「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photo ordering program and a photo ordering system whereby a required retry process can surely be carried out by preventing a work mistake in retrying process works and the work efficiency of the entire processing processes in a large lab can be enhanced by averaging loads of each of the processes.例文帳に追加

工程作業のやり直しの際に作業ミスを防止して必要なやり直し工程を的確に行うことができ、また各工程の負荷を平均化して大ラボ内における処理工程全体の作業効率を向上させることのできる写真受注プログラム及び写真注文システムを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor device has a process forming a photo-resist film on a film to be etched 11, a process forming rectilinear resist patterns 50 placed on the film to be etched 11 by exposing and developing the photo-resist film and a process forming a rectilinear pattern 11a by etching the film to be etched 11 while using the resist patterns 50 as masks.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、被エッチング膜１１上にフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を露光及び現像することにより、被エッチング膜１１上に位置する直線状のレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして被エッチング膜１１をエッチングすることにより、直線パターン１１ａを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

LAMINATE, PRODUCTION PROCESS OF POLYMER-METAL COMPOSITE AND ULTRAVIOLET ABSORBING FILM, INFRARED ABSORBING FILM, PHOTO-MASK, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM, CONDUCTIVE MATERIAL, PRINTED WIRING BOARD AND THIN LAYER TRANSISTOR OBTAINED BY THE PROCESS例文帳に追加

積層体、ポリマー−金属複合材料の作製方法及びそれにより得られた紫外光吸収フィルム、赤外光吸収フィルム、フォトマスク、電磁波シールドフィルム、導電性材料、プリント配線板及び薄層トランジスタ。 - 特許庁

To provide a three-dimensional photo-fabrication device, in which a laser torch for photo fabrication and a cutting main axis for cutting and shaping are installed in one working head, and which makes an aimed product in one process, with a low cost and short working hours.例文帳に追加

１個の加工ヘッドに光造形用のレ−ザ−ト−チと切削整形用の切削主軸を設置し、所要の造形物を１工程で完成させるコスト低下及び作業時間の短縮する３次元光造形装置を提供する。 - 特許庁

Then, a signal wiring layer 9 having the specific pattern is formed on the copper layer 1 by the photo process and etching, photo solder resist 10 is applied, patterning is made into a prescribed shape, and a via hole 11 for a soldering ball is formed by baking for curing.例文帳に追加

次に、他の銅層１にフォトプロセスとエッチングによって所定のパターンを有する信号配線層９を形成し、フォトソルダレジスト１０を塗布し、所定の形状にパターニングし、ベークを行って硬化させて半田ボール用のビア１１を形成する。 - 特許庁

To improve the electrification characteristics, moisture proof property (moisture resistance), scratching resistance and sticking characteristics of a photo-thermal photographic sensitive material, to decrease haze due to interferential irregularity or scattering reflection in the process of laser exposure and to provide a photo-thermal photographic image forming material with high picture quality.例文帳に追加

光熱写真感光材料の帯電特性、防湿性（耐湿性）、耐傷性およびクッツキ特性を向上させ、レーザー露光において干渉ムラや乱反射によるヘイズを低減し、画質のよい光熱写真画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The critical size and the process latitude of the main feature can be improved by strengthening photo-field effect interference or can be deteriorated by weakening photo-field effect interference in accordance with the phase of an electric filed, which is generated by the adjacent feature.例文帳に追加

隣接するフィーチャによって生成される電界の位相に応じて、主フィーチャの臨界寸法およびプロセスラチチュードを、強め合う光電界干渉によって改善するか、または弱め合う光電界干渉によって劣化させることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the cork product comprises a sticking process for sticking the photo-catalyst particles 12 on the cork substrate 11 by bringing a water-based dispersion in which the photo-catalyst particles 12 consisting of titanium dioxide are dispersed into contact with the cork substrate 11.例文帳に追加

コルク製品の製造方法は、二酸化チタンからなる光触媒粒子１２が分散した水系分散液をコルク基材１１に接触させることにより、その光触媒粒子１２をコルク基材１１に付着させる付着工程を含む。 - 特許庁

