「PHOTO PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of a fuel cell, with a structure in which a cathode and an anode are opposed to each other through a proton conductor and with enzyme fixed to the cathode and/or the anode, includes a process of fixing the enzyme to the cathode and/or the anode by photo-curing resin and/or thermosetting resin.例文帳に追加

正極と負極とがプロトン伝導体を介して対向した構造を有し、正極および／または負極に酵素が固定化されている燃料電池の製造方法であって、正極および／または負極に酵素を光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂により固定化する工程を有する。 - 特許庁

To provide an image processing method and apparatus, capable of acquiring uniform smoothing effect irrespective of magnitude in size of a face image, and capable of processing in high speed without deterioration in quality, regardless of the size of the facial image in a smoothing process for correcting a wrinkle, spots, etc. within the face image, such as, ID photo.例文帳に追加

証明写真のような顔画像の中のシワ、シミなどを修正するためのスムージング処理において、顔画像のサイズの大小にかかわらず、均質なスムージング効果が得られるとともに、大サイズの顔画像であっても、品質劣化が少なく、かつ高速にて処理可能であるような画像処理方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The technology of the semiconductor element manufacturing method includes a process, especially, of burying the insulating film between gate patterns in place of the photo-sensitive film when implanting the ions into the semiconductor substrate of lower portion of the bit line contact area, etching it to expose the bit line contact area without a residue of etching, thereby, preventing the leakage current of the cell transistor.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にビットラインコンタクト領域下部の半導体基板にイオンを注入するときゲートパターン等の間を感光膜の代わりに絶縁膜で埋め、これを食刻して食刻残留物なくビットラインコンタクト領域を露出することにより、セルトランジスタの漏洩電流を防止することができる技術である。 - 特許庁

To provide an aqueous alkali photoresist cleaning composition having a simple composition, not containing an organic solvent harmful to a worker and the environment, and having excellent solvent power to photoresist used in a photo process of a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display or photoresist residue in a photoresist coating device and a developer piping system.例文帳に追加

組成が単純で、作業者及び環境に有害な有機溶媒を含有せず、且つ、半導体集積回路又は液晶ディスプレイのフォトプロセスに使用されるフォトレジスト、或いはフォトレジストコーティング装置及び現像液配管系統のフォトレジスト残渣に対して優れた溶解能を有する水性フォトレジスト洗浄組成物を提供する。 - 特許庁

The photocatalyst gel particle 3 is added into feed water to be cleaned in a photo oxidation reactor 1, irradiated with light from an ultraviolet lamp 4 while stirring the feed water with aeration 5, separated in a precipitating separation part 7 to be fed to the light irradiation process to be recycled and the cleaning treated water 6 flows out to the outside of the reactor 1.例文帳に追加

この光触媒ゲル粒子３を光酸化反応器１中で浄化対象の原水２に添加し、空気曝気５を用い攪拌しながら紫外線ランプ４で光照射した後、沈降分離部７で粒子３を分離してこれを光照射工程に供給再利用するとともに、清浄処理水６を反応器１外へ流出させる。 - 特許庁

To manufacture a flat panel display device comprising transistors having reduced characteristic dispersion and no direction dependency of the characteristic, by irradiating a desired region of an amorphous silicon film formed on a glass substrate with continuous oscillation laser light directly, to convert into a fine crystal silicon film, without a process of forming and removing a buffer film and a photo-thermal conversion film.例文帳に追加

バッファー膜、光熱変換膜を形成および除去する工程を経ることなく、ガラス基板上に形成した非晶質シリコン膜の所望の領域に直接、連続発振レーザ光を照射して微結晶シリコン膜に変換することにより、特性バラツキが小さく、特性の方向依存性のないトランジスタで構成された平面表示装置を製造する。 - 特許庁

To provide a slow curing photo-setting type adhesive with low viscosity before light irradiation, capable of maintaining a liquid state (state before reaching to gel point) for a period necessary to positioning or the like of the subjects to be adhered, for example 5-30 minutes, and has sufficiently high viscosity at the gel point, and an adhesive process using the adhesive.例文帳に追加

光照射前の粘度が低く、かつ、光照射後の液状態（ゲル化点に達する前の状態）を被着体同士の位置あわせ等に必要な時間、例えば５〜３０分間、持続することができ、かつゲル化点における粘度が充分高い遅硬性の光硬化型接着剤及びそれを用いた接着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid photosensitive resin composition in which a laser-engraved printing original plate can be photo-cured in the air in its forming process and a printing original plate having high plate thickness accuracy and small tack on a printing surface can be produced by suppressing the generation of a residue when a relief image is created by directly engraving with laser, and a printing original plate.例文帳に追加

