「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The process of the interdiffusion is monitored in real time by an optical measurement device, and the light-emitting diode (LED) having the smooth steps with organic bonding has higher luminous efficiency and a lower operation voltage.例文帳に追加

相互拡散のプロセスは光学測定装置でリアル・タイムモニターし、滑らかな段階がある有機接合を備えた発光ダイオード（ＬＥＤ）が、より高い発光効率およびより低い操作電圧を持つ。 - 特許庁

The measurement system also includes an error detector capable of detecting errors in or on the grating or grid of the sensor target object during a continuous production process.例文帳に追加

また、この測定システムは、連続的な生産工程中に、センサターゲットオブジェクトの回折格子もしくはグリッド内または回折格子もしくはグリッド上のエラーを検出することが可能なエラー検出器を含む。 - 特許庁

A transfer data format judgment part 53 judges, from the measurement results, which of an RGB image data command and a CMYKcm binarized image data command completes a process in a shorter time.例文帳に追加

転送データ形態判断部５３は、計測結果に基づいて、ＲＧＢイメージデータ・コマンドとＣＭＹＫｃｍ二値化イメージデータ・コマンドとのうち、いずれのコマンドの方が短時間で処理できるかを判断する。 - 特許庁

The 3-dimensional image process device extracts a piece of 3-dimensional data only regarding the object body from among the 3-dimensional data supplied from the 3-dimensional shape measurement device 20A by a program processing.例文帳に追加

３次元画像処理装置は、プログラム処理により、３次元形状測定装置２０Ａから供給された３次元データの中から検出対象物体に関する３次元データのみを抽出する。 - 特許庁

OSK has fused the digital technology of making improvements using software with the analog process of scraping to achieve high measurement precision, and has gained a dominant 70% share of the domestic Japanese measuring equipment market. 例文帳に追加

同社は、デジタル技術であるソフトウェアを活用した補正と、アナログのキサゲ加工の融合により、高い測定精度を実現し、国内測定機市場においては、約7 割と圧倒的シェアを占めている。 - 経済産業省

In this case, if the spline nut 57 having received a rotation is made rotated in a measurement process, the rotation is transmitted to the screw 20 via the spline 65 and then the screw 20 is made retreated.Accordingly,例文帳に追加

この場合、計量工程において、回転を受けたスプラインナット５７が回転させられると、スプライン６５を介してスクリュー２０に回転が伝達され、これに伴って、スクリュー２０が後退させられる。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

Prior to the calculation of the blood pressure, air is enclosed in a sphygmomanometry bag to be worn by winding around the sphygmomanometry object part beforehand, and the circumference length of the measurement object part is grasped based on a pressure change (ST1) in a process where the appropriateness of the winding relative to the measurement object part is determined by referring to the pressure change.例文帳に追加

血圧算出に先立って、血圧測定部位に巻付けて装着する血圧測定用袋内に予め空気を封入し、その圧変化を参照して測定部位に対する巻付けの適正判別を行う過程における圧変化に基づき測定部位の周囲長を把握する（ＳＴ１）。 - 特許庁

Moreover, arraying of high-resolution probes for measuring a minute area, which is difficult in a conventional system, is easily performed by using a semiconductor process, and more detailed analysis, such as accelerating of measurement, and measurement of transient magnetic-field distribution, becomes available with one-dimensional arraying.例文帳に追加

さらに従来方式では難しかった微小領域を測定するための高分解能プローブのアレイ化についても半導体プロセスを用いることで、本装置では容易に実現することができ、一次元アレイ化によって測定の高速化、過渡的な磁界分布測定等、より詳しい解析を行うことを可能とした。 - 特許庁

In a measurement process of a traffic flow, a feature point specification part 8 specifies constitution points of an edge fitting to the range of the direction registered in the extraction range storage part 16 from feature points on the reference image extracted by a feature point extraction part 7, as a processing target of three- dimensional measurement.例文帳に追加

