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Process Measurementの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 792



例文

The method for tracking a position of an object includes a process using a magnetic field sensor associated with the object to measure field strengths of magnetic fields generated by two or more field generators, wherein a measurement of at least one of the field strengths is subject to a distortion.例文帳に追加

物体の位置を追跡する方法は、2つ以上の磁界発生器によって生み出された磁界の磁界強度を測定するために物体に関連する磁界センサーを用いる工程を含み、磁界強度のうち少なくとも一つの測定値は、歪みを受けている。 - 特許庁

To provide a new measuring/blending apparatus and method for a powder/granule material, which enable precise control of the discharge in a minute amount and measurement of the powder/granule material and a variety of blending pattern of the powder/granule material, thus offers an opportunity for wider applications of the powder/granule material in the following process.例文帳に追加

粉粒体材料の微量な排出・計量制御が精度よく行えると共に多様な配合態様を可能として、次工程での幅広い用途展開が望まれる新規な粉粒体材料の計量・配合装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

The process flow of the bed-movable PC-MRA measurement includes: processing of compensating a phase offset quantity of a fixed quantity according to the moving velocity of the bed according to the blood flow velocity of a blood vessel at an imaging position; and processing of controlling the applying quantity of a flow encode pulse so as to maximize the signal intensity of the blood vessel.例文帳に追加

撮像位置の血管の血流速度に応じて、ベッドの移動速度に応じた一定量の位相オフセット量を補償する処理と、血管の信号強度が最大となるようにフローエンコードパルスの印加量を制御する処理を設ける。 - 特許庁

iii) Where a person intends to manufacture or import a new chemical substance as a reagent (which means a chemical substance used for the detection or quantification of a substance by a chemical process, or for the experimental synthesis of a substance, or for the measurement of the physical characteristics of a substance; the same shall apply hereinafter 例文帳に追加

三 試薬(化学的方法による物質の検出若しくは定量、物質の合成の実験又は物質の物理的特性の測定のために使用される化学物質をいう。以下同じ。)として新規化学物質を製造し、又は輸入しようとするとき。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

In a method by which the controlled cooling of the thick steel plate is performed after finish rolling in the thick plate manufacturing process, the scale distribution on the surface of the steel plate is measured and, after forming a surface film on the parts where the scale is peeled based on the result of the measurement of the scale distribution, the controlled cooling is performed.例文帳に追加

厚板製造工程で仕上圧延後に厚鋼板を制御冷却する方法において、鋼板表面のスケール分布を計測し、スケール分布の計測結果に基づいてスケール剥離部に表面膜を形成させた後、制御冷却を行う。 - 特許庁


例文

The method includes a step for receiving a measured result about communications from a measurement process operating at a user terminal, a step for detecting SLA violation on the basis of the measured data, and a step for performing refund processing to a user on the basis of the contents of the SLA violation.例文帳に追加

ユーザ端末において動作する測定用プログラムから通信に関する測定結果を受けるステップと、前記測定データに基づいてSLA違反を検出するステップと、SLA違反の内容に基づいてユーザに返金処理を行うステップとを含む。 - 特許庁

Moreover, separately from the vehicle speed of the other vehicle based on the positional information of the other vehicle, the object speed detector calculates a speed of the other vehicle based on the relative speed information of its own vehicle to the other vehicle obtained from the measurement data of the millimeter wave radar (process S106).例文帳に追加

また、物体速度検出装置は、相手車の位置情報に基づいた相手車の車速とは別に、ミリ波レーダの計測データから得られた自車と相手車との相対速度情報に基づいた相手車の速度を算出する(手順S106)。 - 特許庁

Through the induced emission process, the output wavelength of the laser corresponds to the absolute distance between the chromatic dispersion focusing element 30 and the target surface 40, thereby providing the measurement value of the absolute distance between the target surface 40 and the chromatic dispersion focusing element 30.例文帳に追加

