「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The controller 24 is programmed to receive the desired ratio of flow through the input means, receive the product measurement values from the in-situ process monitor 100, and calculate a corrected ratio of flow based upon the desired ratio of flow and the product measurement values.例文帳に追加

このコントローラ２４は、前記入力手段を介して所望のフロー比率を受け取り、前記インサイチュ・プロセス・モニタ１００から前記製品の測定値を受け取り、前記所望のフロー比率と前記製品の測定値とに基づいて訂正されたフロー比率を計算するようにプログラムされている。 - 特許庁

Accordingly, a switching process between XZ interferometers (116, 117) and between XZ interferometers (126, 127) will not be necessary, and also it becomes possible to measure the position of the stage, which moves in the XY plane using two position measurement systems having different measurement areas.例文帳に追加

これにより、ＸＺ干渉計（１１６，１１７）間、及びＸＺ干渉計（１２６，１２７）間の切り換え処理が不要となるとともに、ＸＹ平面内で移動するステージの位置を、計測領域の異なる２つの位置計測システムを用いて計測することが可能となる。 - 特許庁

The measurement object 15 is configured to be tiltable, and adjustments of the levelness values or the tilt angles of the flat surface to be measured 15a in the two directions which are the longitudinal and cross directions relative to the process measurement surface 12, are shared on sides of the first support leg 13 and the second support leg 14.例文帳に追加

被計測部材１５を傾動可能に構成し、加工計測面１２に対する被計測平面１５ａの長手方向及び幅方向の２方向の水平度あるいは傾斜角度を、第１支持脚１３側と第２支持脚１４側とに分担して調整するように構成する。 - 特許庁

Two calibration masses equivalent to or different from each other are simultaneously rotated around measurement axes on two axial planes during a calibration process, force generated by imbalance caused by the calibration masses is measured, and the calibration of the imbalance measurement device is evaluated with respect to the measured force.例文帳に追加

校正工程中に、２つの軸平面における測定軸回りに、同等または異なる２つの校正質量を同時に回転させ、校正質量により発生された不つり合いから生じる力を測定し、測定された力に対して、不つり合い測定装置の校正の評価を行う。 - 特許庁

In that case, the position measurement accuracy of a required stage in each exposure process, an air conditioning influence degree by a stage operation or the feature of the exposure process executed before and after is taken into consideration to determine the priority of each air conditioning region and optimum air conditioning adjustment is executed.例文帳に追加

その際、各露光プロセスにおける必要なステージの位置計測精度やステージ動作による空調影響度、もしくは前後に行われる露光プロセスの特徴を考慮して、各空調領域の優先度を決定し、最適化した空調調整を行う。 - 特許庁

The packet processing section 2 copies the received packet and respectively distributes the packet and the copy to a process wherein high speed performance is a requirement and a process wherein flexibility is a requirement at the same time, arbitrates coordination of the processes and dynamically reflects a measurement result of a network on a packet processing method.例文帳に追加

パケット処理部２は受取ったパケットをコピーして高速性を要求される処理と、柔軟性を要求される処理とに同時に振り分け、処理連携を調停するとともに、ネットワークの計測結果をパケット処理方法に動的に反映させる。 - 特許庁

To provide a measurement instrument drift detection device which has high general-purpose property for preventing the deterioration of the estimating precision of the true value of process data and the reliability of drift detection due to the correlation of the process data, and for making it unnecessary to prepare any drift decision index corresponding to the classification of the measuring instrument.例文帳に追加

プロセスデータの真値推定の精度或いはプロセスデータの相関に起因するドリフト検知の信頼性低下を回避し、加えて計測器の種別に応じたドリフト判定指標を必要とせず汎用性の高い計測器ドリフト検知装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an IC-testing apparatus, and a control method and a memory medium in an IC-testing apparatus whereby a throughput is improved by individually and concurrently executing a signal application process for measurement and a process for communication control.例文帳に追加

本発明の課題は、測定用の信号印加処理と、通信制御用の処理とを個別に並行して実行することにより、スループットを向上させるＩＣ試験装置、及びＩＣ試験装置における制御方法及び記憶媒体を提供することである。 - 特許庁

When a measurement work result in the process is transmitted in, the IC tag 2 compares received work result information with the stored quality information to perform quality determination, stores the result inside and also transmits the result to the PCs 5 to 8 in the process.例文帳に追加