交通流の計測処理時には、特徴点特定部８は、特徴点抽出部７により抽出された基準画像上の特徴点の中から、前記抽出範囲記憶部１６に登録された向きの範囲に適合するエッジの構成点を３次元計測の処理対象として特定する。 - 特許庁

The clock control means 18 stops the clock supply that is supplied from the ceramic oscillation circuit 16 for each end of the timing operation of the timing means, and the waiting time from the end of measurement of the propagation time to the performance of the next measurement process controls with the low-speed clock supplied from the crystal oscillator 15.例文帳に追加

クロック制御手段１８は計時手段の計時動作が終了するごとにセラミック発振回路１６からのクロック供給を停止し、伝搬時間の計測が終了してから次の計測処理を実行するまでの待ち時間を水晶発振回路１５から供給される低速クロックで制御している。 - 特許庁

This absorption spectrometric apparatus for the semiconductor manufacturing process includes: a channel switching mechanism 50 connected to an exhaust channel of a processing chamber 39 in the semiconductor manufacturing process; and an absorption spectrometric apparatus 51 for multiple reflection type moisture concentration measurement for detecting an absorbance change caused by gas by multiple reflection in the cell of laser light from a laser light source, and measuring the moisture concentration in process gas.例文帳に追加

半導体製造プロセス用吸光分析装置は、半導体製造プロセスの処理チャンバ３９の排気流路に接続された流路切換え機構５０と、レーザ光源からのレーザ光をセル内で多重反射させてガスによる吸光度変化を検出してプロセスガス中の水分濃度を測定する多重反射型水分濃度計測用吸光分析計５１とを備えている。 - 特許庁

This decarburized layer evaluation method includes at least two or more processes among an experiment process, in which the decarburized layer is applied by heating the steel material in a heating condition controllable furnace, an actual measurement process for measuring an actual carbon concentration profile of the decarburized material as the steel material having the applied decarburized layer, and an estimation process for estimating an estimated carbon concentration profile or the heating condition of the decarburized steel material.例文帳に追加

加熱条件を制御できる加熱炉で鋼材を加熱することにより脱炭層の付与を行う実験工程、脱炭層が付与された鋼材である脱炭鋼材について実測炭素濃度プロフィルを実測する実測工程、脱炭鋼材の推定炭素濃度プロフィル又は加熱条件を推定する推定工程、の３つの工程のうち少なくとも２以上の工程を含む。 - 特許庁

The apparatus notifies that it is abnormal when a correlative peak value Ph does not satisfy a previously set lower limit value Phth in a search process of the corresponding point, and stops measurement of the three-dimensional position thereafter.例文帳に追加

この対応点の探索過程において、相関ピークの値Ｐｈが予め定められている下限値Ｐｈｔｈに満たない場合、異常である旨を通知すると同時に、以降の３次元位置の計測を中止する。 - 特許庁

To provide polishing pad profile modification equipment capable of reducing time and man power used in a process from a surface profile measurement of polishing pad to a job obtaining a desired accuracy of flatness of polishing pad surface profile.例文帳に追加

研磨パッドの表面形状測定から、研磨パッドの表面形状が所望の平坦性の精度を得るまでの時間と労力とを軽減することができる研磨パッド形状修正装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for quantitatively evaluating charge damage in a manufacturing process of a semiconductor device, and a wafer for quantitative charge damage evaluation in which the damage of an element can be easily evaluated without a trouble in measurement.例文帳に追加

測定に手間がかからず、素子のダメージ評価が簡便に行える半導体装置の製造工程におけるチャージダメージ定量評価方法及びその装置、チャージダメージ定量評価用ウェハを提供する。 - 特許庁

To provide a method of determining an inspection position where redundancy is reduced while reliability is maintained according to characteristics of measurement data of inspection items for a device manufacturing process of manufacturing a plurality devices in substrate units.例文帳に追加

複数のデバイスを基板単位で製造するデバイス製造工程において、検査項目における計測データの特性に応じて、信頼性を維持しつつ冗長性を削減する検査位置を決定する方法の提供。 - 特許庁

