「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁

When performing the exposure of a plurality of shots on the upper face of a wafer, to which a photo-sensitized material is applied, by using a mask having a plurality of reticles of a circuit pattern, a reticle number for identifying the reticle is exposed together in an exposure process.例文帳に追加

露光工程において、感光材が塗布されたウエハの上面に、回路パターンのレチクルが複数設けられたマスクを用いて複数ショットの露光を行なう際に、レチクルを識別するレチクル番号を一緒に露光する。 - 特許庁

Capacitors 4a, 4b couple a plurality of differential amplifiers 2, 3 in terms of AC(alternating current) that process an output signal of a photo diode 1 converting a received burst light into an electric signal in the optical receiver for dealing with burst transmission.例文帳に追加

バースト伝送対応光受信器は受光したバースト光を電気信号に変換するフォトダイオード１と、フォトダイオード１の出力信号を処理する複数の増幅器２、３間をコンデンサー４ａ、４ｂでＡＣ（交流）結合している。 - 特許庁

This composition for the reducing cosmetic contains at least one reducing agent and at least one photo-oxidizing agent forming a complex together with at least one metal in a cosmetically acceptable medium, wherein the composition is used for the first process.例文帳に追加

化粧品的に許容可能な媒体に、少なくとも一の還元剤、及び少なくとも一の金属と錯体を形成する少なくとも一の光酸化剤を含有せしめてなる第一工程のための還元化粧用組成物。 - 特許庁

(I) The method for adding/attaching the photo-stabilizer by impregnating, spraying or coating in the process of forming the nonwoven fabric by fixing among the fibers of a web formed by fiber opening/spinning of a short fiber stock cotton with a method of mechanical interlacing and/or thermal melt-bonding.例文帳に追加

（Ｉ）：短繊維原綿を開繊・紡出して形成されるウエブの繊維間を機械的交絡及び／又は熱融着の方法で固定して不織布を形成する工程中に、該光安定剤を含浸、スプレー又はコーティングにより添着する方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition giving high solubility contrast regardless to the kind of a polyimide precursor by addition of a smaller amount of a photo-base generator, and thereby, giving a pattern having preferable features while maintaining a sufficient process margin.例文帳に追加

より少量の光塩基発生剤の添加で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and a substrate treatment device in which the line width or the like of a resist pattern really formed in a photo-lithography process can be precisely measured and a desired circuit pattern can be finally formed after etching.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程で実際に形成されたレジストパターンの線幅等を精密に測定でき、エッチング処理後において最終的に所望の回路パターンを形成することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The many pixels of the photo detecting means are divided into a plurality of blocks, and the surface under test divided according to the pixel dividing is parallel scanned, with the divided blocks synchronized, to parallel-process information obtained by the scan.例文帳に追加

受光手段の多数の画素を複数のブロックに分割し、その分割された各ブロックが同期をとりつつ分割に対応して分割される被検査面を並列にスキャンしながら、このスキャンによって得られた情報を並列して処理する。 - 特許庁

A digital camera 10 includes CCD 42 for photo-electric conversion of light radiated from an imaging object, an AWB processing circuit 62 for adjusting white balance of picture data obtained by the imaging process, a smear detecting unit 71, and a particular color compensating unit 72 or the like.例文帳に追加

デジタルカメラ１０は、被写体からの光を光電変換するＣＣＤ４２、撮影によって得られる画像データのホワイトバランスを調節するＡＷＢ処理回路６２、スミア検出部７１、特定色補正処理部７２などを備える。 - 特許庁

To mentally suppress illegal contracts by an applicant by photographing a face, authenticating an individual and examining qualification in the process of individual examinations and issuing a contract where a face image by the photo is printed.例文帳に追加

自動契約受け付け装置における、本人審査の過程で顔写真撮影並びに本人認証及び適格性を審査し、該写真による顔画像印刷した契約書を発行し、申し込み者に不正契約を心理的に抑制することにある。 - 特許庁

Both the support 1 and the light transmissive film 5 are brought into contact with each other in this process to impregnate the support 1 with the photo-reaction composition, and air included in the support 1 is sucked and removed to an internal space of the guide 11 decompressed from a rear face side of the support 1.例文帳に追加

