「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A measurement device measures a process variable at a relatively high frequency and sends a subset of the measured data (eg. the low frequency data) to a standard controller.例文帳に追加

測定デバイスは、比較的に高い周波数でプロセス変数を測定し、測定されたデータの一部（たとえば、低周波数データ）を標準コントローラへ送信する。 - 特許庁

The electronic control apparatus is configured to communicate with the infrared temperature sensor, and receive and process the measurement signal transmitted from the infrared temperature sensor.例文帳に追加

電子制御器は、赤外線温度センサと交信し、赤外線温度センサから送信された測定信号を受信および処理するよう構成されている。 - 特許庁

In the compression distribution decision process, an available band is measured, and a compression distribution table corresponding to the available band is decided based on the measurement result.例文帳に追加

圧縮分布決定処理では、利用可能帯域を計測し、その計測結果に基づき、利用可能帯域に対応する圧縮分布表が決定される。 - 特許庁

To provide a system to eliminate a transportation process and to increase the versatility of the analysis by carrying out ion mobility measurement and mass spectrometry by a single device.例文帳に追加

イオン移動度測定と質量分析を単一装置で行う事により、輸送工程の排除や解析の自由度を増すシステムを提供する。 - 特許庁

In a second process, the wafer is moved for the portion of the measured fixed area after completion of measurement of the semiconductor elements in the fixed area.例文帳に追加

第２工程では、上記一定のエリアの半導体素子の測定終了後に上記測定済の一定のエリア分だけ上記ウェハを移動させる。 - 特許庁

A measurement value by a weight measuring section 5 is outputted as a reference weight at the time when the dehydration speed of the dehydration process becomes nearly zero.例文帳に追加

除水処理の除水速度がほぼ０になった時点での体重計測部５による測定値を、基準体重として出力可能に構成する。 - 特許庁

This curved surface corrective polishing system executes a curved surface polishing process for reducing the undulation and the shape error by a preprocess on the basis of a shape measurement result.例文帳に追加

形状計測結果に基づき前加工による形状誤差及びうねりを低減させる曲面研磨工程に行う曲面修正研磨システムである。 - 特許庁

To provide a projection system that prevents an increase in delay time that occurs between a time point at which a level sensor makes measurement and a time point at which a substrate stage moves in an on-the-fly leveling process.例文帳に追加

オンザフライレベリングで、レベルセンサの測定と基板ステージの移動との間に生じる遅延時間の増加を防ぐ投影システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing an activity to maltose in the measurement of glucose including a process of reacting a modified type PQQGDH (pyrroloquinoline quinone dependent glucose dehydrogenase).例文帳に追加

改変型ＰＱＱＧＤＨを反応させる工程を含むグルコース測定においてマルトースに対する作用性を低減させる方法を提供する。 - 特許庁

The process is repeatedly performed to the measurement completion position, and the edge line can be measured from the maximum value of the obtained bit outside diameter by a curve interpolation.例文帳に追加

この工程を計測終了位置まで繰り返し行い，得られたビット外径の最大値から曲線補間によって刃先線を計測することができる。 - 特許庁

To prepare an accurate measurement schedule in accordance with the irregularity of a measuring time that fluctuates due to a yield in a measuring process of a wafer.例文帳に追加

ウェハーの測定工程で、歩留りによって変動する測定時間のばらつきに対応して、正確な測定スケジュールを作成できるようにする。 - 特許庁

A plurality of items of two-dimensional image processing and at least one item of a three-dimensional measurement process are registered in a processing item table 201.例文帳に追加

処理項目テーブル２０１には、２次元画像処理の複数の項目および３次元計測処理の少なくとも１つの項目が登録される。 - 特許庁

When a game ball enters a generator winning hole, a rotor stops at a prescribed position after reaching the prescribed position and a measurement process of a delay time is started.例文帳に追加

遊技球が役物始動口に入賞するとロータが定位置に到達することに基いて定位置で停止し、遅延時間の計測処理が開始される。 - 特許庁

Processing condition according to the result of the measurement is corrected by correcting a parameter of a recipe from a preceding process decision part 35 to a production device control part 60.例文帳に追加

測定結果に基づく加工条件の補正は、先行処理判断部３５から生産装置制御部６０へレシピのパラメータの補正という形で行われる。 - 特許庁

The relative ratio of the vapor phase and/or condensed phase to the coating material 23 transported in the process jet is measured by a diagnosis measurement method D.例文帳に追加