In a defective IC candidate recognition process S3, the result of measurement is compared with the result of the net of the non-defective board to judge whether the IC is a defective IC candidate connected to at least one abnormal net or not.例文帳に追加

不良ＩＣ候補認識工程Ｓ３では測定結果を良品基板の該ネットの結果と比較し、該ＩＣが少なくとも１つの異常ネットと接続された不良ＩＣ候補であるかどうかを判断する。 - 特許庁

To provide a measurement method for measuring a shear frictional factor generated between an extrusion material and a die in a volume molding process by means of backward extrusion.例文帳に追加

本発明は体積成形加工時に押出し素材と金型との間に生じる剪断摩擦因子を測定する方法において、後方押出しを用いて剪断摩擦因子をより容易に測定できる測定方法に関する。 - 特許庁

For example, a wafer, which is subjected to a prescribed etching process in an etching chamber 1, is temporarily transferred to the orienter chamber A or B, or to the transportation buffer chamber 5 and the etched depth is measured by the film thickness measurement mechanism.例文帳に追加

例えばエッチング室１にて所定のエッチングプロセスを施されたウェハは、一旦オリエンタ室ＡまたはＢ、あるいは搬送バッファ室５に搬送され、膜厚測定機構によりエッチング深さが測定される。 - 特許庁

In an HDD, the time interval of the servo sectors is measured in the process of following for reading or writing user data, and a timing signal for detecting the servo sectors is controlled in accordance with the measurement result.例文帳に追加

本発明の一実施形態のＨＤＤは、ユーザ・データのリードあるいはライトのためのフォローイング中にサーボ・セクタの時間間隔を測定し、その測定結果に応じてサーボ・セクタ検出のためのタイミング信号を制御する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an arc tube including a measurement process capable of exactly measuring a total length of a main body of the arc tube, without damaging an outer periphery of the tube main body of a double-helical shape.例文帳に追加

２重螺旋形状の発光管本体の外周を傷つけることなく、発光管の本体の全長を正確に測定することができる測定工程を含んだ発光管の製造方法を提供する。 - 特許庁

Physical values which are applied to the panel 11 and the above bulb in the manufacturing process of a color picture tube, and which are generated between the above bulb and other related members are measured by the sensors 33 or the like, and then the results of the measurement are stored in a personal computer 34.例文帳に追加

これらセンサ33，48_1 〜48_4 によって、カラー受像管の製造工程においてパネル11やバルブ21が受ける物理量や、バルブ21と関連部材との間に生じる物理量を測定し、パーソナルコンピュータ34に記憶させる。 - 特許庁

The device detects blocks of the sheet in which the objects to be printed are arranged from the result of measurement, changes the printing positions and a deformation process and provides the result of output close to a desired size and arrangement.例文帳に追加

測定結果を元に印刷するオブジェクトが用紙のどのブロックに配置されるか検出し、印刷位置や変形処理を変更し、所望する大きさや配置に近い出力結果が得られる事を特徴とする。 - 特許庁

To improve the inspection efficiency of registration accuracy while assuring the quality of a semiconductor device regarding a measurement control device for controlling the registration accuracy method in a semiconductor- manufacturing process.例文帳に追加

本発明は半導体製造プロセスにおいて重ね合わせ精度の手法を制御する測定制御装置に関し、半導体デバイスの品質を保証しつつ、重ね合わせ精度の検査効率を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a metallic island film material for surface-enhanced infrared absorption spectroscopy which can be used for dozens of times and allows an extremely sensitive measurement of microquantities of liquid matters or fine powders, and a process for manufacturing the film material.例文帳に追加

数十回の使用に耐え、且つ超微量液状物或いは微粉末を超高感度に測定できる表面増強赤外吸収分光用島状金属膜材料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the paper added with the starch in paper raw materials includes performing the measurement of an amylase activity at a prescribed position in the process of producing paper, and adding a slime-controlling agent based on measured values.例文帳に追加

