「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A microcomputer 1 includes, an RFC 50 for counting the wave number contained in the sensor signal from the resistance variable type sensor for each of measurement times and for acquiring a measurement count value, a count value-measured value conversion process unit 110 for converting the measured count value to the measured value corresponding to a physical quantity such as temperature and humidity, and a measurement time setting unit 100.例文帳に追加

マイクロコンピューター１は、抵抗変化型センサーからのセンサー信号に含まれる波数を計測時間ごとにカウントして、計測カウント値として取得するＲＦＣ５０と、計測カウント値を温度や湿度等の物理量に対応する計測値に変換するカウント値−計測値変換処理部１１０と、計測時間設定部１００とを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a band pass microstrip filter without the need for an adjustment process of a center frequency of the pass band on the basis of a frequency characteristic measurement result through the measurement and inspection of a frequency characteristic after manufacturing of the filter.例文帳に追加

フィルタ製造後にその周波数特性を測定検査し、その後周波数特性測定結果をもとに通過帯域の中心周波数の調整工程を行なうことを必要としない帯域通過型マイクロストリップフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The clearance measurement system 12 also includes a processing unit 198 constituted to process the first and second signals, based on a measurement difference between the first and second sensed parameters, for the purpose of estimating the clearance between the first and second objects 14, 16.例文帳に追加

クリアランス測定システム（１２）はまた、第１と第２の物体（１４、１６）の間のクリアランスを推定するために、第１および第２の感知パラメータの間の測定差に基づいて、第１および第２の信号を処理するように構成された処理ユニット（１９８）を含む。 - 特許庁

A plurality of parameters which are necessary for step measurement are defined in advance to a wafer whose surface condition shifts one after another passing through each process, and in steps S1 and S2, for example, it is judged whether step measurement is necessary or not to a set wafer by a parameter.例文帳に追加

各工程を経ることによりその表面状態が逐次遷移するウエハに対し、段差計測に必要な複数のパラメータを事前に定義し、例えばステップＳ１及びＳ２では、パラメータにより、セットされたウエハについて段差計測が必要か否かを判断する。 - 特許庁

To provide a developing device which is capable of performing TC measurement of high precision by suppressing measurement errors among sensors and devices to extremely reduce an influence of deterioration with time of toner, and a process cartridge and an image forming apparatus having the developing device.例文帳に追加

センサ間および装置間の測定誤差を抑え、経時的なトナーの劣化の影響を極めて少なくし、高精度のＴＣ測定を行うことを可能にする現像装置、及び前記現像装置を有するプロセスカートリッジと画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Based on the two measurement values for radiation intensity, a measurement process part inside a radiation detector body calculates a distance from the human body surface 60 to the radioactive material 62, or an in-body depth x of the radioactive material 62.例文帳に追加

これら２つの放射線強度の計測値に基づき、放射線検出装置本体内部にある計測処理部は、人体表面６０から放射性物質６２が存在する位置までの距離、すなわち放射性物質６２の体内深さｘを演算する。 - 特許庁

The fabricating method of the rotation measuring apparatus can be completed, using one mask during the semiconductor manufacturing process, which prevents generation of influence on measurement results, together with the unsymmetrical structures, with errors generated among different masks during the manufacturing process.例文帳に追加

該回転量計測装置の製作方法は、一つの半導体製造プロセスマスクで完成することができ、製造プロセス中に異なるマスクの間に生じる誤差のある非対称な構造を合わせて計測結果に影響が生じること防ぐ。 - 特許庁

A measurement process is performed in succession for measuring length (a) of the laminated element 2 based on a detected turning angle from the reference position to a rear end of the laminated element 2 moved in the pressing process when elements 6 are closely contacted to each other.例文帳に追加

続いて、各エレメント６同士が密着されたとき、押圧工程において移動された積層エレメント２の後端の基準位置からの回転角度を検出し、その角度に基づいて積層エレメント２の長さａを測定する測定工程を行なう。 - 特許庁