その過程で両部材が接触して光反応性組成物が支持体１内に含浸してゆき、その内部に含まれる空気が支持体１の裏面側から減圧されたガイド１１の内部空間へと吸引除去される。 - 特許庁

In a semiconductor manufacturing process, an organic reflection preventing film provides selectivity for a lower layer and/or minimizes the etching speed in the lateral direction of photoresist of an upper layer which maintains a critical dimension determined by a photo resist.例文帳に追加

半導体製造プロセスであって、このプロセスは、有機反射防止膜が、下層に対して選択性を与え、及び／又は、フォトレジストによって定められるクリティカルディメンジョンを維持する上層のフォトレジストの横方向のエッチング速度を最小化する。 - 特許庁

The liquid crystal display device reduces afterimage and spot by including the alignment film containing both the vertical photo-alignment material and major alignment material and formed by only irradiation with ultraviolet rays without a rubbing process.例文帳に追加

垂直光配向物質と主配向物質とを両方含み、ラビング工程なしに紫外線の照射のみによって形成される配向膜を含むことにより、残像及び染みの発生を減らした液晶表示装置を提供することが可能となる。 - 特許庁

To provide an optical wiring resin composition and a photo-electric composite wiring board in which a thermal expansion coefficient difference from an electric wiring board is small, process temperature is close, light propagation loss is small and combination with an electric wiring board is made suitable.例文帳に追加

本発明は電気配線板との熱膨張係数差が小さく、かつプロセス温度が近く、かつ光伝搬損失が小さく、かつ電気配線板との複合化に適した光配線用樹脂組成物と、光電気複合配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device capable of controlling a catastrophic optical damage (COD) caused by a photo output of the semiconductor laser device and a production process of the same, in regard to the semiconductor laser device in which the interface state of the interface between the semiconductor laser (oscillator) and a coating film is reduced by a simple method and the production process of the same.例文帳に追加

本発明は、半導体レーザ（共振器）とコーティング膜との界面の界面準位を簡易な方法により低減した半導体レーザ素子とその製造方法に関し、半導体レーザの光出力に起因した瞬時光学損傷（ＣＯＤ）を抑制できる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive negative type lithographic printing plate which has a hydrophilic layer acting as a non-image portion during a development process and a photo-polymerizing photosensitive layer acting as an image portion during the development process on a plastic film support body of which the non-image portion can be removed by as chemical-less developing agent and which has resistance to the wear the plate.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、現像処理時に非画像部として作用する親水性層と、現像処理時に画像部として作用する光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、ケミカルレス現像液による非画像部の除去が可能で、かつ耐刷性の良好な感光性ネガ型平版印刷版を提供する。 - 特許庁

A waste acid tank storing the industrial cleaning solution containing iron and the treating solution, a pH value adjusting apparatus connected to a waste acid recovery apparatus and connected to a pipe line for adding solidum hydroxide, a photo-oxidation reaction apparatus having the ultraviolet circuit for performing the photo-oxidation process and a magnetic separation apparatus for separating iron oxide (III) in the solution are included.例文帳に追加

又、鉄を含む工業洗浄溶液および処理溶液を貯蔵する廃酸タンクと、廃酸回収装置に連結され、さらに水酸化ナトリウムを加えるパイプラインに連結されたｐＨ値調整装置と、ｐＨ値調整タンクに連結され、光酸化プロセスを実行させる紫外線回路がある光酸化反応装置と、前記溶液中で酸化鉄（ＩＩＩ）を分離する磁気選別装置とを含むことからなる。 - 特許庁

By this method, the distortion occurring in the reed screen type part of the thin metal sheet with the slit type apertures manufactured by the photo-etching process can be corrected, which enables elimination of rejection to be disposed and improvement of the manufacturing yield.例文帳に追加

この方法を用いることにより、フォトエッチング法にて製造されたスリット状の開口部を有する金属製薄板の簾部分に発生した変形を修正することができ、今まで廃棄していた不良品を無くして製造の歩留りを上げることができる。 - 特許庁

To provide a production method that allows processing steps of photo-resist (PR) coating, exposure and development to be cut down so that the production process can be simplified as a whole, and also allows a circuit pattern of a printed circuit board to be formed finely and precisely through fewer steps and in a shorter time.例文帳に追加

