「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A light source module 1 used for irradiating a processing object 2 with a laser beam to process the processing object 2, is equipped with this photo-detecting device 10, a light source 20, a collimator 30, and a condensing lens 40.例文帳に追加

光源モジュール１は、加工対象物２にレーザ光を照射して該加工対象物２を加工するものであって、光検出装置１０、光源２０、コリメータ３０および集光レンズ４０を備える。 - 特許庁

To provide a method for photo-modifying synthetic fibers, which is an energy-saving type, and by which the dyeability and the like of fibers or a fiber product containing synthetic fibers can safely be modified in a simple process at room temperature, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

省エネルギー型であり、室温でかつ簡便な操作で安全に、合成繊維を含む繊維や繊維製品の染色性等を改質できる方法およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

In the photo lithography process of a primary stage, when a wiring region 10 is formed on a substrate 1 in which photoresist 2 is spread on the whole surface, exposure is performed so that the resist cross-section becomes an inverse tapered shape profile.例文帳に追加

第１段階のフォトリソグラフィー工程において、フォトレジスト２を全面に塗布した基板１上に配線領域１０を形成する際、そのレジスト断面が逆テーパ形状となるように露光する。 - 特許庁

In digital orthophoto creating processing 4, by using the numerical geographical model obtained through the processing by the numerical geographical model creating section B, the aerial photo conducted by an aerial triangulation process 3 is converted into a digital orthophoto.例文帳に追加

デジタルオルソフォト作成処理４は、数値地形モデル作成部Ｂの処理で得られた数値地形モデルを用いて、空中三角測量処理３がなされた航空写真をデジタルオルソフォトに変換する。 - 特許庁

After through holes 9a and 9b are formed in this smoothing layer 8, a metallic thin film is formed on this layer 8, and a photo process is used to form gate electrodes, source electrodes, and pixel electrodes 2a.例文帳に追加

次に、この平滑化層８にスルーホール９ａ、９ｂを形成した後、その上に金属薄膜を形成し、フォトプロセスを用いてゲート電極とソース電極及び画素電極２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for photo-modifying natural fibers, which is an energy-saving type, and by which the dyeability and the like of fibers or a fiber product containing natural fibers can safely be modified in a simple process at room temperature, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

省エネルギー型であり、室温でかつ簡便な操作で安全に、天然繊維を含む繊維や繊維製品の染色性等を改質できる方法およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR) or so called a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い製（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photo-setting transfer disk sheet which is suitable for continuous processing of a long-length photo-setting transfer disk sheet during transportation, in which accuracy of punching depth is achieved in a punching process, crush of a punching cross section is prevented, also, accuracy of a true circle of a disk shape is improved further.例文帳に追加

搬送下の長尺状の光硬化性転写材シートの連続的な処理に適し、打ち抜き加工において打ち抜き深さの精度を達成し、打ち抜き断面の押しつぶしを回避し、且つ、円盤形状の真円の精度をさらに高めた、光硬化性転写円盤シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting defects of a photo mask for projection exposure or a nano imprint mold, in particular, that for correcting a white defect and a missing defect, to be put into practice as a production process for a photo mask with a configuration with commonly-used members without danger.例文帳に追加

本発明は投影露光用フォトマスクやナノインプリントモールドの欠陥修正方法、特に白欠陥、欠落欠陥の修正方法に関するもので、危険を伴わず、汎用的な部材の構成でフォトマスクの製造工程として実用出来るフォトマスク等の欠陥修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated film suitable for a dry film photo resist (DFR), that is a coverless DFR which satisfies the transparency capable of being used for a high resolution DFR, UV transmission property and handling property (slippage), eliminates a process for providing a protective film on a photo resist layer and contributes to the reduction of an industrial waste.例文帳に追加

高解像度ＤＦＲに使用し得る透明性、ＵＶ透過性と取扱い性（滑り性）を満足し、フォトレジスト層の上に保護フィルムを設ける工程を省略し、かつ産業廃棄物の軽減に寄与するドライフィルムフォトレジスト（ＤＦＲ）、いわゆるカバーレスＤＦＲに有用な積層フィルムを提供する。 - 特許庁