プロセス・ジェット中を搬送される被覆材料２３に対する気相および／または凝縮相の相対比率を診断測定法Ｄによって測定する。 - 特許庁

When the amount of noise is within a specified range, the ion implantation process is started (S4), and normal measurement of an ion beam current using the Faraday cage is carried out (S5).例文帳に追加

ノイズ量が規格範囲内であればイオン注入処理が開始され（Ｓ４）、ファラデーを利用した通常のイオンビーム電流の測定が行われる（Ｓ５）。 - 特許庁

Enhanced process monitoring for photomask etching is achieved by the use of various optical measurement techniques for monitoring at different locations of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクエッチングのための強化された処理監視は、フォトマスクの異なる位置で監視するための多様な光学測定技法の使用により達成される。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which the need for periodic monitoring work is eliminated by performing in-line measurement of characteristics of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの膜の特性をインラインで測定して、定期的なモニタリング作業を不要にした半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spent nuclear fuel reprocessing technology which allows real-time high-precision measurement of weight variation of electrodes in a electrolysis process.例文帳に追加

電解プロセスにおける電極の重量変動を、リアルタイムで高精度に計測することができる使用済核燃料の再処理技術を提供する。 - 特許庁

To enable to specify a range of measurement of process processing time in a model and to use a measured value for a conditional branch or the like.例文帳に追加

例えば、モデル内でプロセス処理時間の測定範囲を指定し、測定した値を条件分岐などに利用できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

A measurement device includes a sensor for detecting the body movements of a subject, and a CPU 41 for executing a process that generates display data.例文帳に追加

測定装置は、被験者の身体の動きを検出するためのセンサと、表示データを生成する処理を実行するためのＣＰＵ４１とを備える。 - 特許庁

To provide a high-precision, non-contact, real-time temperature measuring method by reducing the effects of the manufacturing process, fixtures, or the like in the measurement of wafer temperature in the semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体生産プロセスにおけるウエハの温度計測の方法に関して、生産工程の影響や固定具等からの影響を低減し、より精度の高い非接触かつリアルタイムの計測方法を供給する。 - 特許庁

When grinding of each process is carried out, measurement of the respective machined parts at two parts is carried out to discriminate whether one or both measured values have reached predetermined values at the end of each process.例文帳に追加

各工程の研削が実行されると、２箇所の各加工部分の測定が実行され、一方または双方の測定値が予め定められた各工程終了時の所定値に達したか否かが判別される。 - 特許庁

To provide a photomask or the like capable of performing process evaluation without the need for a work of accurate dimensional measurement in a halfway step, in a manufacturing process of a tuning fork type piezoelectric vibrating piece.例文帳に追加

音叉型の圧電振動片の製造プロセスにおいて、途中の工程で、正確な寸法測定を行うという作業を必要としないで、工程評価を行うことができるようにするフォトマスク等を提供すること。 - 特許庁

In this case, the printed body 6 is placed on a mounting table 2 and the camera 1 acquires an article or a person positioned on the printed body 6 to allow the computer to execute a specified operation process or measurement process corresponding to the results thus detected.例文帳に追加

このとき、被印刷体６を載せ台２上に置き、カメラ１が、被印刷体６上に位置する物品または人間を検知し、その検知結果に応じて特定の操作プロセスまたは測定プロセスを行う。 - 特許庁

The ordnance system includes an initiator joined to the addressable bus for responding to the controlling process, and a remote measuring sensor structured to join the addressable bus for interacting with the remote measurement process.例文帳に追加

オードナンス・システムは、アドレス可能なバスに結合され且つ制御プロセスに応答するイニシエータと、アドレス可能なバスに結合され且つ遠隔計測プロセスと相互作用するよう構成された遠隔計測センサとを含む。 - 特許庁

The test method of the electrolyte for the fuel cell has a process of carrying out ESR measurement to the electrolyte for the fuel cell and obtaining a carbon radical amount, and a process of calculating the heat history based on the calculated carbon radical amount.例文帳に追加

燃料電池用電解質に対してＥＳＲ測定を行い炭素ラジカル量を求める工程と、算出された該炭素ラジカル量に基づき熱履歴を算出する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

Electrochemical sensors are provided in at least two positions of the water system process using an aqueous medium as a solvent, and the change of the water system process is detected on time from the change in measurement data obtained by the electrochemical sensors.例文帳に追加

水系媒体を溶媒として使用する水系プロセスの少なくとも２箇所に、電気化学センサを設け、この電気化学センサによって得られる測定データの変化によって、水系プロセスの変化をオンタイムに検出する。 - 特許庁