フォトレジスト(ＰＲ)塗布、露光、現像工程を減らすことができ、全体的に工程が単純化されるとともに、より少ない工程と時間で印刷回路基板の回路パターンを微細で正確に形成することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a sealing process is performed for combining the opening end portions 31 of the two cases 3a and 3b together and arranging photo-curable resin 6 to be cured by light irradiation in a space S between the chamfered part 5 and the case 3b in an uncured state and sealing between the two cases 3a, 3b.例文帳に追加

次いで、２個のケース３ａ，３ｂの開口端部３１同士を組み合わせ、面取部５とケース３ｂとの間隙Ｓに、光照射によって硬化する光硬化性樹脂６を未硬化の状態で配置して、２個のケース３の間をシールするシール工程を行う。 - 特許庁

To provide a fluorescence color converting film, a fluorescence color converting film filter and an organic luminescence element that can suppress disintegration of a fluorescence pigment and extinction of light by various radical attack caused in a photo lithography process manufacturing the fluorescence color converting film filter.例文帳に追加

蛍光色変換膜フィルターを作製するフォトリソグラフィー工程において生じる各種ラジカルの攻撃による蛍光色素の分解および消光を抑制した蛍光色変換膜、蛍光色変換膜フィルターおよび有機発光素子を提供すること。 - 特許庁

To obtain a new μ-oxo bridged heterometal compound which may offer more diversity to the characteristics of photo-functional materials, and to provide a production process which supplies the heterometal compound simply, selectively and with a high yield.例文帳に追加

光機能性材料の特性に多様性をもたせることができる、新規なμ−オキソ架橋型異種金属化合物を提供すること、およびμ−オキソ架橋型異種金属化合物の簡便で且つ選択的に高収率で得られる製造方法を提供すること。 - 特許庁

By applying this method, the distortion occurring in the reed screen type part of the thin metal sheet with the slit type apertures manufactured by the photo-etching process can be corrected, which enables elimination of rejection to be disposed and improvement of the manufacturing yield.例文帳に追加

この方法を用いることにより、フォトエッチング法にて製造されたスリット状の開口部を有する金属製薄板の簾部分に発生した変形を修正することができ、今まで廃棄していた不良品を無くし、製造時における歩留りを上げることができる。 - 特許庁

When a film is formed from a polymer having a carbonyl group (C=O) in the main chain mixed with only a photo-acid generator such as a diazonaphthoquinone compound and then developed by irradiation with UV rays, a negative photoresist similar to a conventional one is formed with a lower dose of exposure than a conventional process.例文帳に追加

カルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に有するポリマーに、ジアゾナフトキノン化合物などの光酸発生剤のみを混合して成膜し、紫外線を照射して現像すると、従来よりも低い露光量で、従来と同様のネガ型フォトレジストを形成することができる。 - 特許庁

By applying this method, the distortion occurring in the reed screen type part of the thin metal sheet with the slit type apertures manufactured by the photo-etching process can be corrected, which enables elimination of rejection to be disposed and improvement of the manufacturing yield.例文帳に追加

この方法を用いることにより、フォトエッチング法にて製造されたスリット状の開口部を有する金属製薄板の簾部分に発生した変形を修正することができ、今まで廃棄していた不良品を無くして製造の歩留りを上げることができる。 - 特許庁

To provide a photo-curable resin composition which is excellent in transparency, chemical resistance, alkali resistance, heat resistance and water resistance, and also has a high compressive strength, thus gives a patterned transparent film and is excellent in process margin, photographic sensitivity and developability.例文帳に追加

透明性、耐薬品性、耐アルカリ性、耐熱性、耐水性に優れ、かつ高い圧縮強度を併せ持ち、表示素子に用いられるパターン化された透明膜を与える、プロセスマージン、感度、現像性に優れた光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a treatment method using discharge plasma capable of realizing a stable discharge state under an atmospheric condition and being treated in a simple device and a small amount of a treatment gas in removing treatment of a remaining photo-resist in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程における残フォトレジストの除去処理において、大気圧条件下で安定した放電状態を実現させることができ、簡便な装置でかつ、少量の処理ガスで処理の可能な放電プラズマを用いた処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method for producing the colored article comprises a process of applying ultraviolet light-curable ink containing a coloring agent, reactive monomer and/or reactive oligomer and photo-polymerization initiator by an inkjet method to a substrate material having a wettability value having ≤7 dyne/cm difference from the surface tension of the ink, and a process of performing an ultraviolet light irradiation within 1.5 sec after the application.例文帳に追加