直接レーザー彫刻してレリーフ画像を形成する際に発生する液状カス量が少なく、レーザー彫刻印刷原版の形成工程において、大気中で光硬化させることができ、版厚精度が高く、表面のタックが小さい印刷原版を製作しうる液状感光性樹脂組成物および印刷原版の提供。 - 特許庁

To provide an array substrate, a display device and a method for manufacturing the substrate, which contribute to reduction in cost, increase in yield and expansion of the process margin of forming and processing an intermediate resist film thickness by reducing variation in the intermediate resist film thickness when intermediate exposure is performed on a region where a plurality of types of thin film patterns are formed at the same photo lithography step.例文帳に追加

複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of preparing the higher order silane solution to obtain the solution containing higher order silane by irradiating a solution containing a photo-polymerizable silane compound with ultraviolet ray is further provided with a process for uniformly dispersing and/or dissolving the high-order silane in the solution containing the higher order silane.例文帳に追加

光重合性を有するシラン化合物を含む溶液に紫外線照射を行なうことにより高次シランを含む溶液を得る高次シラン溶液の製造方法において、前記高次シランを含む溶液中の高次シランを均一に分散及び／又は溶解させる工程を更に備えた高次シラン溶液の製造方法により解決する。 - 特許庁

To provide a metal ion sensor comprising a simple material and device which easily detects saturation of an adsorbent visually, in a process for recovering a metal ion contained in water, a soil or the like, by the absorbent, to be solidified, and allows for reusing easily a detecting material by photo-irradiation, and a metal ion absorber provided with the ion sensor.例文帳に追加

水や土壌等の中に含まれる金属イオンを吸着材によって回収、固定化する工程において、材料および装置が簡易的で、目視にて容易に吸着材の飽和を検出することができ、かつ、光照射により容易に検知材料を再利用できる金属イオンセンサー、及び該センサーを備えた金属イオン吸着装置を提供する。 - 特許庁

In the treatment method, sodium hydroxide is added into a waste acid containing iron to adjust a value of pH, sodium hydroxide and air are added into the pH-adjusted solution in another tank to cause chemical reaction, the mixture is exposed to ultraviolet ray from an ultraviolet circuit in an photo-oxidation process and finally iron oxide (III) is separated in the solution by magnetic separation.例文帳に追加

鉄を含有する廃酸、その中に水酸化ナトリウムを加えてｐＨ値を調整すること、その中に水酸化ナトリウムおよび空気を加えた別のタンクで化学反応を実行すること、さらに混合物を光酸化プロセスで紫外線回路に曝露し、最後に磁気選別にかけて前記溶液中で酸化鉄（ＩＩＩ）を分離することからなる。 - 特許庁

To provide a thin film pattern forming method for directly forming a thin film circuit pattern using a mask by which a continuous circuit pattern difficult to be formed by mask film deposition can be formed without using any photo-lithography etching process in forming thin film circuit pattern, a pattern forming apparatus using the method, and an electronic circuit device manufactured by the forming apparatus.例文帳に追加

薄膜回路パターン形成において、ホトリソグラフィー・エッチィングプロセスを用いることなく、かつマスク成膜では難しかった連続回路パターン形成を可能とするマスクを用いた薄膜回路パターン直接形成するパターン形成方法とそれを用いたパターン形成装置、さらには該形成装置により製造された電子回路装置を提供する。 - 特許庁

(2) The method for forming the coating film described in (1) includes a process of imparting thermal energy to at least one of the member to be coated, the setting resin and the smoothing plate concentrically with respect to a rotation center in applying annularly at least in one of stages before and in the middle of applying the photo or thermo-setting resin and in the middle of spreading it.例文帳に追加

（２）熱又は光硬化性樹脂の塗工前、塗工中、展延中の少なくとも一つの段階において、被覆対象となる部材、該硬化性樹脂、平滑基板のうちの少なくとも一つに対し、円環状に塗工する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する工程を含む（１）記載の被覆膜形成方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which a photo-memory and a ghost liable to occur remarkably is suppressed, in an electrophotographic photoreceptor in which a polyarylate resin is used as a binder resin in a charge transport layer which is a surface layer and the thickness of the charge transport layer is made larger, and to provide a process cartridge with the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

