through-hole 32 is formed in a supporting substrate 21 by using a photo excited electrolytic polishing process.例文帳に追加

光励起電解研磨法を用いて支持基板２１に貫通孔３２を形成する。 - 特許庁

Successively, a pattern is baked on the resist 2 in a photo-lithographic process and the resist 2 is developed (c).例文帳に追加

次にフォトリソグラフィ工程によりレジスト２にパターンを焼き付け、レジスト２を現像する（ｃ）。 - 特許庁

An immersion exposure process is performed for the acid compensating layer and the photo resist layer.例文帳に追加

前記酸補償層及び前記フォトレジスト層に対して液浸露光工程を行う。 - 特許庁

Therefore, a side where a film is formed on the cathode substrate 1 during the photo process is flat.例文帳に追加

したがって、フォト工程の間はカソード基板１に膜が形成される側はフラットである。 - 特許庁

Since a photo image data is extracted based on the time information associated with respective photo image data, extraction of photo image data is made with simpler process in proper manner when compared with such configuration as a complex determination process is performed for respective photo image data.例文帳に追加

このように、各写真画像データに対応付けられた時間情報に基づいて写真画像データを抽出することにより、各写真画像データに対して複雑な判定処理等を行うような構成と比較して、より簡単な処理で好適に写真画像データを抽出することができる。 - 特許庁

To make a lens-fitted photo film unit for standard photographing only by subjecting a recovered lens-fitted photo film unit for a high shutter speed to simple additional process.例文帳に追加

回収されたシャッタ速度の速いレンズ付きフイルムユニットに、簡単な追加工を施すだけで、標準撮影用レンズ付きフイルムユニットを作る。 - 特許庁

In the immersion lithography process, the photo resist layer is formed on a material layer, and an acid compensating layer is formed on the photo resist layer.例文帳に追加

本発明の液浸リソグラフィ・プロセスにおいて、材料層上にフォトレジスト層を形成し、当該フォトレジスト層上に酸補償層を形成する。 - 特許庁

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTO-RECEPTOR AND ITS MANUFACTURE, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS AND ITS PROCESS例文帳に追加

電子写真感光体、電子写真装置、電子写真プロセス及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁

The hardening with photo- irradiation involves lesser temp. rise than any other hardening process such as thermo-hardening.例文帳に追加

光照射による硬化は、熱硬化などの他の硬化方法に比べて温度上昇が小さい。 - 特許庁

Therefore, the side on which a film is formed on the cathode substrate 1 is flat during the photo process.例文帳に追加

したがって、フォト工程の間はカソード基板１の膜が形成される側はフラットである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory device improving a margin in a photo process, preventing defects in pattern, and preventing defects such as photo mask collapse by decreasing aspect ratio of photo mask.例文帳に追加

フォト工程のマージンを向上させること、パターン不良を防止すること、及びフォトマスクのアスペクト比を減らしてフォトマスク崩壊などの不良を防止することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

Since the photo image data after editing are estimated to be a favorable photo image data for a customer, a photo image data is appropriately extracted by such simple process as the edited photo image data are extracted with sure.例文帳に追加

編集後の写真画像データは、顧客にとって好ましい写真画像データであると推定できるので、編集されている写真画像データを必ず抽出するといった簡単な処理により、好適に写真画像データを抽出することができる。 - 特許庁

To provide a process cartridge achieving improvement of charging performance of a photo conductor by correctly positioning the distance between a grid and the photo conductor.例文帳に追加

グリッドと感光体の距離を正確に位置出しすることにより、感光体への帯電性能の向上を図ることができるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

An adhesive layer 40 to serve transcription is formed from a bonding agent of photo-hardening type, and at transcription, a hardening process including photo-irradiation is performed.例文帳に追加

転写のための接着剤層４０を光硬化型の接着剤で構成することにより、転写時に光照射を含む硬化処理を行う。 - 特許庁

Then, a curing process is performed for curing the photo-curable resin 6 by irradiating the photo-curable resin 6 with light from the side of the case 3.例文帳に追加

その後、光硬化性樹脂６に、ケース３の側方から光を照射することにより、光硬化性樹脂６を硬化させる硬化工程を行う。 - 特許庁

This photo-cleavage of RNA using texaphyrin comprises using photosensitive texaphyrin of [formula 1] in preparation of pharmacological composition useful in a process for photo-cleavage of ribonucleic acid polymer.例文帳に追加

リボ核酸のポリマーを光切断する工程で使用するための薬学的組成物の調製における光感受性テキサフィリン［式１］の使用。 - 特許庁

To reliably make an effect both on a photo-addressable display element and a process execution means, in a display medium having the photo-addressable display element.例文帳に追加

光書込型表示体を有する表示媒体において、作用を及ぼす光書込型表示体と処理実行手段の同一性をより確実ならしめる。 - 特許庁

Subsequently, a development process is performed for the acid compensating layer and the photo resist layer, and patterning of the acid compensating layer and the photo resist layer is performed.例文帳に追加

続いて、前記酸補償層及び前記フォトレジスト層に対して現像工程を行い、前記酸補償層及び前記フォトレジスト層をパターニングする。 - 特許庁

A through hole 12 having a high aspect ratio is formed by a photo-excited electrolytic polishing process in a silicon substrate 11.例文帳に追加

