「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The source/drain areas of a CMOS-type field effect transistor with low off current can be formed only of one photo process.例文帳に追加

オフ電流の低いＣＭＯＳ型電界効果トランジスタのソース・ドレイン領域を１回のフォト工程のみで形成できる。 - 特許庁

In the process 1, a polymer film which contains the optical anisotropic layer on the transparent support is subjected to patterned exposure by using a photo mask.例文帳に追加

［１］透明支持体上の光学異方性層を含む高分子フィルムに、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。 - 特許庁

METHOD OF PERFORMING PHOTO PROCESS FOR FORMING ASYMMETRIC PATTERNS AND METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

非対称パターンを形成するためのフォト工程の実行方法及びそれを用いた半導体装置の形成方法 - 特許庁

Since the widths W1, W2 of the ring-shaped gate electrodes 1 are formed by the photo-process and etching of the same process by using photomasks of the same dimensions, the widths W1, W2 are regarded as almost the same values.例文帳に追加

また、リング状ゲート電極１の幅Ｗ１、Ｗ２は、同一寸法のフォトマスクを使って同一工程のフォトプロセスとエッチングで作るので、ほぼ同じとみなせる。 - 特許庁

To provide a photo detector and a photo-detection method in which the thickness of the device can be reduced, color mixing can be suppressed, satisfactory color separability can be achieved together with high sensitivity, chemical stability can be achieved, and the compatibility of a production process with a production process of peripheral circuits can be realized.例文帳に追加

素子の厚さを薄くすることができ、混色の抑制、色分離性と感度の両立、及び化学的安定性を図り、周辺回路との作製プロセスの適合が可能となる光検出素子及び光検出方法を提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing a divided wavelength plate filter includes: a process of forming a material layer 12 serving as a divided wavelength plate 208 using photo polymerization monomer; and a process of exposing the photo polymerization monomer layer 12 to a predetermined division pattern with polarized light.例文帳に追加

分割波長板２０８となる材料層１２を光重合性モノマーによって形成する工程と、この光重合性モノマー層１２を所定の分割パターンに偏光露光する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁

To provide an optical recording medium for authoring in which a rugged pattern is formed by a simple process without using photo-lithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィーを使わない簡単なプロセスで凹凸パターンを形成することのできるオーサリング用光記録媒体を提供する。 - 特許庁

A thermosetting treatment, photo-setting treatment or the like are applied in a resin layer hardening process to harden the printing ink layer and form a resin layer.例文帳に追加

樹脂層硬化工程で、熱硬化処理、光硬化処理などを施して印刷インク層を硬化して樹脂層を形成する。 - 特許庁

To provide a photographic apparatus and method, capable of minimizing an entire layout of a photo process line and improving the productivity.例文帳に追加

フォト工程ラインの全体レイアウトの最小化及び生産性の向上が図られるフォト装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To take countermeasures to a failure of a photo process due to an exhaust hole formed in a cathode substrate in an FED (field emission display).例文帳に追加

ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）において、カソード基板に形成される排気孔に起因するフォト工程の不良を対策する。 - 特許庁

SILPHENYLENE SKELETON-BEARING POLYMER COMPOUND, PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS, AND SUBSTRATE CIRCUIT PROTECTIVE FILM例文帳に追加

シルフェニレン骨格含有高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板回路保護用皮膜 - 特許庁

To provide an electrode plate for flat panel display provided with a photo spacer having a uniform thickness and not causing hindrance to rubbing in the rubbing processing where the thickness of the photo spacer is not excessively decreased by a load in a panel assembling process and the thickness and the shape of the photo spacer formed by the photo lithography method can be made stable.例文帳に追加

パネル組み立て工程における荷重によってフォトスペーサがその厚みを減じ過ぎることなく、また、フォトリソグラフィ法によって形成されたフォトスペーサの厚さ及び形状が安定したものとなり、さらに、ラビング処理において、フォトスペーサの厚さが均一なラビングの障害になることのないフォトスペーサを具備するフラットパネルディスプレイ用電極板を提供すること。 - 特許庁

