「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This image measuring system is provided with a display device 9 displaying one or two or more measured images, a measuring process section 21 measuring the displayed images, an image process section 55 applying an image process after the measurement by the measuring process section 21, and a re-measuring section 57 conducting measurement again after applying the image process.例文帳に追加

１又は２以上の被計測画像を表示する表示装置９と、表示した画像を計測する計測処理部２１と、計測処理部２１によって計測した後に、画像処理を施す画像処理部５５と、画像処理を施した後に、再度計測を行う再計測部５７を有して構成される。 - 特許庁

To provide a display for an injection molding machine helpful for shortening a cycle time, including measurement of a parallel process time in one molding cycle, measurement of a time across over a plurality of processes, measurement of a time from finish of an optional process to start thereof, and the like.例文帳に追加

１成形サイクルの並列工程時間の測定、複数の工程に跨る時間の測定、任意の工程の終了から開始までの時間測定等から、サイクル時間短縮に役立つ射出成形機の表示装置を提供する。 - 特許庁

With respect to measurement positions (Xm, Ym), the control device 56 operates nucleus spins of the measurement target in the measurement positions by a measurement process including plural stages of operation processes, and then, the nuclear magnetic resonance signal is detected, and information of partial nucleus spins in the measurement positions is acquired.例文帳に追加

制御装置５６は、測定位置（Ｘｍ，Ｙｍ）に対し、複数段階の操作過程を含む測定過程によって測定位置での測定対象物の原子核の核スピンを操作した後、核磁気共鳴信号の検出を行って、測定位置における局所的な核スピンの情報を取得する。 - 特許庁

For example, when a dimension measurement part is designated in a pattern prior to an OPC (optical proximity correction) process, the pattern shape in the designated part is changed after the OPC process, which makes the dimension measurement impossible.例文帳に追加

例えば、ＯＰＣ処理前のパターンに対して寸法測定箇所を指定した場合、ＯＰＣ処理後では、その指定箇所のパターン形状が変化し寸法測定が不可能となることがある。 - 特許庁

The discharge unit 20 can be produced in parallel with the standard voltage measurement coil 30 in another production process separated from the production process of the standard voltage measurement coil 30.例文帳に追加

放電ユニット２０は、図９，Ｓ１１の標準電圧計測用コイル３０の製造工程と別のＳ２１の製造工程で、標準電圧計測用コイル３０と並行して製造することができる。 - 特許庁

A sequence building unit 205 combines the item of the on-first-image position specification process and the item of the three-dimensional measurement process to set the sequence for three-dimensional measurement by selection of the user.例文帳に追加

シーケンス組立部２０５は、ユーザの選択により第１画像上位置特定処理の項目と３次元計測処理の項目とを組み合わせて、３次元計測のためのシーケンスを設定する。 - 特許庁

When only one tuner is used, gain of the tuner used is set based on an LUT which has been updated in the previous measurement process and a measurement process is performed using a tuner not used.例文帳に追加

一方のチューナだけが使用される場合、使用されるチューナの利得が前回の計測処理で更新されているLUTに基づいて設定され、使用されないチューナを用いて計測処理が行われる。 - 特許庁

A calculation part 41 calculates the center position of the hole from measurement values of the coordinates of each position acquired at each measurement operation process, and sends its values out to the display section 45.例文帳に追加

演算部４５は測定動作工程毎に取得した各位置座標の測定値から穴の中心位置を演算し、表示部４５に送出する。 - 特許庁

To perform measurement in a real time by measuring emission at the same time as irradiation, and to prevent any waste from being generated in the process of measurement.例文帳に追加

照射と同時に発光が計測できるようにしてリアルタイムで計測が可能であり、かつ廃棄物が計測の過程で発生しないようにする。 - 特許庁

In a mix rate estimation process, a measurement sample is collected from field generated soil or site soil (step S1), and pH of the measurement sample is measured (step S2).例文帳に追加