誘導放出プロセスを通じて、レーザーの出力の波長が色分散合焦素子30とターゲット面40の間の絶対距離に対応し、それによってターゲット面40と色分散合焦素子30の間の絶対距離の測定値を提供する。 - 特許庁

In the method for controlling the coke oven collecting pipe pressure, a PID setting value is altered so that a gain change of the pressure control process caused by a secondary side pressure change according to a secondary side pressure measurement value of the pressure control valve is canceled.例文帳に追加

コークス炉のドライメン圧力を制御するコークス炉ドライメン圧力制御方法であって、圧力調節弁の2次側圧力測定値に応じて該2次側圧力変化が引き起こす圧力制御プロセスのゲイン変化を打ち消すように、PID設定値を変更する。 - 特許庁

例文

This modified sol-gel process silica particles are characterized in that a ratio (A1/A2)of a peak area (A1) based on an isolated silanol group and a peak area (A2) based on a hydrogen bonded silanol group is ≥0.03 in the measurement of IR spectrum by the diffused reflection method.例文帳に追加

拡散反射法で赤外分光スペクトルを測定した際に、孤立シラノール基に基づくピーク面積(A1)と水素結合したシラノール基に基づくピーク面積(A2)の比(A1/A2)が0.03以上であることを特徴とする改質ゾル−ゲル法シリカ粒子である。 - 特許庁

例文

To provide an automatic measuring system and an automatic measuring method which use an measuring device which has been installed in each household as it is to process measured values of the measuring gauge from a location remote from the measurement gauge, permitting the reduction of introduction cost.例文帳に追加

既に各戸に設置されている計測計器をそのまま使用して、計測計器より離れた位置から計測計器の測定値の処理をすることができ、導入コストを削減することができる自動計測システムおよび自動計測方法を提供する。 - 特許庁

The measurement instrument comprises: a phase signal transmission means 400 for transmitting the different phase signal to the different rotation angle of a spindle 300 corresponding to the rotation of the spindle 300; and an operation process part 500 for obtaining the absolute position of the spindle by operation processing the phase signal.例文帳に追加

スピンドル300の回転に応じてスピンドル300の異なる回転角に対して異なる値の位相信号を発信する位相信号発信手段400と、位相信号を演算処理してスピンドルの絶対位置を求める演算処理部500と、を備える。 - 特許庁

The electric and electron parts are obtained by injection molding a polylactic acid (component A) having a ratio of melting peak of ≥195°C of70% in melting peaks in a temperature rising process in (A) differential scanning calorimeter (DSC) measurement at a mold temperature of 80-130°C.例文帳に追加

(A)示差走査熱量計(DSC)測定において、昇温過程における融解ピークのうち、195℃以上の融解ピークの割合が70%以上であるポリ乳酸(A成分)を、金型温度80〜130℃の範囲で射出成形して得られる電気・電子部品。 - 特許庁

To exactly and highly accurately inspect an appearance of a pattern based upon a comparative measurement with a pattern form optimal for a production process of a user by utilizing a pattern image of a reference mask whose pattern form is confirmed in advance when inspecting the appearance of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの外観検査において、予めパターン形状を確認済みの基準マスクのパターン画像を利用することで、ユーザーの製造プロセスに最適なパターン形状との比較計測による正確かつ高精度なパターンの外観検査を行うことを課題とする。 - 特許庁

To provide a system and a method each for analyzing plant growth through which changes in shape during a plant growth process can be measured and memorized as image information in high precision through highly precise measurement, and the growth of the plants can be analyzed through analysis of the obtained image.例文帳に追加

植物の成育過程における形状の変化を高精度な計測を高精度に画像情報に記憶することを可能とする画像取得装置と、取得した画像を解析し、植物の成育を解析するための解析方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for generating tray data of a surface mounter for no tray part suction point measurement error, data generation error, and part suction failure, while part suction error as well as mounter suspension caused by it and the like are reduced in a surface-mounting process.例文帳に追加