In a mold for photo fabrication having a coating layer on the molding surface of the main body of the mold which is produced by a repeated process in which a photo-curable resin material is laminated and photo-cured, a material forming the coating layer penetrates to the depth of at least 500 μm from the molding surface of the main body.例文帳に追加

光硬化性樹脂材料を積層し光硬化させる工程を繰り返して製造してなる光造形型本体の成形表面に皮膜層を有する光造形型であって、前記皮膜層を形成している材料が光造形型本体の成形表面から５００μｍ以上の深さまで含浸している光造形型。 - 特許庁

The optical active connector is constituted to have an electric connector 12, a photo element 16, and a packaging base 20 in which a circuit carrying out a specified signal conversion relay process is formed, are integrated in a case 30.例文帳に追加

電気コネクタ部１２と、光素子１６と、所定の信号変換中継処理を行う回路が形成された実装基板２０とがケース３０に組込まれている。 - 特許庁

To provide a photo-alignment treatment method by which display quality can be enhanced without reducing process throughput and to provide a manufacturing method of a liquid crystal display.例文帳に追加

工程処理能力を落とすことなく、表示品質を高めることができる光配向処理方法および液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.例文帳に追加

本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a flaw in a color filter due to exposure, and enabling continuous work even when a flaw due to a photo mask in an exposure process occurs.例文帳に追加

露光工程でのフォトマスクに起因した欠陥が発生しても、連続して作業を行うことを可能とする、カラーフィルタの露光による欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The photoconductive layer of the photo-addressable display element 7 consists of a photoconductor which multiplies the carrier produced in the photoelectron conversion process by current amplification mechanism.例文帳に追加

光書込み表示素子７の光導電層は、光電変換過程で生成されたキャリアを電流増幅機構によって増倍させる光導電体によって形成される。 - 特許庁

To provide an image processor, image forming apparatus, image processing method, and image processing program, for properly extracting photo image data by a simple process.例文帳に追加

より簡単な処理で好適に写真画像データを抽出することができる画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁

To form the line width CD of a pattern, and a sidewall angle SWA uniformly in a substrate surface in each substrate that is etched after a photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程後にエッチング処理が施された基板において、パターンの線幅（ＣＤ）とサイドウォールアングル（ＳＷＡ）とを夫々、前記基板面内で均一に形成すること。 - 特許庁

To provide a process for the production of a modified polycarbonate resin composition suitable as a material for optical film having excellent transparency, photo-elastic characteristics and fabrication quality.例文帳に追加

透明性、光弾性特性、二次加工性に優れた光学用フィルム材料として好適な改質ポリカーボネート系樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for the production of a modified polycarbonate resin composition suitable as a material for optical film having excellent transparency, photo-elastic characteristics and fabrication quality.例文帳に追加

透明性、光弾性特性および二次加工性に優れた光学用フィルム材料として好適な改質ポリカーボネート系樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet ink composition of photo-curing pigment type, suitable for producing a display color filter by an inkjet process, and having a small particle diameter of a pigment, and having high transmittance.例文帳に追加

インクジェット法によるディスプレイ用カラーフィルタの製造に適した、顔料の粒径が小さく透過率の高い光硬化性顔料型インクジェット用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

Consequently the overlapped dimensions d1, d2 of the source neighborhood area 4 and the ring-shaped gate electrodes 1 are almost equal without being influenced by pattern matching errors in the photo-process.例文帳に追加

その結果、ソース近傍領域４とリング状ゲート電極１の重なり寸法ｄ１、ｄ２は、フォトプロセスのパターン合わせ誤差には影響されず、ほぼ等しくなる。 - 特許庁

MALEIMIDE-BASED RESIN CONTAINING ETHYLENIC UNSATURATED GROUP, ITS MANUFACTURING PROCESS, PHOTO-CURABLE COMPOSITION CONTAINING MALEIMIDE-BASED RESIN CONTAINING ETHYLENIC UNSATURATED GROUP例文帳に追加

エチレン性不飽和基含有マレイミド系樹脂およびその製造方法、ならびにエチレン性不飽和基含有マレイミド系樹脂を含む光硬化性組成物および光・熱硬化性組成物 - 特許庁

In addition, the required fitting accuracy can be ensured and kept by applying a photo-lithographic process and sticking the valve holding member to the substrate without using an adhesive.例文帳に追加