澱粉が紙原料中に添加される紙の製造方法において、前記製造工程の所定箇所においてアミラーゼ活性の測定を行い、その測定値に基づいてスライムコントロール剤の添加を行うようにする。 - 特許庁

To rapidly measure and analyze uranium concentration in a radioactive process solution of a nuclear fuel reprocessing facility, etc., to carry out a rapid management of the equipment and to inhibit generation of radioactive waste which accompanies concentration measurement.例文帳に追加

核燃料再処理設備などの放射性プロセス溶液中のウランなどの濃度を迅速に測定分析し、設備の迅速な管理を行い、且つ濃度測定に伴う放射性廃棄物の発生を抑制する。 - 特許庁

In the process of survey, the doctor precisely applies the pressure by finger contact pressure method to perceive the pulse waveform and amplitude of the subject, and the localization and pressure of the pulse sensor are controlled to improve the accuracy of measurement result.例文帳に追加

測量の過程で、医師は指の触圧方式で精確に圧力を施圧し、受測者の脈拍波形と振幅を感じ取り、脈拍センサーの定位と圧力を制御して、測量結果の精確性を向上させる。 - 特許庁

A first measuring path 71 and a second measuring path 72 are set as measuring path for performing profiling measurement of the surface of a master ball 7, a sphere whose radius and center coordinate value are known (measuring path setting process).例文帳に追加

半径および中心座標値が既知の真球であるマスターボール７の表面を倣い測定する測定経路として第１測定経路７１と第２測定経路７２とを設定する（測定経路設定工程）。 - 特許庁

When the level of the reflection intensity data acquired by the data process part exceeds a predetermined threshold, the image information acquisition device adjusts it to a restricted number of reflection patterns on the reflecting surface of the micromirror to be put into ON state, and measurement is performed again.例文帳に追加

データ処理部で取得される反射強度データのレベルが所定の閾値を超える場合、ＯＮ状態にするマイクロミラーの反射面の個数を絞った反射パターンに調整して、再度計測を行う。 - 特許庁

To provide a lane recognition device which does not interrupt a process to measure information of a track only by change of a result of measurement of the information of the track due to displacement of a vehicle along a vertical direction.例文帳に追加

車両が鉛直方向に沿って変位することによって走行路の情報の測定結果が変動しただけで、走行路の情報を測定する処理を中断しない車線認識装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus, a method and a program for the measurement of irregularities in a film thickness wherein when the film thickness of a thin film during a production process is controlled, the film thickness can be measured wholly with high accuracy in an on-line manner.例文帳に追加

生産工程中の薄膜の膜厚管理を行う際に、オンラインで全面を高精度に測定可能な膜厚むら測定装置、膜厚むら測定方法および膜厚むら測定プログラムを提供すること。 - 特許庁

The welding equipment (10) is provided with a voltage measurement means (26) which measures the arc voltage and a storage means which stores a reference curve of a voltage variation which occurs during the whole process of a normal welding sequence in one cycle.例文帳に追加

溶接機(10)は、アーク電圧を計測する電圧計測手段(26)と１サイクルの正常な溶接シーケンスの全工程に従って発生する電圧変動基準曲線を記憶する記憶手段とを備えている。 - 特許庁

To provide a transplanter which can automatically turn a travel machine frame after the finish of a planting process, exclude a distance measurement error caused by the slipping or the like of the travel machine frame during its straight travel, and reduce the irregularity of a turning start timing as much as possible.例文帳に追加

植付行程終了後に走行機体を自動旋回させるにあたり、直進走行中のスリップなどに起因する距離計測誤差を排除し、旋回開始タイミングのばらつきを可及的に小さくする。 - 特許庁

When the rotating speed changes in the process of performing thermal displacement correction including temperature measurement, a thermal displacement time constant in the rotating speed and a time constant ratio obtained by dividing the thermal displacement time constant by a temperature change time constant are calculated.例文帳に追加