The photocatalyst-treated body whose surface is treated by a flame spraying process wherein the photocatalyst functional body comprising at least a photo-semiconductor powder is stuck on the surface of a base material by means of a flame spraying and an impregnation process wherein insides of fine holes of the photocatalyst layer formed by the flame spraying process are sealed by filling them with an impregnating liquid, is provided.例文帳に追加

少なくとも光半導体粉末からなる光触媒機能体を基材表面に溶射により付着せしめる溶射工程と、当該溶射工程により形成された光触媒層の微細孔内を含浸剤で満たすことにより封孔する含浸工程と、により表面処理されていることを特徴とする光触媒処理体を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing microbeads includes: the forming process S_2 for forming a thin film formed on a substrate in a predetermined form by photo-lithography; the immobilizing process S_5 for immobilizing a prescribed substance on the thin film which has been formed on the substrate; and the stripping off process S_6 for stripping off the thin film on which the substance has been immobilized after forming.例文帳に追加

基板上に製膜された薄膜をフォトリソグラフィーによって所定の形状に成形する成形工程S_2と、成形後の前記薄膜上に所定の物質を固相化する固相化工程S_5と、前記物質が固相化された成形後の前記薄膜を前記基板から剥離する剥離工程S_6と、を含むマイクロビーズ作製方法を提供する。 - 特許庁

To deal with the exposure for patterning where micro patterns with different pitches coexist closely and to accurately form micro patterns at enough production process margin without using a photo mask such as Levenson-type phase shift mask that has a complicated production process and is high in manufacturing cost.例文帳に追加

ピッチの異なる微細なパターンが近接して混在するパターニングを行うための露光にも対応し、レベンソン型位相シフトマスクの如き製造プロセスが煩雑で製造コストの高いフォトマスクを用いることなく、十分な製造プロセスマージンで微細なパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

In this monitoring system of a film cutting process, a monitoring display input part of a film cutter installed in a dark room to cut a wide original roll film to photo films of two or more widths is installed in a light room as well outside of the dark room, thereby monitoring the film cutting process.例文帳に追加

暗室内に設置して広幅の元巻フィルムから複数の写真フィルム幅に断裁するフィルム断裁機のモニター表示入力部を暗室外の明室にも設置してフィルム断裁処理工程の監視を可能としたことを特徴とするフィルム断裁工程の監視システム。 - 特許庁

It has least the process, which forms the organic EL layer of at least one-layer which constitutes the EL element by patterning it with the photo lithography method, and the process, which forms the buffer layer which is not eluted in a solvent.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層をフォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程と、溶媒に不溶なバッファー層を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of patterning a thin film includes a process for laminating a deposition film 30 on the thin film 20, a process for laminating a photo resist layer 40 on the deposition film, a process for patterning the photoresist layer by photolithography, and etching and patterning the deposition film by using the patterned photoresist layer, and a process for etching and patterning the thin film by using the patterned deposition film as a pattern mask.例文帳に追加

薄膜２０上に、蒸着膜３０を積層する工程と、 前記蒸着膜上に、フォトレジスト層４０を積層する工程と、 フォトリソグラフィにより、前記フォトレジスト層をパターニングし、パターニングされた前記フォトレジスト層を用いて前記蒸着膜をエッチングしてパターニングする工程と、 パターニングされた前記蒸着膜をパターンマスクとして、前記薄膜をエッチングしてパターニングを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photo-curable adhesive composition without requiring an evaporation process of a solvent, capable of becoming an adhesive showing an excellent adhesive property and the stability over time of the adhesive power, and a method for producing the same.例文帳に追加

溶媒の揮発工程を必要とせず、かつ優れた接着性および接着力の経時安定性を示す接着剤となり得る光硬化性接着剤組成物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, the first lens pattern 24 is partially or entirely exposed to light via a second photo mask 20 to conduct a second exposure process for making at least part of each portion that will become a microlens thinner.例文帳に追加