トレイ部品吸着点測定ミス、データ作成ミス及び部品吸着不良がなく、表面実装工程において、部品吸着ミス、それによる実装機の停止時間の発生等を低減できる表面実装機トレイデータ作成方法を提供することにある。 - 特許庁

The obtained electronic image data is subjected to Fourier transform to be converted to an image signal comprising a plurality of frequency components different from one another, and thereafter an image signal having a specific frequency generated by particles of a measurement object is extracted by a bandpass filter process (S3).例文帳に追加

得られた電子画像データに、フーリエ変換を施し、複数の異なる周波数成分からなる画像信号に置き換えた後、バンドパスフィルタ処理(S3)によって、測定対象物の粒子によって生じる特定周波数の画像信号を抽出する。 - 特許庁

In a process wherein polyether polyols react with an alkali metal alkoxide to convert hydroxy groups of the polyether polyols into metaloxy groups in a reaction apparatus having vacuum evacuating and stirring devices, whether or not target reaction rate is attained is judged by direct measurement of viscosity of reaction liquid in the reaction apparatus, and then the process is terminated.例文帳に追加

真空排気装置と撹拌装置を有する反応装置を用いてポリエーテルポリオール類とアルカリ金属アルコキシドを反応させ、前記ポリエーテルポリオール類の水酸基をメタルオキシ化する工程において、前記反応装置内の反応液粘度を直接測定することにより目標反応率への到達を判別し、前記工程を終了することを特徴とする、ポリエーテルポリオール類のメタルオキシ化方法。 - 特許庁

In order to execute such the method so as to monitor a sinter process even in a combustion kiln in a temperature radiation equilibrium state, a radiation ray 14 having a radiation spectrum different from a surface radiation ray 13 is radiated from a radiation source 15 onto the surface 10 and is measured by the measurement instrument 16 during the physical and/or chemical process 12.例文帳に追加

温度放射平衡の状態にある燃焼窯内においても焼結プロセスが監視可能になるようこの種の方法を実行するために、物理および/または化学プロセス(12)中に表面放射線(13)とは異なった放射スペクトルを有する放射線(14)を放射源(15)から表面(10)上に放射させ測定装置(16)によって測定する。 - 特許庁

The manufacturing method and the manufacturing apparatus for the hollow fiber membrane has a process of performing stretching between driving rollers, wherein tension of the hollow fiber membrane during a manufacturing process of the hollow fiber membrane is measured, the performance of the obtained hollow fiber membrane is evaluated based on the measurement result, and the stretch ratio is controlled based on the evaluation result.例文帳に追加

駆動ロール間で延伸を行う工程を有する中空糸膜の製造方法および製造装置であって、中空糸膜の製造工程中の中空糸膜の張力を測定し、測定した結果に基づき、得られる中空糸膜の性能を評価し、評価結果に基づき延伸倍率を制御することを特徴とする中空糸膜の製造方法および製造装置である。 - 特許庁

In the magnetic toner at least comprising a binding resin and magnetic iron oxide, the main peak temperature obtained by a temperature rising oxidation process of the magnetic iron oxide is 200 to 400°C, the amount of oxygen consumed by measurement according to the temperature rising oxidation process is 0.600 to 1.50 mmol/g, and the content of Zn in the magnetic iron oxide is100 ppm.例文帳に追加

結着樹脂及び磁性酸化鉄を少なくとも有する磁性トナーにおいて、該磁性酸化鉄の昇温酸化法によって得られるメインピーク温度が200℃以上400℃以下であり、昇温酸化法による測定で消費された酸素量が0.600mmol/g以上1.50mmol/g以下であり、該磁性酸化鉄のZn含有量が100ppm以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This is a method for measuring the interface position between a fused material and a crystal growing from the fused material, which has a process a) passing an incident light signal to the interface between the fused material and the crystal and a process b) measuring a reflected light signal generated on the interface by the incident light signal for the purpose of the interface position measurement.例文帳に追加