光励起電解研磨法によりシリコン基板１１に高アスペクト比の貫通孔１２を形成する。 - 特許庁

After all the photo process is finished, a hole 102 is formed to make the duct hole to be a through-hole.例文帳に追加

全てのフォト工程が終了した後、孔１０２を形成して排気孔１０を貫通孔とする。 - 特許庁

PIGMENT DISPERSION, ITS MANUFACTURING PROCESS AND PHOTO-CURABLE INK COMPOSITION USING THE PIGMENT DISPERSION例文帳に追加

顔料分散液及びその製造方法並びに該顔料分散液を用いた光硬化型インク組成物 - 特許庁

After the all photo process is completed, a hole 102 is formed and the exhaust hole 10 is made a through hole.例文帳に追加

全てのフォト工程が終了した後、孔１０２を形成して排気孔１０を貫通孔とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal circuit which has a low electric resistance value and is stable without performing a conventional photo process nor a conventional etching process.例文帳に追加

従来のフォトプロセス及びエッチングプロセスを行わず、電気抵抗値が低く、且つ安定的な金属回路の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photo-setting composition being excellent in heat resistance and low in the contractility during photo-setting, and a pattern formation process by light imprinting method using the composition.例文帳に追加

光硬化時の収縮度が低く耐熱性に優れた光硬化性組成物及び該組成物を用いる光インプリント法によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the photo-fabrication product includes a process for producing the photo-fabricated cured body 2 by irradiating a photo-curable resin and a process in which an absorption body 4 having a property to absorb liquid by a capillary phenomenon is contacted with the photo-fabricated cured body 2 to make an uncured resin liquid 3 be absorbed by the absorption body 4.例文帳に追加

光硬化性樹脂に光を照射することにより、光造形硬化体２を生成する工程と、前記光造形硬化体２に対し、毛細管現象により液体を吸収する性質を有する吸収体４を接触させ、当該吸収体に未硬化樹脂液３を吸収させる工程とを有する光造形物の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a thin film transistor array board, which enables the execution of a patterning process without employing a photo process.例文帳に追加

本発明の目的はフォト工程を使わなくてもパターニング工程を遂行することができる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To enable execution of a printing process from an operation panel of a photo direct printer body to more kinds of data files.例文帳に追加

より多種のデータファイルに対して、フォトダイレクトプリンタ本体の操作パネルから印刷処理を実行できる様にする。 - 特許庁

STAR POLYMER, ITS PREPARATION PROCESS, REFRACTIVE INDEX CONVERTING MATERIAL AND PHOTO-THERMAL ENERGY CONVERTING STORING MATERIAL例文帳に追加

スターポリマーおよびその製造方法ならびに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料 - 特許庁

To provide a catalogue photo photographing method for reducing the time of a catalogue photograph photographing process.例文帳に追加

カタログ写真撮影工程の時間短縮を図ることができるカタログ写真撮影方法等を提供する。 - 特許庁

For improving adhesiveness between a wire 11 and a mixing coating (photo-curing resin) formed on it, a wire cleaning process is applied before applying of the mixing solution 220 of a photo-curing adhesive 21a and the photo-curing resin.例文帳に追加

ワイヤ１１とその上に形成される混合被覆（光硬化性樹脂）との密着性を向上させるために、光硬化性接着剤２１ａ、光硬化性樹脂の混合溶液２２０の塗布工程の前に、ワイヤ洗浄処理を施す。 - 特許庁

To provide a technique capable of reducing the four processes of a key open photo process, a key open etching process, a photoresist removing process, and a subsequent cleaning process; and reducing a TAT (Total Around Time) and a manufacturing cost by skipping a conventionally used key open process.例文帳に追加

従来用いられていたキーオープン工程を省略することによりキーオープンフォト工程、キーオープンエッチング工程、感光膜除去工程及び後続洗浄工程の４段階を縮小することができ、ＴＡＴ（Total Around Time）及び製造原価を低減させる技術を示す。 - 特許庁

To provide a photo-induced CVD method and a photo-induced CVD apparatus capable of performing the film deposition utilizing a multiphoton absorption process, and having an excellent film quality after the film deposition.例文帳に追加

多光子吸収過程を利用した成膜が可能であり、また成膜後の膜質が良好な光気相化学成長法及び光気相化学成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image display unit having a built-in a photo-sensor comprising a photo-sensor element with high sensitivity and low noise and a polycrystalline silicon TFT formed at the same time on an insulating substrate using a planer process.例文帳に追加

高感度・低ノイズの光センサ素子と多結晶シリコンＴＦＴとを、絶縁膜基板上にプレナプロセスを用いて同時に形成した光センサ内蔵画像表示装置 - 特許庁

Thus, the passive and active distance measurements can be executed by inputting photo detection data twice at the maximum and the inputting of photo detection data and the curtailing of the housing process are possible, thereby achieving the shortening of the distance measuring time.例文帳に追加

最大２回の受光データの取込みで、パッシブ測距とアクティブ測距が実行でき、受光データの取り込み、格納工程が削減でき、測距時間を短縮することが可能になる。 - 特許庁