当該工程における計測作業の結果が送信されてくると、ＩＣタグ２は、受信した作業結果情報と記憶した品質情報とを比較することで良否判定を行い、その結果を内部に記憶すると共に当該工程内ＰＣ５〜８に送信する。 - 特許庁

The light emission amount obtained in a reaction process or the transmission amount of light to the material obtained in the reaction process are measured, analysis results are verified based on the measured value of multi-dimensional arrangement consisting of a plurality of items and a plurality of pieces obtained by measurement.例文帳に追加

反応過程で得られる発光量または反応過程で得られる物質に対する光の透過量を計測し、計測により取得する複数項目かつ複数個からなる多次元配列の測定値から分析結果を検証するものである。 - 特許庁

The method for evaluating a water absorption deterioration degree of a resin composition includes: a preparation process for preparing a test sample from a resin composition containing an inorganic filler and a resin; and a measurement process for measuring a ratio of the inorganic filler in a rupture surface of the test sample.例文帳に追加

無機フィラーと樹脂とを含む樹脂組成物から試験サンプルを準備する準備工程と、試験サンプルの破断面における無機フィラーの割合を測定する測定工程とを含むことを特徴とする樹脂組成物の吸水劣化度評価方法。 - 特許庁

(2) TiCl_4 is sampled, the concentration of the metal impurity (especially, V) in TiCl_4 is measured in the method of (1), the measurement result is fed back to the producing process, and the producing process is controlled so that the concentration of the metal impurity in the product is a predetermined value or lower.例文帳に追加

（２）ＴｉＣｌ_4をサンプリングし、（１）の方法でＴｉＣｌ_4中の金属不純物（特に、Ｖ）濃度を測定し、その測定結果を製造工程へフィードバックして製品中の金属不純物が所定濃度以下となるように製造工程を制御する。 - 特許庁

To provide a process quality determining method with a wafer grinder, along with a wafer grinder, which can determine process failure on a ground surface such as surface burning by comparing the thickness of a wafer based on a feeding amount of a grinding means with the actual measurement value of wafer thickness.例文帳に追加

研削手段の送り量に基づくウェーハの厚さとウェーハ厚さの実測値とを比較することで、面焼けなどの研削面の加工不良を判定し得るようにした、ウェーハ研削装置における加工良否判定方法およびウェーハ研削装置を提供する。 - 特許庁

The method of treating antifreezing liquid for scattering includes: a first process of recovering the antifreezing liquid for scattering which is primarily composed of propylene glycol as waste antifreezing liquid after usage; a second process of adding a coagulator into the waste antifreezing liquid to coagulate polyacrylic acid in propylene glycol; a third process of filtering the coagulated material; and a fourth process of performing viscosity measurement of the waste antifreezing liquid after filtering.例文帳に追加

プロピレングリコールを主成分とする撒布用不凍液を使用後に廃不凍液として回収する第１工程、前記廃不凍液に凝集剤を添加して、プロピレングリコール中のポリアクリル酸を凝集沈殿させる第２工程、前記凝集沈殿物を濾別する第３工程、前記濾別後の廃不凍液の粘度測定を行う第４工程、を有する撒布用不凍液の処理方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit is manufactured by giving a process S1 for measuring characteristics of the semiconductor integrated circuit, a process S2 for distributing them for a plurality of purposes based on the result of measurement S1, and a process S5 for performing work or processing on at least one or more purposes in a plurality of purposes for adapting them to the purposes.例文帳に追加

半導体集積回路の特性を測定する工程Ｓ１と、この測定Ｓ１の結果に基づいて、複数の用途に振り分ける工程Ｓ２と、これら複数の用途のうち、少なくとも１つ以上の用途について、その用途に適合させるために、加工もしくは処理を行う工程Ｓ５とを有して半導体集積回路の製造を行う。 - 特許庁

The production method comprises drawing an optical fiber preform on the basis of a set production parameter, and includes a process α for measuring the optical characteristics of the fiber during its drawing and a process β for controlling the setting of the production parameter based on the results of the measurement in the process α.例文帳に追加

設定された製造パラメータに基づき光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法であって、前記線引き中の光ファイバの光学特性を測定する工程αと、前記工程αにより得られた測定結果に基づき、前記製造パラメータの設定を制御する工程βとを少なくとも備える光ファイバの製造方法とする。 - 特許庁