In this method, the traceability information of components to be acquired in a production process, component individual information, assembly information, the adjustment and measurement information of electric components, and test information in the production process are stored in the memory of a product so as to be used.例文帳に追加

本発明は、生産工程で取得する部品のトレーサビリティ情報、部品個別情報、組立情報、電気部品の調整及び、測定情報、生産工程での試験情報を製品のメモリ内に保存し利用する手段を提供する。 - 特許庁

In the product inspection process S300, the optical property of the light diffusion plate molded by the product molding process is measured using the inspection device, and the optical property of the light diffusion plate is evaluated on the basis of the measurement result and the evaluation criterion.例文帳に追加

製品検査工程Ｓ３００では、製品成形工程により成形された光拡散板の光学特性を前記検査装置を用いて測定し、その測定結果および前記評価基準に基づいて、光拡散板の光学特性を評価する。 - 特許庁

In the determination process (C), a graph including the Bow, for example, on a lateral axis (X axis) and the Warp on a longitudinal axis (Y axis) is used, and plotting based upon numerals of the Bow and Warp of the silicon wafers obtained in the measurement process (B) is carried out on the graph (C-1).例文帳に追加

判定工程（Ｃ）では、例えば、Ｂｏｗを横軸（Ｘ軸）に、Ｗａｒｐを縦軸（Ｙ軸）にしたグラフを用いて、測定工程（Ｂ）で得られたシリコンウェーハのＢｏｗ、Ｗａｒｐの数値に基づいてグラフ上にプロットする（Ｃ−１）。 - 特許庁

This measuring recording device for performing trend recording of the measurement result of the batch process in a wave shape following lapse of time is characterized by printing and recording information on the attribute of the batch process on at least either before or after trend recording.例文帳に追加

バッチプロセスの測定結果を時間の経過に伴う波形状にトレンド記録する測定記録装置であって、 トレンド記録前後の少なくとも一方に、そのバッチプロセスの属性に関する情報を印字記録することを特徴とするもの。 - 特許庁

Moreover, the server 30 conducts an authentication process for performing personal authentication by comparing the authentication information transmitted from the plurality of blood pressure measuring devices 10 and the stored basic information and a notification process for urging measurement of biological information per each user.例文帳に追加

そして、サーバ３０は、複数の血圧計測装置１０のそれぞれから送信される認証情報と記憶されている基礎情報とを対比して個人認証する認証処理と、ユーザ毎に生体情報の計測を促す報知処理とを行う。 - 特許庁

Between the pump 403 and the process chamber 101, a pressure control valve 402 is provided to maintain the pressure inside the process chamber 101 to a predetermined pressure level by changing the opening based upon the measured value of the pressure measurement equipment 401.例文帳に追加

ポンプ４０３とプロセスチャンバー１０１との間には圧力測定器４０１の計測値に基づいて開度を変更することにより、プロセスチャンバー１０１内の圧力を所定圧力に維持する圧力制御バルブ４０２が設けられている。 - 特許庁

When carrying out analysis by the signal analyzer 20, the type of the measurement signal is automatically identified from the recorded identification information by an identification information determining part 24, and the necessary analysis process is automatically selected by an analysis process selecting part 25.例文帳に追加

そして信号解析装置２０により解析する際に、識別情報判定部２４にて記録されている識別情報から測定信号の種類を自動識別し、解析処理選択部２５にて必要な解析処理を自動選択する。 - 特許庁

The temperature of a panel 4 to be thermally uniformized is measured before a temperature stabilization process in a thermostatic oven 1, and the period of the temperature uniformized process in the thermostatic oven 1 is set to a length according to the measurement result, so that the panel is correctly set at a predetermined temperature.例文帳に追加

恒温化しようとするパネル４の温度を恒温槽１にて恒温化処理をする前に測定し、恒温槽１における恒温化処理の時間をその測定結果に応じた長さにしてパネルを正確に所定温度にする。 - 特許庁