混入率推定工程では、現場発生土または現地盤から測定試料を採取し（ステップＳ１）、測定試料のｐＨを測定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To enable measurement accurate in a depth direction by making a matching process easy in a three-dimensional information measurement of an object using a plurality of images.例文帳に追加

複数の画像を用いた測定物の３次元情報の測定において、対応付け処理を容易とし、奥行き方向の精度のよい測定を可能とする。 - 特許庁

To compensate deterioration of load impedance measurement accuracy caused by measurement errors in a load impedance measuring circuit and waveform distortions, or the like, of high frequency in actual process.例文帳に追加

負荷インピーダンス測定回路の測定誤差や実プロセス中の高周波の波形ひずみ等に起因する負荷インピーダンス測定精度の低下を補償すること。 - 特許庁

To provide a focusing characteristics measuring method performing focus measurement conveniently using an overlay measurement device used commonly in a semiconductor production process.例文帳に追加

半導体製造工程で広く用いられている重ね合わせ測定装置を用いて、簡便にフォーカス計測を行う結像特性計測方法を提示する。 - 特許庁

The detection is performed based on a detection of an impedance variation, which is produced when the process electrode moves through a measurement region, of the measurement region.例文帳に追加

検出は、加工電極が測定領域（３）を経て移動するときに生じる測定領域のインピーダンスの変化の検出に基づいて行われる。 - 特許庁

In a calibration process carried out by a prior measurement, the content of relational expression contained in the surveymeter 10 is compensated by using count values of the auxiliary measurement device 12.例文帳に追加

事前測定による校正工程では、補助測定装置１２による計数値などを用いてサーベイメータ１０が有する関係式の内容が補正される。 - 特許庁

About each measurement item, the factor analysis device selects an explanatory variable in multiple regression analysis from items wherein the measurement order or the process order is before the measurement item, and generates a multiple regression equation.例文帳に追加

各測定項目についてその測定項目より測定順序または工程順序が前の項目の中から重回帰分析における説明変数を選択し、重回帰式を作成する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for measurement of a drawing color, capable of eliminating the need for an expensive measurement apparatus or a complicated process of converting a wavelength of color of a measurement object and a color expression symbol.例文帳に追加

高価な測定装置や、被測定物の色の波長と色表現記号とを変換する複雑な工程を必要としない描画色計測装置、及び描画色計測方法を提供する。 - 特許庁

In a performance profiling acquisition tool 120, the process ID of a measurement object process is registered in an event context register 102 of a processor 100.例文帳に追加

性能プロファイリング取得ツール１２０では、プロセッサ１００のイベントコンテキストレジスタ１０２に測定対象となるプロセスのプロセスＩＤを登録する。 - 特許庁

In the irradiation process of UV rays, the cumulative UV dose on each disk substrate is adjusted based on the measurement result of the measuring process.例文帳に追加

紫外線照射工程において測定工程の測定結果に基づき各ディスク状基板に対する積算紫外線光量を調整する。 - 特許庁

PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS WITH THE SAME, BIAS VOLTAGE MEASUREMENT DEVICE FOR PROCESS CARTRIDGE, AND DEVELOPMENT BIAS CONDITION MEASURING METHOD USING THE DEVICE例文帳に追加

プロセスカートリッジ、それを備えた画像形成装置、プロセスカートリッジのバイアス電圧測定装置、及びそれを用いた現像バイアス条件測定方法 - 特許庁

In the process error measurement method, at least two regions are first specified on an object to be measured where a specific unit process is completed (S10).例文帳に追加

工程エラー測定方法ではまず、所定の単位工程が完了された被測定物上に少なくとも２つの領域を指定する（Ｓ１０）。 - 特許庁

IN-PLANE DISTRIBUTION DATA COMPRESSION METHOD, IN-PLANE DISTRIBUTION MEASUREMENT METHOD, IN-PLANE DISTRIBUTION OPTIMIZATION METHOD, PROCESS APPARATUS CONTROL METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD例文帳に追加