To provide a photo mask having a minute pattern capable of thinning a resist film and a shielding film, avoiding a micro loading phenomenon generated in a pattern forming process or the collapse of a minute pattern, and obtaining a minute and accurate pattern; a photo mask blank; and a photo mask manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを擁するフォトマスクにおいて、レジスト膜および遮光膜の薄膜化が可能であり、パターン形成プロセスにおいて生じるマイクロローディング現象や微細パターンの倒壊を回避して、微細かつ高精度なパターンが得られるフォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the process of dropping, the four photo-sensors 40 sense the reflected light form the inner peripheral section of the tossing ring 9c and output a passing signal.例文帳に追加

落下の過程で、４つのフォトセンサ４０が投げ輪９ｃの内周部分からの反射光を検知して通過信号を出力する。 - 特許庁

The in-situ detection and analysis apparatus for the membrane filtration process having a photo-sensing device, a driving device, and a data processing device is disclosed.例文帳に追加

本発明は光感知装置と駆動装置とデータ処理装置とを備えた膜濾過工程用現場検出分析装置開示する。 - 特許庁

To achieve high productivity by eliminating an excessive photo lithography process and to simultaneously achieve a high-quality multi-layered thin film.例文帳に追加

余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide an anti-fuse element capable of selectively providing a fuse member without the interruption of any photo-lithography process and a method for manufacturing this anti-fuse element.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程を経ずに選択的にヒューズ部材を設けることのできるアンチヒューズ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaner low in running cost and excellent in maintainability for exhaust gas generated in a board manufacturing device having a photo process.例文帳に追加

ランニングコストが低く、メンテナンス性がよいフォト工程を有する基板の製造装置で発生する排ガスの浄化装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a process unit which enhances assembly workability of a photo receptor and an intermediate transfer body to a unit frame and an image forming apparatus.例文帳に追加

ユニットフレームへの感光体及び中間転写体の組付作業性を向上させるプロセスユニット及び画像形成装置を得る。 - 特許庁

To prevent the formation of a connection electrode with fault due to excessive etching by etching fluid in the etching process of a photo lithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法におけるエッチング工程時に、エッチング液による過食刻によって不良な接続電極が形成されるのを防止する。 - 特許庁

HARDENED MATERIAL, COATING LIQUID FOR FORMING HARDENED MATERIAL, PHOTO CONDUCTOR FOR ELECTROPHOTOGRAPHY, COATING LIQUID FOR FORMING TOP LAYER, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

硬化体、硬化体形成用塗布液、電子写真感光体、最表面層形成用塗布液、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

Only a hole 101 is formed on an exhaust hole 10 formed on a cathode substrate 1 while a cathode substrate 1 is going through a photo process.例文帳に追加

カソード基板１に形成される排気孔１０に対し、カソード基板１がフォト工程を経る間は穴１０１のみを形成しておく。 - 特許庁

WOOD FOR CONSTRUCTION IN WHICH TITANIUM DIOXIDE AND PHOTO-CATALYST ARE CARRIED ON CONSTRUCTION MATERIAL IN LUMBERING AND PRODUCT PROCESSING PROCESS, GLUED PLYWOOD AND PLASTER BOARD例文帳に追加

製材、及び、製品加工の工程で建材に二酸化チタンや光触媒を担持させた建築用木材と、集成合板と、石膏ボード。 - 特許庁

To provide a method of performing a photo process for forming asymmetric patterns and a method of forming a semiconductor device using the same.例文帳に追加

非対称パターンを形成するためのフォト工程の実行方法及びそれを用いた半導体装置の形成方法を提供する。 - 特許庁

In each photolithography process, an alignment error of a photo resist pattern generated in the photolithography process is measured and then an exposure correction value (alignment correction value) for the photolithography process is calculated from the measured alignment error.例文帳に追加