次に、第２のフォトマスク２０を介して第１のレンズパターン２４を部分的もしくは全面的に露光し、マイクロレンズとなるべき各部分について、少なくとも一部の膜厚を薄くする第２の露光処理を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an MEMS (Micro Electro Mechanical System) device, which dispenses with a photo resist film in releasing an MEMS structure using an etchant to simplify the process, and easily seals the MEMS structure.例文帳に追加

エッチング液を用いてＭＥＭＳ構造体をリリースする際に、フォトレジスト膜を必要とせず、工程を簡略化でき、かつ容易にＭＥＭＳ構造体を封止するＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold release film having ultraviolet ray anti-reflection characteristics and controlled well in size stability and releasability during ultraviolet ray irradiation, which is suitably used for a photo-cured resin layer manufacturing process.例文帳に追加

光硬化性樹脂層製造工程において好適に使用される、紫外線の反射防止性が付与された、紫外線照射時の寸法安定性および離型性が良好に制御された離型フィルムを提供する。 - 特許庁

In a reinterconnect wiring formation process of WLCSP, at least part of a rewiring 3 for connecting bonding pads 1 of a semiconductor chip and bump pads 2 is formed by photolithography using no photo mask.例文帳に追加

ＷＬＣＳＰであって、再配線形成工程では、半導体チップのボンディングパッド１とバンプパッド２とを接続する再配線３の少なくとも一部をフォトマスクを使用しないフォトリソグラフィ技術を用いて形成する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 1 which has finished an exposure process is heated to a temperature WT1 lower than one at which the photo resist 3 is hardened by means of a heater plate 7 arranged inside a PEB chamber 5, and is then left as it is for a time period of ta.例文帳に追加

露光工程を終了した半導体基板１をＰＥＢ室５に配置されたヒータプレート７により、フォトレジスト３が硬化する温度よりも低い温度ＷＴ１に加熱し、ｔａ時間放置する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor where it is not necessary to execute a plurality of photo-lithograph processes, and it realizes increase in the margin of patterning in a process for forming the gate electrode of a linewidth area whose microfabrication is progressed.例文帳に追加

微細化が進んだ線幅領域のゲート電極の形成工程において、複数回のフォトリソグラフ工程が不要であり、パターニングのマージンを拡大できる薄膜トランジスタの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for efficiently manufacturing a composite optical element with high accuracy in its form, which is composed of at least two layers, i.e. a base material and a photo-curing resin, and very little in camber deformation even when used at a high operating temperature.例文帳に追加

少なくとも母材と光硬化樹脂の２層で構成され、実使用温度が高い場合でも、反り変形量の極めて少ない形状精度の高い複合光学素子を効率よく得る製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a high-voltage C-MOS element and a method of manufacturing the same which can simplify a process and reduce manufacturing cost by eliminating the need for forming another mask for forming a photo align key.例文帳に追加

実施例は、フォトアラインキー形成のために別途のマスクを形成する必要がないので、工程を単純化して、製造費用を節減することができる高電圧シーモス素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A coating material layer 130 contains an acid 134 capable of neutralizing a base quencher 124 from a photo sensitive layer, and a polymer 132 as a carrier of the acid 134 and insoluble in an immersion fluid used in an immersion lithography process.例文帳に追加

コート材料層１３０が、感応層からのアルカリ性クエンチャー１２４を中和させる酸１３４と、酸１３４のキャリアであり、液浸リソグラフィ工程で用いられる液浸流体に溶解しないポリマー１３２とを含む。 - 特許庁

This cleaner for exhaust gas generated in the board manufacturing device having a photo process is equipped with an exhaust gas inlet, a combustion means, and an exhaust gas outlet, and as the combustion means, a regenerative combustion means is used.例文帳に追加

フォト工程を有する基板の製造装置で発生する排ガスの浄化装置として、排ガスの流入口と、燃焼手段と、排ガスの流出口とを備え、燃焼手段として、蓄熱式燃焼手段を用いる。 - 特許庁