溶融物と前記溶融物から成長する結晶との間の相界面の位置を測定する方法であり、この方法は、a)該溶融物と該結晶との間の相界面へ入射光信号を伝える工程と、b)該相界面の該位置を測定するために、該入射光信号によって該相界面で形成された反射光信号を測定する工程とを有する。 - 特許庁

To provide an activated silica wherein gelation trouble is almost not generated in preparation or in preservation, there is no polymerization process, measurement of a limiting viscosity is not required, a preparation process is remarkably simpler than traditionally, a preparation-required time is short, and an alkali is not used in preparation; its preparation; its preservation; and further a flocculation treating method and apparatus for which they are used.例文帳に追加

製造中あるいは保存中にゲル化トラブルがほとんど起きず、重合工程もなく、極限粘度の測定が不要で、製造工程も従来より著しく簡単であり、製造所要時間が短く、製造時にアルカリ使用もない活性シリカ、その製造方法およびその保存方法、さらにそれを用いた水の凝集処理方法と装置を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of the fuel cell is equipped with (a) a process of measuring an index value expressing a pressure loss inside the diffusion layer included in the fuel cell, and (b) a process of impregnating a prescribed material which suppresses circulation of the gas inside the diffusion layer into the diffusion layer interior 232 in order to increase the pressure loss inside the diffusion layer according to measurement results.例文帳に追加

燃料電池の製造方法は、(a)燃料電池に含まれる拡散層の内部における圧力損失を表す指標値を測定する工程と、(b)測定の結果に応じて拡散層の内部における圧力損失を増大させるために、拡散層内部におけるガスの流通を抑制する所定の材料を拡散層の内部232に含浸させる工程と、を備える。 - 特許庁

There are also set a measurement process of measuring frequency characteristics of impedance for every activity part of the piezoelectric sheet included in the joint body, and a judgment process of judging whether or not an inkjet head is a good one on the basis of a deviation of a difference Fa-Fr between an antiresonance frequency Fa whereby the impedance becomes maximum and a resonance frequency Fr whereby the impedance becomes minimum.例文帳に追加

そして、接合体に含まれる圧電シートの活性部毎にインピーダンスの周波数特性を測定する測定工程と、インピーダンスが極大となる反共振周波数Faとインピーダンスが極小となる共振周波数Frとの差Fa−Frの偏差に基づいて、インクジェットヘッドが良品であるか否かを判定する判定工程とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method includes a forming process of winding a softened straight glass tube along an outer periphery of a molding jig and forming the arc tube main body 60 of the double-helical shape swivelling around the same pivot from a center part to each end part of the glass tube, and the measurement process of measuring a length of the arc tube main body 60 of the double-helical shape.例文帳に追加

本製造方法は、軟化した直管状のガラス管を、成形冶具の外周に沿って巻きつけて、前記ガラス管の中央部から各端部までが同じ旋回軸の廻りを旋回する2重螺旋形状の発光管本体60を形成する形成工程と、2重螺旋形状の発光管本体60の長さを測定する測定工程とを含む。 - 特許庁

The roughness of the surface of the member for processing a semiconductor which is used in a semiconductor manufacturing process is 150/cm or higher in peak count (Pc), with a dead zone width of 0.3μm and a measurement length of 4mm, when a surface roughness measuring device is used.例文帳に追加

半導体製造工程において用いられる半導体処理用部材において、表面の表面粗さが、表面粗さ測定機を用いた不感帯幅を0.3μmとし測定長を4mmとした際のピークカウント(Pc)で150/cm以上であることを特徴としている。 - 特許庁

A printer 11 images a substrate mark 2m and each land 3 provided on a substrate 2 by means of a land imaging camera 25, creates the actual measurement position data of each land 3 with reference to the position of the substrate mark 2m, and transmits that data to a print inspection machine 12 on the downstream process side.例文帳に追加