各フォトリソグラフィ工程を行った際には、当該フォトリソグラフィ工程で形成されるフォトレジストパターンの重ね合わせ誤差を測定し、測定した重ね合わせ誤差から当該フォトリソグラフィ工程での露光補正値（アライメント補正値）を算出する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process (a) for applying the paste to a non- baked ceramic substrate, a process (b) for photo-curing the applied paste, and a process (c) for baking the obtained cured film, and carries out the process (b) without carrying out a heat treatment for removing the solvent after the process (a).例文帳に追加

本発明の製造方法は、（ａ）上記ペーストを未焼成のセラミック基材に塗布する工程と、（ｂ）その塗布されたペーストを光硬化させる工程と、（ｃ）得られた硬化膜を焼成する工程とを含み、前記（ａ）工程の後、溶剤除去のための加熱処理を行うことなく前記（ｂ）工程を実施する。 - 特許庁

This method also includes an exposing process to expose the photo-polymerization material 9 by making light enter the substrate 7 from the lower part of a portion where a light emitting material in the substrate 7 exists, a developing process to develop the substrate 7 posterior to the exposing process, and a drying process to dry the substrate 7 posterior to the developing process.例文帳に追加

さらに、基板７内の発光する材料が存在する部分より下方から基板７に光を入射させ、光重合材料９を露光する露光工程と、露光工程後の基板７を現像する現像工程と、現像工程後の基板７を乾燥する乾燥工程とを備える。 - 特許庁

Since a color filter can be superposed and arranged also on a plurality of photo sensors provided between adjacent pixel electrodes, and the superposition of the color filter on the photo sensor can be performed in the same process and by use of the same alignment as a color filter to be superposed on the pixel electrode, merits in the manufacturing process can be obtained.例文帳に追加

また、隣り合う画素電極の間に設けられた複数のフォトセンサにもカラーフィルタを重ねて配置することができ、フォトセンサと重ねるカラーフィルタを画素電極と重ねるカラーフィルタと同じ工程、且つ、同じアライメントを用いて重ねることができるため、製造プロセス上のメリットが得られる。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent display device which can dispense with a photo-etching process for forming a spacer pattern and provide its manufacturing method.例文帳に追加

スペーサパターンを形成するための写真エッチング工程を排除する有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By this structure, various kinds of failures due to a resist staying in the exhaust hole 10 at the photo process is prevented.例文帳に追加

このような構成とすることによって、フォト工程において、レジストが排気孔１０に溜まって種々の不良を引き起こすことを防止できる。 - 特許庁

To suppress facility cost or the like without using a fine wiring working technology such as a photo lithography process, thereby achieving cost reduction in manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程などの微細配線加工技術を用いずに、設備費用等を抑え、プラズマディスプレイパネル製造時の低コスト化を実現する。 - 特許庁

In such a configuration, a resist is prevented from being collected in the duct hole 10 to cause various defects in the photo process.例文帳に追加

このような構成とすることによって、フォト工程において、レジストが排気孔１０に溜まって種々の不良を引き起こすことを防止できる。 - 特許庁

The method comprises: a process of forming a photo epoxy buffer layer having a groove pattern on the rear surface of a wafer substrate for marking scribe lines to be diced; a process of etching the substrate along the marking groove in the photo epoxy layer; and a process of cutting the wafer along the etching groove by a mechanical force from the front or rear surface to separate the wafer into singulated IC packages.例文帳に追加

ダイシングされるスクライブ線をマーキングするためにウエーハの基板の裏面に溝パターンを有するフォトエポキシバッファ層を形成する工程、フォトエポキシ層中のマーキング溝に沿って基板をエッチングする工程、表面または裏面から機械的な力によりエッチング溝に沿ってウエーハを切断し、個別のＩＣパッケージに分離する工程からなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor element and a manufacturing method thereof such that a process margin can be secured by preventing a thinning-out phenomenon of a reflective film in a photo process for controller gate formation.例文帳に追加