A performance measurement part 51 measures the process time of a color conversion and half-tone process part 46 and the time of transfer from an I/O 48 to a printer 30 as to some of RGB image data regarding one document.例文帳に追加

パフォーマンス計測部５１は、１ドキュメントに関するＲＧＢイメージデータのうち、一部のＲＧＢイメージデータに関して、色変換・ハーフトーン処理部４６での処理時間、Ｉ／Ｏ４８からプリンタ３０への転送時間を計測する。 - 特許庁

A measurement data processor is included to receive, to process, to reserve, and to transmit a certain constant value within any limit for at least one among parameters on refractive index of materials and parameters on measurement device.例文帳に追加

計測データプロセッサは、材料の屈折率に関するパラメータ及び計測装置に関するパラメータのうちの少なくとも１についてのある範囲内にある一定値を、受け取り、処理し、保存し、かつ伝送するように備えられている。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

Then candidates having an enough width D for the dimension measurement are selected from the candidates [1] to [5], and further, a candidate closest as possible to the dimension measurement part (center line) designated in the pattern before the OPC process is selected.例文帳に追加

次いで、候補［１］〜［５］の中から寸法測定を行うのに十分な幅Ｄを備えた候補を選別し、更にＯＰＣ処理前のパターンで指定した寸法測定箇所（中心線）からなるべく近い位置の候補を選別する。 - 特許庁

A bit rate which is presented to the schedule data of guarantee bit rate preference class is provided to C-RNC using a common measurement process or individual measurement process, in order that the C-RNC in mobile communication system allows execution of congestion control on the uplink transmission having guarantee bit rate.例文帳に追加

移動体通信システム内のＣ−ＲＮＣが、保証ビットレートを有するアップリンク送信に対して輻輳制御を実行するのを可能にするために、共通測定処理または個別測定処理を用いて、保証ビットレート優先度クラスのスケジュールデータに提供されるビットレートをＣ−ＲＮＣに与えることを提案する。 - 特許庁

When the measurement drops below preset a lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the measurement rises above an upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process.例文帳に追加

液体金属１中の溶解酸素濃度を、溶解酸素濃度測定センサ１３の測定値と温度センサ１５の測定値から演算し、その値が予め設定した管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、そして管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させる。 - 特許庁

Then, a voltage is applied to the voltage application position to thereby send a current into the structure, and a measurement potential difference at the potential difference measuring position is measured (process S4), and it is determined whether the repaired welding crack is developed or not based on the reference potential difference and the measurement potential difference (process S5), to thereby monitor development of the repaired welding crack.例文帳に追加

その後、電圧印加位置に電圧を印加して構造物に電流を流し、電位差測定位置における実測電位差を測定し（工程Ｓ４）、基準電位差および実測電位差に基づいて補修溶接き裂が進展したか否かを判定する（工程Ｓ５）ことにより、補修溶接き裂の進展を監視する。 - 特許庁

To provide a simple and high-sensitivity measurement method that does not include a treatment process using a strongly acidic solution (pH≤4.0) or a neutralization process using an alkaline solution, which is an immunity measurement method on a human parvovirus B19 antigen that does not have the problem accompanying RHA inspection or a PCR method.例文帳に追加

本願発明は、ＲＨＡ検査およびＰＣＲ法に伴う問題点を有さないヒトパルボウイルスＢ１９抗原の免疫測定方法であって、強酸性溶液（ｐＨ４．０以下）による処理工程およびアルカリ性溶液による中和工程を含まない、簡便且つ高感度な測定方法を提供するものである。 - 特許庁

The first and the second cooling processes are performed between the discharging process for measurement and the discharging process for measurement which is performed again after adjusting the discharge through the measurement process and the adjustment process.例文帳に追加

ノズルから液滴を吐出する測定用吐出工程と、ノズル付近の温度であるノズル温度を冷却する第１冷却工程及び第２冷却工程と、測定用吐出工程にて、吐出された吐出量を測定する測定工程と、測定工程にて、測定された吐出量を目標吐出量に近づける調整をする調整工程とを有し、測定用吐出工程の後、測定工程及び調整工程を経て吐出量を調整した後、再度測定用吐出工程を行うとき、測定用吐出工程と再度行う測定用吐出工程との間に第１冷却工程及び第２冷却工程を行う。 - 特許庁