印刷機11は、ランド撮像カメラ25により、基板2上に設けられた基板マーク2m及び各ランド3を撮像し、基板マーク2mの位置を基準とした各ランド3の実測位置データを作成して、そのデータを下流工程側の印刷検査機12に送信する。 - 特許庁

The controller 16 puts the spectral width control system 30 in a nonoperating state and oscillates the light source 1 at a first oscillation frequency in the measurement processing, and shifts the spectral width control system 30 to an operating state in the exposure process and makes the light source 1 oscillate at a second oscillation frequency.例文帳に追加

制御部16は、計測処理ではスペクトル幅制御システム30を非動作状態にして光源1を第1発振周波数で発振させ、露光処理ではスペクトル幅制御システム30を動作状態にして光源1を第2発振周波数で発振させる。 - 特許庁

When real time performance is measured for the device 200 to be measured, a measuring device 300 transmits the start instruction of a measurement target process to the device 200 to be measured, and measures a time since a start instruction is transmitted until a corresponding pulse is returned.例文帳に追加

測定対象装置200についてリアルタイム性能を測定する際、測定装置300は、測定対象装置200に対して測定ターゲットプロセスの起動指令を送信する一方、該起動指令を送信してから対応するパルスが返送されるまでの時間を測定する。 - 特許庁

To provide a cathode-ray tube getter holder mounting device and mounting method that enable to automate the mounting work of the getter holder on the anode button and measurement work of the resistance of the conductive membrane formed on the inner face of the funnel and to shorten the time required for after-treatment process of the funnel.例文帳に追加

ゲッター支持体のアノード釦への装着およびファンネルの内面に形成された導電膜の抵抗値の測定作業を自動化でき、ファンネルの後処理工程に要する時間を短縮可能な陰極線管のゲッター支持体装着装置および装着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a granular material selector capable of enlarging process capacity by widening the width size of the route width direction of the measurement region with a compact arrangement without enlarging the whole size of the device and also without widening the view angle of the light receiving means.例文帳に追加

装置全体を大型化させることなくコンパクトな配置構成としながら、且つ、受光手段の視野角を広くさせることなく、計測対象領域の経路横幅方向の横幅寸法を大にして処理能力を増大させることが可能となる粒状体選別装置を提供する。 - 特許庁

This secondary reference system precisely establishes the location of the core-produced internal geometric shape of the part exclusive of any fixed outer structure/system, for example, the precision machining and the measurement can be applied can be applied upon such internal features during subsequent process.例文帳に追加

この二次基準系は、何らの固定外部主基準構造/系なしで、部品のコア生成内部幾何学形状の位置を正確に確定し、例えばその後の工程の間に、このような内部特徴形状部に対して精密機械加工及び測定を実施することができるようにする。 - 特許庁

The device also compares, with a reference value, a statistical value based on an n-th order center moment (where n denotes an integer equal to or more than 2) of a specific color component of a measurement value obtained by measuring the color of the patch image with the spatial resolution, thereby detecting a color irregularity being caused by the specific process.例文帳に追加

また、当該空間分解能でパッチ画像を測色して得た測色値の特定の色成分におけるn次(nは2以上の整数)の中心モーメントに基づく統計値と基準値との比較により、当該特定のプロセスに起因する色むらがパッチ画像に生じたことを検出する。 - 特許庁

In the polarizer having an alignment layer formed by using a liquid crystal dichroic pigment, the high brightness polarizing plate laminates the polarizer in which the liquid crystal dichroic pigment has no crystal transition peak in a temperature lowering process in measurement of a differential scanning caloric value and a phase difference film.例文帳に追加

液晶性二色性色素を用いて形成された配向層を有する偏光子であって、液晶性二色性色素は、示差走査熱量の測定における降温過程において、結晶転移ピークが見られない偏光子と、位相差フィルムとを積層していることを特徴とする楕円偏光板。 - 特許庁