着色剤、反応性モノマーおよび／または反応性オリゴマー、および光重合開始剤を含有する紫外線硬化型インクを、該インクの表面張力との差が７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である濡れ性値を有する基材にインクジェット法により付与する工程、および、該付与の後、１．５秒以内に紫外線照射を行う工程を含む着色物の製造方法である。 - 特許庁

A pair of photo conductor holding members, which affects required performance after assembly by associating mutual dimensional accuracies with each other, is molded by the injection mold 100 which constitutes a pair of cavities 11 and 12 for molding only one pair in one injection molding process.例文帳に追加

互いの寸法精度が関連し合って組み立て後の要求性能に影響を及ぼす１組の感光体保持部材を１回の射出成形工程において１組だけ成形するための１組のキャビティ１１、１２を構成した射出成形金型１００によって成形加工する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After an inorganic core layer 2 is laminated on a quartz glass cylindrical body 1, a spiral inorganic core layer 3 of ≥0.0001 mm in width and ≥0.0001 mm in height is formed through a photo process, and one clad layer 4 formed in ≥0.0001 mm in height is formed thereon.例文帳に追加

石英ガラス円筒体１上に無機コア層２を積層した後、フォトプロセスにより、幅が０．０００１ｍｍ以上、高さが０．０００１ｍｍ以上の螺旋状の無機コア層３を形成し、その上にクラッド層４が０．０００１ｍｍ以上に形成しものを１層形成する。 - 特許庁

To provide a photo-curable composition for micro-optical shape-forming, which is used for producing a metal-shaped article by using a micro-optical shape-forming process, and can easily produce a shape-formed article having adequate electroconductivity and a fine and highly precise three-dimensional shape that can be used for MEMS or the like.例文帳に追加

光造形法を用いて金属造形物を製造するための組成物であって、良好な導電性と、ＭＥＭＳ等に用い得る微小かつ高精度の立体形状とを有する造形物を、容易に製造しうるマイクロ光造形用光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a non-contact type alignment processing device capable of forming a multi-domain alignment at low cost even with a large substrate and enlarging the angle of visibility of a liquid crystal display device without using a metal mask or a photo lithography process and without a troublesome surface treatment of an alignment film.例文帳に追加

メタルマスクやフォトリソグラフィー工程を用いず、煩雑な配向膜の下地処理も行なわずに、基板が大型化しても低コストでマルチドメイン配向を形成して、液晶表示装置の視野角を拡大することができる非接触式配向処理装置を提供する。 - 特許庁

To reduce total cost and also to improve yield by eliminating a film forming process and reducing the number of sheets of photo-masks while eliminating the short-circuited place among bus lines of counter electrodes by a final conductive layer in the liquid crystal display device of an IPS(in-plane switching) system provided with channel etched type TFTs.例文帳に追加

チャネルエッチ型TFTを具備するIPS方式液晶表示装置において、最終導電層による対向電極バスライン間の短絡箇所をなくすことにより、成膜工程を省き、フォトマスク枚数を削減することでトータルコストを低減し、且つ、歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

To obtain a composition for a reducing cosmetic, containing at least one reducing agent and at least one photo-oxidizing agent and capable of being used for a first process of a method for permanently reshaping hair, and to provide a method for permanently reshaping a keratin fiber, especially the hair, using the composition.例文帳に追加

少なくとも一つの還元剤と少なくとも一つの光酸化剤を含有する、毛髪を永続的に再成形する方法の第１工程のため還元化粧品用組成物、及びその組成物を使用して、ケラチン繊維、特に毛髪を永続的に再成形するための方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to easily process and edit graphic information by keyboard manipulation and to make rapidly obtainable a substrate having such graphic patterns formed by selectively sensitizing a photosensitive resin in accordance with computer information, thereby forming photosensitive regions and photo-insensitive regions.例文帳に追加