In the electrode-forming process, the etching depth of the piezoelectric substrate 2 is changed within the same substrate, on the basis of the film thickness distribution of the metal film 11 measured in the film thickness measurement process, thereby adjusting the center frequency in each of a plurality of element regions.例文帳に追加

そして、電極形成工程の際に、膜厚測定工程により測定された金属膜１１の膜厚分布に基づいて、圧電性基板２のエッチング深さを同一基板内で変化させることにより、複数の素子領域のそれぞれにおける中心周波数を調整する。 - 特許庁

The position coordinate measurement method for measuring position coordinates in the optical system having an intermediate imaging plane comprises a process for acquiring the image of a mark inserted into the intermediate imaging plane, and a process for calculating the position coordinates of the optical system on the basis of the image of the mark.例文帳に追加

中間結像面を有する光学系の位置座標を計測する位置座標計測方法であって、中間結像面に挿入された目印の像を取得する取得工程と、目印の像に基づいて、光学系の位置座標を算出する算出工程とを有する。 - 特許庁

This method for reducing the activity to maltose in the glucose measurement including the process of reacting the PQQGDH is provided by comprising a process of making pH in the measuring reaction as acidic.例文帳に追加

ピロロキノリンキノン依存性グルコース脱水素酵素を反応させる工程を含むグルコース測定方法において、測定反応時のｐＨを酸性にする工程を含む、ピロロキノリンキノン依存性グルコース脱水素酵素を反応させる工程を含むグルコース測定においてマルトースに対する作用性を低減させる方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for realizing stable manufacture of a precise device, by measuring a plurality of points on a sample simultaneously for realizing speedy three-dimensional shape measurement, before reflecting for the setting of working process conditions, in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

試料上の複数の点を同時に計測して高速な立体形状計測を実現し、半導体製造工程の加工プロセス条件の設定に反映させて、高精度なデバイスの安定な製造を実現することができる半導体デバイスの製造技術を提供する。 - 特許庁

A calculation process is decomposed into calculation packets 12-i, and a rule for determining which condition should be satisfied to perform the respective calculation packets (12-i) is defined, whereby an image reconfiguration process is already performed in the midway of detecting the measurement data (MD).例文帳に追加

計算プロセスが計算パケット（１２−ｉ）に分解され、それぞれの計算パケット（１２−ｉ）の実行のためにどの条件が満たされなければならないかを確定する規則が定義されることによって、画像再構成プロセスが測定データ（ＭＤ）の検出中に既に実行される。 - 特許庁

The relative position of a predetermined peripheral circuit 24 of the supported sphere to the support place is measured in a peripheral circuit relative position measurement process; a cord electrode 38 is formed on a cord electrode support 36 in a cord electrode forming process, based on the measured relative position.例文帳に追加

支持されている球の所定の周回路２４の、支持場所に対する相対位置を周回路相対位置測定工程により測定し、測定された相対位置を基にすだれ状電極形成工程によりすだれ状電極支持体３６に対しすだれ状電極３８を形成する。 - 特許庁

This measurement method of carbon concentration in a silicon crystal includes (a) a process for measuring intensity of infrared absorption by a complex of carbon and oxygen in the silicon crystal and (b) a process for obtaining the carbon concentration in the silicon crystal from the intensity of the infrared absorption by the complex of carbon and oxygen.例文帳に追加

シリコン結晶中の炭素濃度の測定方法は、（ａ）シリコン結晶中の炭素と酸素の複合体による赤外吸収の強度を測定する工程と、（ｂ）前記炭素と酸素の複合体による赤外吸収の強度からシリコン結晶中の炭素濃度を求める工程とを含む。 - 特許庁

Subsequently, a template of a size including a prescribed or a larger number of characteristic points around the measurement points, performs a mutual correlation process with second image data by using the template, estimates physical parameters such as the displacement of tissue and speed from the result of the mutual correlation process.例文帳に追加

次いで、この測定点を中心に所定数以上の前記特徴点を含む大きさのテンプレートを設定し、このテンプレートを用いて第２の画像データとの間で相互相関処理を行い、この相互相関処理結果から組織の変位や速度などの物理パラメータの推定を行う。 - 特許庁

This method comprises a process wherein RR of the green tire 1 is measured on a former by using a displacement gage 2 after the green tire 1 is formed and a process wherein a contact bonding plate which can cover substantially an RR peak region obtained by the measurement is pressed against this region to correct the RR of the green tire 1.例文帳に追加