In the measurement of an error rate performed in the process to optimize the signal channel parameter of the disk device, the error rate is deteriorated by means of deteriorating the S/N ratio of an input signal, thereby the decision of the optimized parameter value is attained by the error rate test of less transfer bits.例文帳に追加

ディスク装置の信号チャンネルパラメータの最適化の過程で行われるエラーレートの測定において、入力信号のS/N比を劣化させることにより、エラーレートを劣化させ、より少ない転送ビットのエラーレート試験で最適化パラメータ値を決定することを可能にする。 - 特許庁

By adjusting the projection optical system based on a measurement result of wavefront aberration to meet a decided specification when manufacturing the projection optical system, not only a low-order aberration but high-order aberration are simultaneously corrected, for a simplified manufacturing process.例文帳に追加

従って、投影光学系を製造する際に、決定された仕様を満足するように、波面収差の計測結果に基づいて投影光学系を調整することにより、低次収差のみでなく高次収差をも同時に修正することができ、製造工程が簡略化される。 - 特許庁

To provide a polishing pressure measuring method and polishing device that visually measure and monitor various information in a progress state of the polishing, and can accurately perform analysis and evaluation of the polishing process during polishing, measurement and adjustment of polishing pressure and pressure distribution, or the like.例文帳に追加

研磨の進行状態における種々の情報を可視化計測、監視するとともに、研磨加工中の研磨プロセスの分析評価、研磨圧、圧力分布の測定調整等を高精度で行なうことができる研磨加工圧測定方法及び研磨装置を提供すること。 - 特許庁

As a result, the reference light source device for high temperature high-speed radiation thermometers can be provided, which performs radiation temperature measurement of the surface temperature of the silicon wafer processed by a flash lamp anneal method (FLA) under development as a next-generation wafer heat treatment process, and a laser anneal method (LA).例文帳に追加

次世代ウエハ熱処理工程として開発中のフラッシュランプアニール法(FLA)やレーザーアニール法(LA)において処理されるシリコンウエハの表面温度を放射温度計測するための高温高速放射温度計用参照光源装置を提供することが可能である。 - 特許庁

The method for producing exterior parts of electronic equipment includes injection molding a polylactic acid (component A) having a ratio of melting peak of ≥195°C of80% in melting peaks in a temperature rising process in (A) differential scanning calorimeter (DSC) measurement at a mold temperature of 80-130°C.例文帳に追加

(A)示差走査熱量計(DSC)測定において、昇温過程における融解ピークのうち、195℃以上の融解ピークの割合が80%以上であるポリ乳酸(A成分)を、金型温度80〜130℃の範囲で射出成形して得られる電子機器外装部品の製造方法。 - 特許庁

For the process of determining the failure of the pump for an artificial heart, if measurement data for the specific rpm of the pump being actuated are not on a 'pressure-flow' characteristic curve in Figure 1 (a), then the geometrical failure of the pump such as damage to a blade is determined to have occurred.例文帳に追加

人工心臓用ポンプの異常判別処理に際して、作動中のポンプの特定の回転数における計測データが予め得られている図1(a)の「圧力−流量」の特性曲線にのっていないときは羽根の損傷等のポンプの幾何学的異常が発生していると判定する。 - 特許庁

When a voltage Vf is applied on an electron emission element, a current If1 of the element flowing through the electron emission element is measured (S2), and when the voltage Vf is applied on the electron emission element after the measurement process, a current If2 of the element flowing through the electron emission element is measured.例文帳に追加

電子放出素子に電圧V1を印加した際に、その電子放出素子を流れる素子電流If1を測定し(S2)、その測定工程以降に、その電子放出素子に電圧V1を印加した際に、その電子放出素子を流れる素子電流If2を測定する。 - 特許庁

To realize a method for measuring film thickness and optical constant which requires neither a reflection preventing process for a sample having a thin film formed on a transparent substrate nor a special optical element for removing reverse-surface reflected light and its adjustment for a measurement optical system.例文帳に追加