コントローラゲート形成のためのフォト工程において、反射膜の間引き現象を防止して、工程マージンを確保できる半導体素子及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an organic insulating film which enables a fine pattern process and can improve the electric performance of a transistor because it has a chemical resistance against the organic solvent used in the photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程中に使用される有機溶媒に耐化学性を有するので、微細パターン工程を可能とし且つトランジスタの電気的性能を向上させることが可能な有機絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device to improve defects in vacuum absorption by forming a groove part on a photo mask such that the groove part absorbs a bubble generated in a crimping process between the photo mask and a body to be transferred in the exposure device.例文帳に追加

フォトマスクに溝部を形成することにより、露光装置内のフォトマスクと被転写体との圧着過程で発生した気泡が前記溝部に吸収され、真空吸着不良を改善する露光装置を提供する。 - 特許庁

The base metal supporting process P3 is constituted of a solution treatment process P31 for immersing the raw photocatalyst material in a base metal compound solution by a photo precipitation method, an ultraviolet treatment process P32 for irradiating the photocatalyst material on which the base metal is supported in the process P31 with ultraviolet rays and a drying process P33 for drying the photocatalyst material treated in the process P32.例文帳に追加

卑金属担持工程Ｐ３は光析出法により、原光触媒材料を卑金属化合物溶液に浸漬する溶液処理工程Ｐ３１と、工程Ｐ３１において卑金属が担持された光触媒材料に紫外光を照射する紫外線処理工程Ｐ３２と、工程Ｐ３２により処理された光触媒材料を乾燥する乾燥工程Ｐ３３と、から構成する。 - 特許庁

Thereby, the coating with protrusions and recessions is obtained without undergoing, for example, such processes as an exposure step like a photo-lithography method, and a development process.例文帳に追加

これにより、例えばフォトリソグラフィ法のような露光工程、現像工程といった工程を経ることなく、凹凸を有する塗布膜を得ることができる。 - 特許庁

Since the energy conversion of the field emission type illumination device is carried out only through a conversion process from electric energy to photo-energy, energy conversion rate is high.例文帳に追加

前記電界放出照明装置のエネルギー変換は、電気的エネルギーから光エネルギーへの変換過程のみを経ることにより、エネルギー変換率が高い。 - 特許庁

To provide a formation method of a hard mask pattern of fine pitch by which pattern formation of fine pitch exceeding the resolution limit in a photo lithography process can be achieved.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのパターン形成を実現可能とする、微細ピッチのハードマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Then, the method also has a process for forming a metal post 8 that is made of Cu on the wiring layer 7 via the photo resist layer PR2.例文帳に追加

続いて、前記ホトレジスト層ＰＲ２を介して前記配線層７上にＣｕから成るメタルポスト８を形成する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent adhesion of dirt in the rear surface of a semiconductor wafer in the development process of a photo resist.例文帳に追加

フォトレジストの現像工程において、半導体ウエハの裏面への汚れの付着を防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

One of the so-formed cross shapes is used as an alignment mark for exposure in a photo-lithographic process for a layer formed later.例文帳に追加

このように形成された十字型のうちのひとつは、後に形成される層のフォトリソグラフィ工程の露光において、アライメントマークとして使用される。 - 特許庁

To form a desired resist pattern accurately by devising a lithography process so that dimensional error of a mask pattern in a photo mask is easily and certainly corrected.例文帳に追加

リソグラフィープロセスを工夫することにより、フォトマスクにおけるマスクパターンの寸法誤差を容易且つ確実に補正し、所望のレジストパターンを正確に形成する。 - 特許庁

To effectively gather and speedily sent out photo-film containers to a supply part by simple process and comfigutation.例文帳に追加

簡単な工程および構成で、写真フイルム用容器を効率よく集積するとともに、前記容器を供給部に迅速に送り出すことを可能にする。 - 特許庁