感光性樹脂をコンピュータ情報に基づいて選択的に感光させ、感光領域，非感光領域を形成することにより、キーボード操作で、グラフィック情報を簡単に加工編集でき、短時間でこのようなパターンを形成した基体を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor package equipped with a heat spreader permitting to adhere a semiconductor chip without giving any heat stress to the same and without spoiling characteristics such as a resistance to solder heat or the like by a method wherein photo-cation setting type adhesive is employed as an adhesive since heating is not required in the setting process thereof.例文帳に追加

「はんだ耐熱性」等の特性を損なわずに、接着剤として光カチオン硬化型接着剤を用いることにより、硬化工程で加熱する必要がないので、半導体チップに熱ストレスを与えることなく接着可能なヒートスプレッダを備えた半導体パッケージを提供する。 - 特許庁

Therefore, the liquid crystal display device has no photo-current generating in the active layer by light, which is advantageous to minimize wavy noises and characteristics of a leak current in a thin film transistor, and the cost and time can be saved by simplification in the mask process.例文帳に追加

従って、本発明による液晶表示装置は、前記アクティブ層に光による光電流が発生しないので、波状ノイズ及び薄膜トランジスタの漏洩電流の特性を最小化する長所があって、マスク工程の単純化により費用及び時間を節約することができる。 - 特許庁

An operating means of operating a photographing means, a controlling means for driving/stopping the operating means, and a means for photographing a subject in the process that a photographing means shifts from a starting position of photographing to its ending position, are added to an existing device for printing photo stickers.例文帳に追加

従来の写真シールプリント装置に対して、撮影手段を動作させるための動作手段、動作手段を駆動・停止させる制御手段、撮影手段が撮影開始位置から撮影終了位置まで移動する過程において被写体を撮影する手段を追加した。 - 特許庁

To provide a photo MEMS (micro electro mechanical system) acceleration sensor, which responds to a small SoC (system on chip) structure, selectively use a material without being limited to use of single crystal Si as the material, and attain application of a conventional processing technique to manufacture of a MEMS structure without through any complicated process.例文帳に追加

小型でＳｏＣ構造化への要請に応じることができ、単結晶Ｓｉを材料とすることに限定されず材料の選択が可能であり、複雑なプロセスを経ることなく従来の加工技術をＭＥＭＳ構造体の製造へ援用できる光ＭＥＭＳ加速度センサを提供する。 - 特許庁

The semiconductor optical sensor device comprises a semiconductor substrate, semiconductor layer which is formed on the semiconductor substrate and is divided by an insulation film, first photo diode formed near a surface of the semiconductor layer, second photodiode formed below the first photo diode, and signal processing circuit formed in the semiconductor layer to process output signals of the first and second photodiodes.例文帳に追加

半導体光センサ装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に絶縁膜により分離されて形成された半導体層と、前記半導体層の表面近傍に形成された第１のフォトダイオードと、前記半導体層の前記第１のフォトダイオードの下方に形成された第２のフォトダイオードと、前記半導体層に形成された、前記第１及び第２のフォトダイオードの出力信号を処理する信号処理回路とを有する。 - 特許庁

In addition, the metal film forming method includes a process to form a photo resist pattern of a desired shape on the metal film divided into a plurality of areas and the resin film, and a process to form the metal film pattern of a desired shape by removing a part of the metal film divided into a plurality of areas by the chemical etching method, a plasma etching method or the ion beam etching method.例文帳に追加

さらに、上記複数の領域に分けて形成した金属膜および樹脂フィルム上に、所望形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、化学エッチング法またはプラズマエッチング法もしくはイオンビームエッチング法により、上記複数の領域に分けて形成した金属膜の一部を除去し、所望形状の金属膜パターンを形成する工程とを含む金属膜の形成方法とする。 - 特許庁

In the process of completion of photo-setting of the adhesive after the substrate and the sealing material are crimped through unhardened adhesive, the atmospheric pressure is gradually reduced and the strength of irradiating light is made to become gradually or step by step stronger.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、未硬化の接着剤を介して基板と封止部材とを圧着してから接着剤の光硬化を終了するまでの過程において、雰囲気圧力は徐々にあるいは段階的に減圧し、照射光の強度は徐々にあるいは段階的に強くすることを特徴とする。 - 特許庁