To manufacture such an optical path changing structure as stably feeding optical signals to a photo diode by using a usual semiconductor process so that its precise manufacturing position and changing angle are obtained and moreover reproducibility is faithfully attained.例文帳に追加

通常の半導体プロセスを用いてフォトダイオードに安定して光信号を給光するような光路変更構造を、その製作位置と変更角度を精度良く、かつ再現性良く作製することを可能とすること。 - 特許庁

The apparatus for forming image is characterized in that the time required from exposure to development is set in a range of a function to be guided a transfer degree of a electrode transportation layer of a photo conductor and process speed of the apparatus.例文帳に追加

画像形成装置において、露光から現像までに要する時間が、感光体の電荷輸送層の移動度と装置のプロセススピードにより導かれる関数の範囲に設定されることを特徴とする。 - 特許庁

In this method for manufacturing a semiconductor device, the mask pattern of a first layer and the mask pattern of a second layer can be formed as mask patterns whose shapes are similar, and whose dimensions are different by self-align only in single photo-lithograph process.例文帳に追加

本発明の作製方法によれば、１回のフォトリソグラフ工程のみで第１層のマスクパターン及び第２層のマスクパターンをセルフアラインで、かつ、相似形で寸法の異なるマスクパターンとして形成できる。 - 特許庁

A bipolar photo-electrochemical process is disclosed for electroless deposition (referred to as photo Bi-OCD) of a metallic compound onto the top surface of a semiconducting substrate whereby differential illumination of the front side of the substrate versus the back side of the substrate provides a driving force to separate the cathodic and anodic partial reactions leading to high yield deposition of the metallic compound.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属化合物を無電解析出（光Ｂｉ−ＯＣＤとよばれる）させるバイポーラ光電気化学プロセスであって、基板の表側と基板の裏側の異なった照度が、カソード反応とアノード反応とを分離する駆動力を形成し、高歩留まりの金属化合物の析出が得られるプロセスが開示されている。 - 特許庁

These methods include stages of: forming a thin film 52 of a microlens constituting substance on a substrate 51, forming a photo register pattern 53 on the thin film 52, forming a thin film constituting substance 54 though an etching process using the photo register pattern 53, and forming the microlens by reflow by thermal processing of the thin film constituting structure 54.例文帳に追加

基板５１上にマイクロレンズ構成物質の薄膜５２を形成する段階と、前記薄膜５２上にフォトレジストパターン５３を形成する段階と、前記フォトレジストパターン５３を用いたエッチング工程を通じて薄膜構造物５４を形成する段階と、前記薄膜構造物５４を熱処理してリフローによってマイクロレンズを形成する段階と、を含む。 - 特許庁

To obtain a coating composition which shows minimal degradation of the surface gloss with walk load, suffers reduced color stain with a lard, a process oil or the like and has an improved gloss retentivity by adding a photo-curing oligomer and a photo initiator.例文帳に追加

歩行負荷による表面光沢の劣化が少なく、ラード、プロセスオイルなどによる着色汚れがわずかで、かつ研磨などによって着色汚れを簡単に取り除くことができる、床材表面の被覆組成物、これを被覆した床面被覆体及びその製造方法、並びに光沢保持性に優れた樹脂塗膜を作成し得る複合フィルムを提供する。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

Merely an oxide film 5 that is deposited, in advance, in a groove 4 for alignment is selectively thinned with photo resist as a mask, thus preventing the region of the groove 4 for alignment from being flattened even in a flattening machining after that, and hence achieving an effective function as the mark for positioning of a process following after an element insulation and isolation process.例文帳に追加

予め位置合わせ用溝４に堆積した酸化膜５のみをフォトレジストをマスクとして選択的に薄くすることにより、その後の平坦化加工においても、位置合わせ用溝４の領域が平坦になることはなく、素子絶縁分離工程に続く工程の目合わせ用マークとして有効に機能させることができる。 - 特許庁

To provide an optical transceiving module and an optical element used for it without requiring an optical wave-guide and even without requiring a groove processing process and an insertion process of an optical wavelength selective filter for a groove by attaching the optical wavelength selective filter on light receiving surface of a photo-detector or an end surface of an optical fiber.例文帳に追加