グリーンタイヤ１の成型後、フォーマー上で該グリーンタイヤ１のＲＲを変位計２を用いて測定する工程と、測定により得られたＲＲピーク領域に、この領域を実質上カバーし得る圧着板を押し付けて該グリーンタイヤ１のＲＲを修正する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a spiral steel pipe and an apparatus for measuring the shape, capable of measuring the shape of the steel pipe online after a forming/welding process of a steel strip in a manufacturing process of the spiral steel pipe, and capable of carrying out the measurement by using a facility which is altered simply as much as possible by utilizing a current facility.例文帳に追加

スパイラル鋼管の製造工程において、鋼帯の成形・溶接後の鋼管の形状をオンラインで計測可能であるとともに、現状の設備を活用し極力簡単な設備改造で計測可能なスパイラル鋼管の製造方法および形状測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional membrane structure measuring method of a scanning probe microscope capable of measuring the surface shapes of respective layers at every manufacturing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a multilayered structure to synthesize the measurement results and capable of analyzing and evaluating those measuring results using the data of a multilayer.例文帳に追加

多層構造を有する半導体デバイスの製造プロセスで、各層の表面形状を製造工程毎に計測し、それらの計測結果を合成し、多層のデータを用いて解析・評価することができる走査型プローブ顕微鏡の立体膜構造測定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for managing semiconductor device manufacturing process by which the deviation in alignment which occurs when each layer is laminated can be suppressed effectively in a semiconductor device manufacturing process by reducing the measurement error in superimpose.例文帳に追加

重ね合わせ量の測定誤差を低減し、半導体装置製造工程において各層を積層する際の位置合わせずれを有効に抑制することを可能とする半導体装置製造工程管理方法および半導体装置製造工程管理システムを提供すること。 - 特許庁

The function of the adjustment magnification process part 72 is constructed using a hardware, and the electronic magnification process is applied according to the reference magnification rate and the adjustment magnification rate that are set based on the actual measurement size of the drawn object 14, as an internal setup operation during the period when the drawn object 14 is exposed.例文帳に追加

調整変倍処理部７２は、ハードウエアでその機能が構築され、被描画体１４に露光を行っている最中の内段取りの作業として、基準変倍率、および被描画体１４の実測サイズを元に設定される調整変倍率に応じた電子変倍処理を施す。 - 特許庁

In a processing process before a plurality of paper stocks are processed and supplied to a seed box 6, the amount of a cationic coagulant added in the slurry of the paper stocks in the processing process is automatically controlled on the basis of cation demand measurement values by on-line cation demand measuring devices 20A and 30A.例文帳に追加

複数の紙料を調成し種箱６に供給する前の調成工程において、前記紙料のスラリーをオンラインのカチオンデマンド測定装置２０Ａ，３０Ａによるカチオンデマンド測定値に基づき、前記調成工程におけるカチオン凝結剤の添加量を自動制御する。 - 特許庁

This method for adjusting the recording condition of the optical information recording medium is constituted, as shown in figure 1, so that each process of the parameter setting process A01, the recording operation A02 of a periodic signal, the measurement A03 of a signal level and the lead- through A04 of an optimum recording method is carried out.例文帳に追加

図１に示すように、本実施の形態に係る光情報記録媒体の記録条件調整方法は、パラメータ設定の処理Ａ０１、周期信号の記録Ａ０２、信号レベルの測定Ａ０３及び最適記録方式導出Ａ０４の各処理を行なう構成である。 - 特許庁

As a measurement process, the number of steps of a stepping motor required for elevating the movable accessory 140 from a lowering completion position to the reference position is measured as a reference elevating drive amount.例文帳に追加

計測処理として、あらかじめ、降下完了位置から基準位置まで可動役物１４０を上昇させるのに要するステッピングモータのステップ数を基準上昇駆動量として計測しておく。 - 特許庁

A process of changing the orientation of the actual model WM such that a state in which the mark M is contained in the view of respective cameras 11, 12, 13 is maintained, and then performing the three-dimensional measurement is executed over a plurality of times.例文帳に追加

そして、このマークＭが各カメラ１１，１２，１３の視野に含まれる状態が維持されるように実物モデルＷＭの姿勢を変更して３次元計測を行う処理を、複数回実行する。 - 特許庁

If the conditions are not satisfied, a series of judging works from the measurement of temperature in the process S6 are repeated to wait until a saturation condition of thermal displacement for achieving the value of difference in temperature satisfying the judging expression.例文帳に追加