また、接着剤を用いず、フォトリソグラフィプロセスを適用して弁保持部材を基板に対して接着することで、所要の取り付け精度が確保および維持されるようにする。 - 特許庁

The wet towel is washed by a method having a sterilizing treatment process using a photocatalytic function element containing at least a photo-semiconductor powder.例文帳に追加

少なくとも光半導体粉末を含有する光触媒機能体を用いた殺菌処理工程を有することを特徴とする方法によりおしぼりを洗浄する。 - 特許庁

After the immersion exposure process is performed, the concentration of photoacid in the acid compensating layer generated by the photoacid generator included in the acid compensating layer is higher than the concentration of photoacid in the photo resist layer generated by the photoacid generator included in the photo resist layer.例文帳に追加

前記液浸露光工程が行われた後、前記酸補償層に含まれる光酸発生剤により生じた前記酸補償層の光酸濃度は、前記フォトレジスト層に含まれる光酸発生剤により生じた前記フォトレジスト層の光酸濃度より高い。 - 特許庁

This method of forming the microstructure includes a process to form a light shielding mask pattern 11 for shielding light with a prescribed wavelength on the surface of a substrate 7 containing a material which emits light when light having prescribed energy is irradiated to it, and a process to apply a photo-polymerizable photo-polymerization material 9 to the top face of the substrate 7 on which the light shielding mask pattern 11 is formed.例文帳に追加

所定のエネルギを有する光が照射されることにより発光する材料を含む基板７の表面に、所定の波長の光を遮光する遮光マスクパターン１１を形成する工程と、遮光マスクパターン１１が形成された基板７の上面に、光重合性を有する光重合材料９を塗布する工程とを備える。 - 特許庁

To provide an imaging device for producing a recording image for a certificate photo whereby a load on a manufacturing process caused by making the imaging apparatus compatible with a plurality of countries or districts is relieved and a user can easily set a size of the certificate photo to be printed on print paper.例文帳に追加

複数の国又は地域に対応させるために生じる製造工程上の負担を軽減すると共に、使用者が印画紙に印刷される証明写真のサイズを容易に設定可能な、証明写真用の記録画像を作成する撮像装置を提供する。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method that can suppress the formation of abnormal shapes of an object to be etched by gases and can ensure the line width controllability in a PEB process by degassing a photo resist before conducting the PEB process.例文帳に追加

ＰＥＢ工程を行う前にフォトレジスト内のガスを抜くことにより、ガスによる被エッチング物の形状異常の発生を抑制し、かつ、ＰＥＢ工程による線幅制御性を確保することができる半導体装置の製造方法を実現する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion element including a photodetector in which high photo-detection efficiency is realized, and time or labor required for production process is reduced, and to provide a method for producing the element.例文帳に追加

高い受光効率を実現し、製造プロセスに要する時間や手間を低減し得る受光素子をはじめとする光電変換素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a display panel device having a suitable structure for controlling a bank inclination angle at the edge of a barrier rib formed in a photo process, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

フォトプロセスで形成される隔壁の端部におけるバンク傾斜角を制御できる好適な構造の表示パネル装置、および表示パネル装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this producing method of liquid crystal display element, spacers 11 and barrier layers 12 are formed at one time by using a photo etching method or a printing method, thereby decreases the number of process and reduces the cost.例文帳に追加

スペーサー１１および隔壁層１２をフォトエッチング法または印刷法を用いて一度に形成することにより、工程数を減少させ、またコストを低減することができる。 - 特許庁

To provide a mold release film which is suitably used in a photo-curing resin layer manufacturing process, and successfully controlled in ultraviolet ray absorbency, visible light transmissibility, and releasability.例文帳に追加

光硬化性樹脂層製造工程において好適に使用される、紫外線吸収性と可視光線透過性および離型性が良好に制御された離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a photo print order processing device which ensures a smooth operation by eliminating inconsistency between a photographic frame image and print process information recorded in a recording media.例文帳に追加