面内分布データの圧縮法、面内分布の測定方法、面内分布の最適化方法、プロセス装置の管理方法及びプロセス管理方法 - 特許庁

The data fetching method has a measuring process for performing measurement according to a region to be measured, a judging process for judging whether the measured value in the measuring process is within a proper range and a calibration process performed when the measured value is judged not to be within the proper range.例文帳に追加

被測定部位による測定を行う測定プロセスと、その測定値が適正範囲であるか否かを判断する判断プロセスと、適正範囲でないと判断された場合に行う校正プロセスとを備える。 - 特許庁

As a means for achieving a stable flow pattern inside the measurement room, a suction device 70 which functions to remove moisture emitted from the sample in the measurement process from the measurement room is arranged adjoining the measurement room.例文帳に追加

測定室内により安定した流れのパターンを達成する手段として、測定プロセス中に試料によって放出される水分を前記測定室から除去する機能を果たす吸引装置（７０）が、前記測定室に隣接して配置されている。 - 特許庁

As means for achieving a more stable flow pattern inside the measurement room, a suction device (70) which functions to remove moisture emitted from the sample in the measurement process from the measurement room is arranged adjacently to the measurement room.例文帳に追加

測定室内により安定した流れのパターンを達成する手段として、測定プロセス中に試料によって放出される水分を前記測定室から除去する機能を果たす吸引装置（７０）が、前記測定室に隣接して配置されている。 - 特許庁

After the current measurement process and process to measure the number of revolutions under the non-load condition in an induced voltage measuring process, application of voltage is stopped and an induced voltage under this condition is measured.例文帳に追加

無負荷電流測定工程及び無負荷回転数測定工程の後、誘起電圧測定工程にて、電圧の印加を停止し、その停止時における誘起電圧を測定する。 - 特許庁

-Appropriate reflection of any modification of the process of comprehensive operational risk management in the measurement technique 例文帳に追加

・オペレーショナル・リスクの総合的な管理プロセスにおける変更内容の計量手法への適切な反映 - 金融庁

PRODUCT FLUID PROPERTY CONTROL METHOD BY INDIRECT MEASUREMENT IN FLUID MIXING PROCESS AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

流体混合プロセスにおける間接計量による製品流体性状の制御方法及びその装置 - 特許庁

Then, the voltage is applied to the voltage application position arranged identically to Process S2 to make flow current into the test piece, and potential difference actual measurement data is obtained by measuring the difference in potentials for the plurality of combinations with the cracks of the potential difference measurement position placed therebetween for the potential difference measurement position arranged identically to Process S2 (Process S4).例文帳に追加

その後、工程Ｓ２と同一に配置された電圧印加位置に電圧を印加して試験体に電流を流し、工程Ｓ２と同一に配置された電位差測定位置に対して、その電位差測定位置のき裂を挟んだ複数の組み合わせについての電位の差を測定して電位差実測データを求める（工程Ｓ４）。 - 特許庁

Thus, the stability of the calculation process does not completely depends upon the sequence of detecting the measurement data.例文帳に追加

それによって計算プロセスの安定性が測定データの検出の順序に完全に依存しない。 - 特許庁

To provide a measuring recording device suitable for recording a measurement result following monitoring control of a batch process.例文帳に追加

バッチプロセスの監視制御に伴う測定結果の記録に適した測定記録装置を実現すること。 - 特許庁

The method includes: an arrangement process for arranging a reference member at a position having a specific relation with the mounting part; a measurement process for measuring respective coordinate values of the reference member; and a calculation process for calculating the rotational error distribution by the moving part based on a difference between respective measurement coordinate values by at least two measurement probes.例文帳に追加

載置部上と所定の関係を持った位置に基準部材を配置する配置工程と、測定プローブの少なくとも２つが、基準部材の座標値をそれぞれ測定する測定工程と、各々の測定座標値の差分に基づいて移動部による回転誤差分布を算出する算出工程と、を備える。 - 特許庁

The "analysis" process 303 generates measurement standards representing the social aspects of the persistent virtual environment.例文帳に追加