条件を満たしていない場合は、工程Ｓ６の温度測定からの一連の判定作業を繰り返し、判定式を満たす温度差値になる熱変位の飽和状態まで待機できる。 - 特許庁

A sensor unit 12 of a measurement waiting state after the completion of a fixing process, together with a holder 52, is mounted on each shelf board 92, thereby matching the temperature of each sensor unit 12 with the ambient temperature in the case 75.例文帳に追加

各棚板９２に、固定工程が完了した測定待機状態のセンサユニット１２をホルダ５２ごと載置することにより、各センサユニット１２の温度が筐体７５内の雰囲気温度に合わせられる。 - 特許庁

In a calculation process, reference regions 300 are defined such that each has the measurement point at its center, and the area occupancy ratio of the device-element forming regions is calculated for each reference region 300.例文帳に追加

一方、演算プロセスでは、前記測定点が中心となるように参照領域３００を規定し、各参照領域３００における素子形成領域の面積占有率を演算する。 - 特許庁

To provide a surface plasmon resonance sensor apparatus that can continuously measure and process a number of samples, is simple in configuration and can travel relatively easily, has improved measurement accuracy, and is inexpensive.例文帳に追加

多数の試料を連続して計測処理することのできると共に、構成が単純で相対移動が容易であり、測定精度が良く、安価である、表面プラズモン共鳴センサ装置を提供する。 - 特許庁

The process controller 1 for regenerating sewage is provided with: a data setting unit 20; a measurement data setting unit 40; a simulation unit 60; a unit 80 for selecting an optimum condition and outputting the selected optimum condition; and a data base 90.例文帳に追加

下水再生プロセス制御装置１は、データ設定装置２０と、計測データ設定装置４０と、シミュレーション装置６０と、最適条件選択出力装置８０と、データベース９０とを備える。 - 特許庁

To provide a method of controlling an injection molding machine capable of stabilizing measurement without requiring strict adjustment with respect to each material even when a material makes it difficult to form a back pressure during a measuring process.例文帳に追加

材料ごとに厳密な調整をすることなく、計量工程中に背圧が立ちにくい材料であっても、計量を安定化させることができる射出成形機の制御方法を提供する。 - 特許庁

For example, in an integrated satellite navigation system/wireless network, at least three distance measurement values are applied with the WRR process to determine the position of a mobile communication device.例文帳に追加

例えば、統合された衛星系ナビゲーションシステム／無線ネットワークにおいて、少なくとも３つの距離測定値に対しＷＲＲ処理を適用することにより、移動通信装置の位置を決定することができる。 - 特許庁

The method used for the computation of the machining speed by the measurement of the machinability number for the particular material involves an AWJ cutting process and arbitrarily combined machining operation that is not limited thereto.例文帳に追加

特定の材料に対して被削性数を測定し、加工速度を計算するするのに用いられるの方法は、ＡＷＪ切削プロセスを含むがそれに限られない任意の組合せの加工操作を含む。 - 特許庁

To provide an estimation test apparatus for a semiconductor device capable of executing an accurate estimation test in a short time by automating a series of processes from a baking process for the device to weight measurement.例文帳に追加

デバイスのベーキング処理から重量測定までの一連の処理を自動化し、短時間で且つ正確な評価試験を行うことのできる半導体デバイスの評価試験装置を提供する。 - 特許庁

A device for removing the impure substances on a sample, after sample measurement or inspection by using charged particle beam, and before the following semiconductor manufacturing process, is provided.例文帳に追加

上記目的を達成するために、荷電粒子線による試料測定、或いは検査の後であって、次の半導体製造工程前に、試料上の不純物除去処理を行う装置を提供する。 - 特許庁

To facilitate production of a test piece so as to provide a friction testing machine and a method thereof for carrying out measurement with good reproducibility by using the test piece requiring no V-shaped notching process.例文帳に追加

Ｖ字状切れ込み加工を必要としない試験片を利用することができ、これにより試験片の作製が容易で、再現性のよい計測が可能な摩擦試験機および方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic analysis device and an automatic analysis method whereby the presence or absence of abnormalities is determined with high accuracy from reaction process data obtained during measurement of concentrations of chemical components and activity ratios of enzyme.例文帳に追加

化学成分の濃度や酵素の活性度を測定する際に得られる反応過程データから，異常の有無を高精度に判定する自動分析装置および自動分析方法を提供する。 - 特許庁