記録メディアに記録されている撮影コマ画像とプリント処理情報との間で生じた不整合を解消して、スムーズな動作を保証する写真プリント注文処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing wiring, which dispenses with a photo-lithography process when connecting between patterns of an upper layer and lower layer, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、上層と下層のパターンを接続するに際し、フォトリソグラフィ工程が不必要な配線の作製方法及び半導体装置の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁

After removal of the silicon nitride film 113, a thermal oxidation film 117 and a photo resist 119 are deposited and subjected to a full-surface etch-back process to expose the thermal oxidation film 117 on the element region.例文帳に追加

シリコン窒化膜１１３を除去後、熱酸化膜１１７及びフォトレジスト１１９を堆積し、全面エッチバックを行って、素子領域上の熱酸化膜１１７を露出する。 - 特許庁

To provide a technique for improving removal characteristics of a photo resist film (photosensitive masking layer) while reducing consumption of H_2O_2, in a wafer (substrate) cleaning process using a Caro's acid.例文帳に追加

カロー酸を用いたウエハ（基板）洗浄工程において、Ｈ_２Ｏ_２の使用量を低減しつつ、フォトレジスト膜（感光性マスキング層）の除去性を向上できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a distortion occurring in a reed screen type part of a thin metal sheet with very narrow slit type apertures manufactured by a photo-etching process.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

Since the optical transceiver element 10 is made integral with the surface type photo detector 18 arranged on the surface light-emitting element 16, a process for splicing an optical fiber 30 therewith is also easy.例文帳に追加

さらに、光送受信素子１０は、面発光素子１６の上に、面型の受光素子１８を設けて一体化しているので、光ファイバー３０との接合工程も容易である。 - 特許庁

The digital photographing image unit has a support circuit formed on a large substrate manufactured by a CMOS process and a photo sensor formed on a 1st substrate.例文帳に追加

ディジタル写真画像装置は、例えば、ＣＭＯＳプロセスにより製造された大の基板上に形成された支持回路と第１の基板上に形成された光センサを有する光センサを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the laser engraved printing original plate comprises a process for manufacturing a layer capable of being laser engraved by molding a resin to a sheet-like or cylindrical resin plate by photo-setting; and a process for coloring a formed resin plate by heating to precipitate metallic particulates.例文帳に追加

樹脂を光硬化させてシート状あるいは円筒状の樹脂版に成形しレーザー彫刻可能な層を作製する工程、成形した樹脂版を加熱し金属微粒子を析出させ着色する工程を含むレーザー彫刻印刷原版の作製方法。 - 特許庁

When the semiconductor wafer coated with a photo resist film is loaded in a stepper 140, a second controller 150 sets an optimum process parameter based on the inputted information on the semiconductor wafer and controls the stepper 140 according to the set process parameter.例文帳に追加

そして第２コントローラ１５０が、フォトレジスト膜のコーティングされた半導体ウェーハがステッパ１４０内にローディングされれば、入力される半導体ウェーハ情報に従って最適な工程パラメータを設定して、工程パラメータに従ってステッパ１４０を制御する。 - 特許庁

The control method of the multifunction printer includes a process of detecting the existence of a date region when making a copy of a photograph; and a process that, when the date region is detected, a rectangular portion containing no date region out of an image region of the image data read from the photo is set as a printing region and then is recorded.例文帳に追加

写真を焼き増しコピープリントする際に、日付領域の有無を検出し、日付領域を検出すると、写真から読み取った画像データの画像領域のうちで、日付領域を含まない矩形で印刷領域を設定し、記録する。 - 特許庁

To provide a method for photo-modifying regenerated fibers, which is an energy-saving type, and by which the dyeability and the like of fibers or a fiber product containing regenerated fibers can safely be modified in a simple process at room temperature, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

省エネルギー型であり、室温でかつ簡便な操作で安全に、再生繊維を含む繊維や繊維製品の染色性等を改質できる方法およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing liquid crystal display panel capable of photo alignment with a simpler process than heretofore, and to provide a liquid crystal display panel which can be manufactured according to such a manufacturing method.例文帳に追加

従来よりも簡単なプロセスで光配向処理が可能な液晶表示パネルの製造方法およびそのような製造方法によって製造され得る液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