受光素子の受光面或いは光ファイバの端面に光波長選択フィルタを取り付けることにより、光導波路を必要とせず、溝加工プロセスおよび溝に対する光波長選択フィルタの挿入プロセスも必要としない、光送受信モジュールおよびこれに使用される光学素子を提供する。 - 特許庁

The method for preparing the planographic printing plate comprises a process of preparing a photo-insensitive ink receptor layer containing a water soluble polymer on the support, and forming an image part by discharging the ink composition on the ink receptor layer by the inkjet recording system, and a process evaporating the solvents contained in the image part at 45°C or lower.例文帳に追加

支持体上に、水溶性ポリマーを含有する非感光性のインク受容層を設け、該インク受容層上に、該インク組成物をインクジェット記録方式により吐出して画像部を形成する工程と、該画像部に含まれる溶剤を４５℃以下の温度で揮発させる工程とを有する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern for stably forming an accurate fine pattern to be used in semiconductor manufacturing process such as IC or the like, manufacturing of a circuit board for a liquid crystal, thermal head or the like, and other photo fabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image-receiving sheet capable of forming a film photo-like image having high gloss and high picture quality by a single fixation (only primary fixation) process and an image-forming method to use the electrophotographic image-receiving sheet.例文帳に追加

一回の定着（一次定着のみ）で銀塩写真ライクの高光沢で高画質な画像を形成することができる電子写真用受像シート及び該電子写真用受像シートを用いた画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a process for producing fats and oils that makes it possible to sterilize fats and oils without the occurrence of the production of an active radical or the like and the oxidation of fats and oils caused by the active radical and to decompose a photosensitizer which promotes photo-oxidation.例文帳に追加

活性ラジカルなどの生成およびそれにより招来される脂肪酸化を起こさずに油脂を殺菌し、かつ光酸化を促進する光増感剤を分解することのできる、油脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an intermediate useful for producing 2-alkylcarbonyloxy-1,1-difluoroethanesulfonic acid onium salt useful as a photo-acid generating agent used for chemically amplifiable resist materials, and the like, and to provide an industrial process for producing the salt.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、２−アルキルカルボニルオキシ−１，１−ジフルオロエタンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。 - 特許庁

A first exposure process is conducted on a microlens material film formed on an insulation film 13 via a first photo mask to form a first lens pattern 24 wherein individual portions that will become microlenses are divided by division recesses 17.例文帳に追加

絶縁膜１３上に形成されたマイクロレンズ材料膜に、第１のフォトマスクを介して第１の露光処理を行うことにより、マイクロレンズとなるべき各部分が分離溝１７により分離された第１のレンズパターン２４を形成する。 - 特許庁

To provide a photo-fabrication device and its method improved in fabrication accuracy by uniformly and quickly coating a predetermined amount of a resinous liquid in a recoating process to lessen a volumed trap phenomenon to the minimum.例文帳に追加

本発明は、リコート工程において樹脂液を均一に早く所定の量を塗布し、ボリュームドトラップ現象を極力小さくして、造形精度を改善した光造形装置および光造形方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation image reading apparatus with a light guide means, in which strips of a light guide can be easily bundled and fixed on the light-exiting edge side for photo-stimulated light with high accuracy while making a polishing process unnecessary.例文帳に追加

導光体の短冊部の、輝尽光の出射端面側を精度良く容易に束ね固定することができ、且つ研磨加工を不要とすることができる導光手段を備えた放射線画像読取装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a polyamic acid-type photo-alignment layer even in a heating process below 150°C, and to obtain, using the above, an optically anisotropic substance in which various polymerizable liquid crystal compositions are uniformly oriented.例文帳に追加

本発明は、１５０℃未満の加熱工程でもポリアミック酸タイプの光配向膜を得ることができ、これを用いることによって様々な重合性液晶組成物を均一に配向させた光学異方体を得ることを目的とする。 - 特許庁