「分析」プロセス３０３は、永続的仮想環境の社会的な側面を表す測定基準を生成できる。 - 特許庁

The X-ray diffraction measurement method for a water-containing crystal includes a process of encapsulating a crystal in a water-soluble polymer.例文帳に追加

結晶を水溶性ポリマーで包み込む工程を含む含水結晶のＸ線回折測定方法。 - 特許庁

There is provided an exposure apparatus capable of preventing expansion of damage due to liquid which has flowed out, and allowing an exposure process and a measurement process to be properly performed.例文帳に追加

流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, process processing is performed in a process circuit 14, and an MTF value is calculated in an MTF measurement unit 15 for the image signal of the subject 31.例文帳に追加

この後、プロセス回路１４においてプロセス処理がなされ、被写体３１の画像信号に対し、ＭＴＦ測定部１５においてＭＴＦ値が算出される。 - 特許庁

To provide a thin film measuring device of an ellipsometry system suitable for inline measurement, for example, in a semiconductor manufacturing process or an FPD manufacturing process.例文帳に追加

例えば、半導体製造プロセスやＦＰＤ製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。 - 特許庁

The exposure apparatus capable of preventing damages due to the liquid having flowed out from spreading, and allowing the exposure process and the measurement process to be properly performed is provided.例文帳に追加

流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The addressable bus is joined to an ordnance controller which includes a controlling process and a remote measurement process, and is structured to control the bus.例文帳に追加

アドレス可能なバスが、制御プロセス及び遠隔計測プロセスを含み且つ当該バスを制御するよう構成されたオードナンス・コントローラに結合される。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of preventing expansion of damage due to liquid which has flowed out, and allowing an exposure process and a measurement process to be properly performed.例文帳に追加

流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

In the correlation relation acquiring process, there are performed in order a step of acquiring etching apparatus log in the etching process for each semiconductor wafer and measurement of the etching size.例文帳に追加

相関関係取得工程は、各半導体ウェハに対するエッチング処理におけるエッチング装置ログの取得、及び、エッチング寸法の測長を順に行う。 - 特許庁

For example, in a design process a, design data of the product is, in a manufacturing process b, manufacturing condition of each process such as casting and processing when the product is manufactured is, in a measuring process c, the result of measurement of prescribed measurement items about the product is, and in an assessment process d, the result of a test or assessment of the product is registered.例文帳に追加

例えば設計工程ａでは当該製品の設計データが、製造工程ｂでは当該製品を製造する際の鋳造、加工などの各工程での製造条件が、測定工程ｃではその製品についての所定測定項目の測定結果が、評価工程ｄではその製品についての試験結果や評価が登録される。 - 特許庁

A first measurement mode is set to analyze/process mainly particle components A of a small particle size and a large number, while a second measurement mode is set to analyze/process particle components B of a small number and a large size.例文帳に追加

第１の測定モードは主に粒子サイズが小さく数の多い粒子成分Ａを分析処理し、第２の測定モードでは数が少ないサイズの大きい粒子成分Ｂを分析処理するように設定されている。 - 特許庁

To provide a measurement method and measurement system for measuring crystallization interface of a semiconductor single crystal in an initial stage of a cone part forming process for enlarging the crystal diameter from a seed necking process of an FZ (Floating Zone) method, and to provide a control method and a control system.例文帳に追加

ＦＺ法の種絞り工程から結晶径を拡大するコーン部形成工程初期における半導体単結晶の晶出界面の測量方法、測量システム、制御方法、制御システムを提供する。 - 特許庁

To provide a visualization measurement method and a visualization measurement apparatus capable of simultaneously measuring the deformation of toner and load applied to the toner in a fixing process and capable of visibly measuring toner behavior concerned with the fixing process.例文帳に追加

定着プロセスにおいて、トナーの変形とトナーにかかる荷重を同時に計測し、定着プロセスに関わるトナーの挙動を可視化計測することができる可視化計測方法および可視化計測装置を提供すること。 - 特許庁