温度測定を含む熱変位補正実行中に回転速度が変化したとき、その回転速度における熱変位時定数と熱変位時定数を温度変化時定数で除した時定数比を算出する。 - 特許庁

To provide a method capable of simultaneously performing the inspection of protective film thickness in an inspection process for electromagnetic conversion characteristic without any optical measurement, for a magnetic recording medium having a protective film on a magnetic recording layer.例文帳に追加

磁気記録層上に保護膜を有する磁気記録媒体について、光学的測定を行うことなく電磁変換特性検査工程の中で保護膜厚検査も同時に行うことが可能となる方法を提供する。 - 特許庁

The corrective arithmetic processing in the second process is such that the roundness of the bottom part of the three-dimensional gear shape model is corrected to be increased more than that of the gear as the measurement master.例文帳に追加

前記第二の工程における修正演算処理は、例えば、前記三次元歯車形状モデルの歯底部分の丸みが、前記測定マスタの歯車のそれよりも増大するように修正されるものである。 - 特許庁

In a laden state wherein a scroll compressor is rotating, a laden torque measurement process (S4) measuring a laden torque value with a measuring device from a motor current based upon a load received by an AC servomotor is performed.例文帳に追加

スクロールコンプレッサーが回転している有負荷状態において、ＡＣサーボモータが受ける負荷に基づくモータ電流から、測定装置により有負荷トルク値を測定する有負荷トルク測定処理を行う（Ｓ４）。 - 特許庁

In unladen state wherein only a shaft rotating unit is working, an unladen torque measurement process (S7) measuring an unladen torque value with a measuring device from a motor current based upon a load received by the AC servomotor is performed.例文帳に追加

シャフト回転ユニットのみが作動している無負荷状態において、ＡＣサーボモータが受ける負荷に基づくモータ電流から、測定装置により無負荷トルク値を測定する無負荷トルク測定処理を行う（Ｓ７）。 - 特許庁

By the real time measurement and feedback of the photoresist flow length for the chip at the nozzle unit 500, process failure resulting from photoresist flow failure can be prevented beforehand, and the constant discharge of the photoresist can be obtained.例文帳に追加

ノズル部５００のチップのフォトレジストフロー長をリアルタイムで測定してこれをフィードバックすることにより、フォトレジストフロー不良による工程不良を事前に予防でき、フォトレジストを定量吐出することができる。 - 特許庁

To show an one-line measurement of a bulging size x_ST in a punch-rivet joining process with a movable punch 10 and a fixed die 20, and the end part position K_HS of a rivet head of a rivet 3 having L length.例文帳に追加

本発明は、可動パンチ１０及び固定ダイ２０によるパンチリベット接合工程における膨らみ寸法ｘ_ST及び長さＬのリベット３のリベットヘッド端部位置Ｋ_HSのオンライン測定を開示するものである。 - 特許庁

To accurately prevent the throughput of a device from decreasing by selecting a target to be positioned for measurement that is used in the positioning process of a substrate based on the amount of errors for arrangement in terms of design of the target to be positioned.例文帳に追加

位置合わせ対象物の計測位置と設計上の位置が所定の変換式による一意の関係で表わされないような基板に対しても、スループットを低下させずに高精度の位置合わせを行なう。 - 特許庁

First, the line width of the inside of the wafer surface is measured after a photolithography process is completed, and a Zernike coefficient in a Zernike polynomial for indicating a plurality of in-plane pattern components is calculated from the in-plane line width measurement value of the wafer.例文帳に追加

先ず，フォトリソグラフィー工程が終了したウェハ面内の線幅を測定し，そのウェハ面内の線幅測定値から，複数の面内傾向成分を表すゼルニケ多項式のゼルニケ係数を算出する。 - 特許庁

The process of imaging the surface of the work W using this imaging device 40 permits measurement of a state of displacement or a state of elongation of the work W within the forming die 20 without requiring any break of the press working in mid-course.例文帳に追加

この撮像装置４０によりワークＷの表面を撮像することで、プレスを途中で中断することなく、成形型２０内におけるワークＷの移動状態又は伸び状態を測定する。 - 特許庁