The value of a photometer in a reaction process is measured in order to realize the inspection of an analytical inspection result and an analytical measurement result is inspected from the reaction process data due to the photometer and the state change of the operation state of the mechanism part or sub-system annexed to the reaction process.例文帳に追加

分析検査結果の検証を実現するために、反応過程における光度計の値を計測し、前記光度計による反応過程データと、前記反応過程に付随する機構部や或いはサブシステムの稼動状態の状態変化から分析測定結果を検証するものである。 - 特許庁

The method of measuring the antibody includes: a sampling process for sampling a biological sample from a subject; a selection process for selecting a part having high antigenicity in the GluRδ2 of the biological sample; and a measurement process for measuring the antibody with the part having high antigenicity as an antigen by peptide synthesis.例文帳に追加

被験者から生物サンプルを採取する採取工程と、前記生物サンプル中のＧｌｕＲδ２のうち、抗原性が高い部位を選択する選択工程と、前記抗原性が高い部位をペプチド合成により抗原として、抗体を測定する測定工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A microcomputer in the blood sugar meter includes a process for determining whether or not the temperature variation is within an allowance from a difference in temperature between the thermistors, and, in cases where the allowance is exceeded, suspending processing until the temperature variation falls within the allowance if the value measurement is not yet performed, and discontinuing the value measurement if the value measurement is in progress.例文帳に追加

そして、夫々の温度差から温度変動が許容範囲内であるか否かを判定し、許容範囲を超えていれば、血糖値計測直前までなら温度変動が許容範囲内になるまで処理を一時停止し、血糖値計測中なら血糖値計測処理を中断する処理を、血糖計のマイコンに含ませた。 - 特許庁

To provide a method for producing a diaminodiphenyl ether in a high yield with stable high quality via a stepwise producing process which uses an aminophnol and a chloronitrobenzene as starting materials and comprising an etherification process, a hydrogen addition process and a distillation purifying process, by quickly and accurately measuring a solution composition in each reaction process and reflecting the results of measurement to the automatic control of the process.例文帳に追加

アミノフェノールとクロロニトロベンゼンとを原料とし、エーテル化反応工程、水素添加反応工程、蒸留精製工程の各工程を逐次的に通過させることによってジアミノジフェニルエーテルを製造プロセスにおいて、各工程の溶液組成を迅速、かつ正確に測定し、更に得られた測定結果をプロセス自動制御に反映させることで、安定した高品質を有するジアミノジフェニルエーテルを高収率で製造する方法を提供すること。 - 特許庁

This method of controlling the condenser cooling water includes a process for measuring the water level of the cooling water of the condensers 1, 2 by using a measuring means 10 suitable for vacuuming processing in a measurement pot 9 mounted outside of the condenser as a container communicated with the condensers 1, 2, and a process for using the measurement value as measurement variable to adjust a transporting amount of a speed-controlled cooling water pump 8.例文帳に追加

本発明のコンデンサ冷却水制御方法は、コンデンサ１，２の冷却水の水位を、真空引き処理に適した測定手段１０を用いて、コンデンサ１，２に連通する容器として当該コンデンサの外部に取り付けられた測定ポット９内で測定する過程と、この測定値を、速度制御される冷却水ポンプ８の輸送量を調節するための測定変数として使用する過程とを備えている。 - 特許庁

To provide a selection method for a driving corrugation for an ink jet device capable of eliminating a process having low work efficiency including measurement of each component and an inspection of printing, or to reduce a time required for the process.例文帳に追加

各部品の寸法測定あるいは印字検査等の作業効率の低い工程を省略し、またはそれらの工程に要する時間を短縮することの出来るインク噴射装置の駆動波形の選択方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a detecting method for a crystalline defect with high measurement sensitivity in which even a microdefect such as a small BMD formed nearby a wafer surface after a low-temperature process as an advanced device process can be measured.例文帳に追加

先端デバイスプロセスである低温プロセス後のウェーハ表面近傍に形成される小さなＢＭＤなど微小な欠陥であっても測定することができる測定感度の高い結晶欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁

When a processing time needed for correction calculation that corrects a measurement error of a process variable detected by a sensor part 27 is defined as T1, an A/D converter 13 converts the process variable into a digital value in each sampling cycle Ts (Ts<T1).例文帳に追加

Ａ／Ｄ変換器１３は、センサ部２７で検出されるプロセス変量の計測誤差を補正する補正演算に要する処理時間をＴ１としたとき、サンプリング周期Ｔｓ（Ｔｓ＜Ｔ１）ごとにプロセス変量をデジタル値に変換する。 - 特許庁