透明基板5a上に薄膜が形成された試料6に対して反射防止処理を必要とせず、測定光学系に裏面反射光を除去するための特別な光学要素もその調整も必要としない膜厚及び光学定数の測定方法を実現する。 - 特許庁

A flow rate measured value obtained by a flow rate measurement part 1 is stored in a flowmeter measured value storage part 14 of a process part 12, and a flow rate variation decision part 15 judges whether or not the difference between a last flowmeter measured value and a current flow rate measured value exceeds a set range value.例文帳に追加

流量計測部11で得られた流量計測値を処理部12の流量計測値格納部14に格納していき、流量変化判定部15で前回の流量計測値と今回の流量計測値との差が設定範囲値を超えたか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope capable of rapidly performing measurement of high precision by causing no fine change of potential in the surface fine region of a sample by properly holding the potential difference between the surface of the sample and a probe when the sample due to the probe is measured in an inspection process.例文帳に追加

検査工程での探針による試料測定時に試料の表面と探針との間の電位差を適切に保ち、試料表面の微細領域での微細な電位変化を生じさせず、迅速にかつ高い精度の測定を行うことができる走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

This plant monitoring device 100 displays information indicating an operating state of a plant 10, in a display device 15 on the basis of a plurality of measurement values of process data detected by a plurality of sensors 1, 2, ..., n installed at respective places of apparatuses constituting the plant 10.例文帳に追加

プラント監視装置100は、プラント10を構成する機器の各所に設置された複数のセンサ1,2,…,nにより検出される複数のプロセスデータの測定値に基づいて当該プラント10の運転状態を示す情報を表示装置15に表示するものである。 - 特許庁

In the second measurement process, a probe 9 arranging a pair of capacitance sensors 14 face to face is inserted between two adjacent fuel rods 4, 4 in the X-axis direction and the Y-axis direction, which outputs respective distance information from the probe 9 to the facing fuel rods 4 as the mountain waveform.例文帳に追加

第二測定処理で、X軸方向とY軸方向に隣接する2つの燃料棒4、4の間に一対の静電センサ14を対向配置したプローブ9を挿入して、プローブ9から対向する燃料棒4までの距離情報を山形波形としてそれぞれ出力する。 - 特許庁

To obtain a method and apparatus capable of directly and rapidly measuring peroxide by directly collecting a sample from a process without extracting peroxide contained in an organic solvent to transfer the same to an aqueous phase to automatically perform measurement low in cost and high in sensitivity and reliability.例文帳に追加

有機溶媒中に含まれている過酸化物を水相に抽出することなく、プロセスから試料を採取して直接かつ迅速に測定することができ、しかも低コスト、高感度、高信頼性の測定を自動的に行うことが可能な過酸化物の分析方法および装置を提案する。 - 特許庁

To provide a method for spark discharge atomic emission spectrometric analysis for maximizing a measurement region as an analysis point configured on a surface of a sample, implementing a component analysis of a sample according to a multiple-analysis logic, and improving the accuracy of the component analysis and a speed of an analysis process.例文帳に追加

本発明は、試料面上に設定される分析点である測定領域の最大化を図り、多回分析ロジックに従った試料の成分分析を行い、成分分析の高精度化、分析処理の高速化を実現したスパーク放電発光分光分析方法に関する。 - 特許庁

例文

If the angle error of the V-groove is outside the range, before an angle adjustment by the edge point distance, a process of an angle adjustment by an adjustment to a rake face height, regrooving work, and angle measurement is repeated until the angle error of the V-groove falls within the range.例文帳に追加

V溝の角度誤差が範囲外であると、刃先距離による角度調整を行う前に、すくい面高さの調整により角度調整を行い、再度溝加工を行った後、角度測定を行う処理をV溝の角度誤差が上記範囲内になるまで行う。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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