表面層である電荷輸送層中の結着樹脂としてポリアリレート樹脂を用いて、かつ、電荷輸送層の膜厚を厚くした電子写真感光体において、顕著に発生するフォトメモリーやゴーストを抑制した電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

The photo print providing method includes: an edit menu layout selection process for selecting a prescribed edit menu among multiple kinds of edit menus; and edit processing for displaying the edit menu selected in the edit menu layout selection processing on a tablet display apparatus 13 to allow a user 15 to execute graffiti entries.例文帳に追加

本発明の写真プリント提供方法は、複数種類の編集画面の中から所定の編集画面を選択する編集画面レイアウト選択処理と、編集画面レイアウト選択処理において選択された編集画面を上記タブレットディスプレイ１３に表示し落書き入力をユーザ１５に実行させる編集処理とを備える。 - 特許庁

The method for decorating a concrete block includes a process to apply ink on the concrete block using the inkjet method, whereby photo-curable ink of 0% to 7% in cure shrinkage is injected from a nozzle at 5 mPa s to 15 mPa s in viscosity and characteristically, the injected ink is controlled to have the viscosity of 20 mPa s or greater immediately after injected.例文帳に追加

本発明は、コンクリートブロックに対するインク付与工程において、インクジェット方式を用い、硬化収縮率が０％〜７％の光硬化型インクを、５ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓの粘度でノズルから吐出するとともに、吐出したインクの粘度が着弾直後に２０ｍＰａ・ｓ以上となるよう制御することを特徴とする、コンクリートブロック加飾方法である。 - 特許庁

To effectively improve the problem of wavelength chirping which occurs by change of longitudinal axial direction distribution of a photo carrier caused in a separation region, in accordance with backward bias voltage applied to an optical modulator region without a specially troublesome process such as new use of a circuit element component, and to improve a transmission characteristic of an optical modulator integration light source.例文帳に追加

分離領域で発生するフォトキャリアの長手軸方向分布が光変調器領域に印加される逆方向バイアス電圧に応じて変化することで生じる前述した波長チャーピングの問題が、別途回路素子部品を新たに用いるなどの特別に煩雑なプロセスを伴うことなく効果的に改善され、光変調器集積光源の伝送特性が改善されるようにする。 - 特許庁

In the process in which the substrate surface 10 is coated with the negative type photo resist 11 to form the bumps 13 by the exposure with LBR and the following development and thereby the substrate is directly made into the master disk for the optical disk, the bump shape 17 is controlled into a desired shape by heating after development and thereby it is made possible to manufacture heat resistant bumps.例文帳に追加

基板表面１０にネガ型のフォトレジスト１１をコーティングしＬＢＲでの露光とその後の現像によりバンプ１３を形成させ、それを直接光ディスク用原盤とするプロセスにおいて、現像後に加熱することによりバンプ形状１７を所望の形状に制御することにより、形状が制御され、耐熱性を持ったバンプを製造することが可能となる。 - 特許庁

A laminate 10 and its production process is characterized in that the laminate 10 includes: a plastic substrate 11; a deposition layer 12 formed on the plastic substrate 11 by depositing oxide ceramics; an anchor coat layer 13 formed on the deposition layer 12 and containing an alkali metal silicate; and a photo-catalyst layer 14 formed on the anchor coat layer 13 and containing titanium dioxide and the alkali metal silicate.例文帳に追加

プラスチック基材１１と、前記プラスチック基材１１上に形成された、酸化物系セラミックスを蒸着してなる蒸着層１２と、前記蒸着層１２上に形成された、ケイ酸アルカリ金属塩を含むアンカーコート層１３と、前記アンカーコート層１３上に形成された、二酸化チタンおよびケイ酸アルカリ金属塩を含む光触媒層１４とを備えたことを特徴とする積層体１０、およびその製造方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

The photo network system which manages the resource collection information according to resource codes includes an image input device having a means of allocating resource codes to respective collectable resources produced in a photofinishing process and a means of inputting digital image data and a center server which is communicable with the image input device through a communication line and manages the resource collection information including the resource codes.例文帳に追加

資源コードを元に資源回収情報を管理するフォトネットワークシステムであって、フォトフィニッシング工程で発生する回収可能な資源の各々に資源コードを割り当てる手段とデジタル画像データを入力する手段とを有する画像入力装置、及び前記画像入力装置と通信回線を介して通信可能な前記資源コードを含む資源回収情報を管理するセンターサーバ、とを含むことを特徴とするフォトネットワークシステム。 - 特許庁