To control a manufacturing process of a semiconductor device based on a dimension determined by a processed-object dimension measurement process for measuring side dimensions of a pattern formed on a wafer in a non-contact and non-destructive manner at a high speed by using ellipsometry.例文帳に追加

エリプソメトリを使い、ウェハ上に形成されたパターンの横方向への寸法を、非接触かつ非破壊に、しかも高速に求める加工物寸法測定工程を含み、求められた寸法にもとづいて半導体装置の製造プロセスを制御する。 - 特許庁

The temperature measurement method includes a process of selecting corresponding heat radiation light having a wavelength in a predetermined range from heat radiation light emitted from a body to be measured, and a process of calculating temperature using the heat radiation light having the wavelength in the predetermined range selected in the selection process.例文帳に追加

本発明の温度測定方法は、被測定体から放射される熱放射光から、所定領域の波長を有する当該熱放射光を選択する工程と、かかる選択工程において選択された所定領域の波長を有する熱放射光を用いて温度を算出する工程とを有する。 - 特許庁

This temperature measurement method is provided with a process for selecting thermal radiation light having a wavelength within a predetermined range from thermal radiation light radiated from a measured body and a process for calculating a temperature by using the thermal radiation light having the wavelength within the predetermined range and selected in this selection process.例文帳に追加

本発明の温度測定方法は、被測定体から放射される熱放射光から、所定領域の波長を有する当該熱放射光を選択する工程と、かかる選択工程において選択された所定領域の波長を有する熱放射光を用いて温度を算出する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a real-time addition circuit and a measured waveform averaging device for performing an averaging process on waveforms at high speed by shortening, in particular, process time of an averaging process, as to a real-time addition circuit and a measured waveform averaging device used for waveform measurement by a measuring instrument such as an oscilloscope.例文帳に追加

本発明はオシロスコープ等の測定器の波形測定に使用されるリアルタイム加算回路及び測定波形の平均化装置に関し、特に平均化処理の処理時間を短縮し、高速に波形の平均化処理ができるリアルタイム加算回路及び測定波形の平均化装置を提供することである。 - 特許庁

Data processing is performed by a work station connected with a data center through a network in a process in which an additive is automatically prepared and poured simultaneously when supplying liquid fuel to calculate actual running fuel economy by equipment as a first process and a process in which the inspection of exhaust gas component and the measurement of fixed speed fuel economy are performed to obtain data as a second process.例文帳に追加

個別車両に対し、第一工程として機器類による、液体燃料の給油と同時に添加剤を自動調合注入して実走行燃費を算出する工程と、第二工程として排出ガス成分検査と定速燃費を測定してデーターを出す工程と、ネットワークを通じてデーターセンターに接続したワークステイションによりデーター処理をすることを特徴とする。 - 特許庁

There are included measurement of a small number of recording regions where data points characterizing a process are obtained, formation into a model of gradations of the printing process on the basis of the obtained data points by using a model curve in which various gradation behaviors of the process among various regimes are incorporated, and use of the model curve for obtaining a gradation correction curve to correct the process.例文帳に追加

プロセスを特徴付けているデータ・ポイントが得られる少数の記録領域を測定すること、得られたデータ・ポイントに基づき、種々のレジームの中でプロセスの種々のグラデーション挙動を組込んだモデル曲線を用いて印刷プロセスのグラデーションをモデル化すること、プロセスを校正するためのグラデーション修正曲線を得るためにモデル曲線を用いることを含む。 - 特許庁

Temporal transition of intensity of surface radiation radiated from a part of a surface during the physical and/or chemical process is measured by using a measurement instrument such as especially a sensor.例文帳に追加

物理および／または化学プロセス中に表面の一部から放射される表面放射線の強度の時間的な変移を特にセンサ等の測定装置を使用して測定する。 - 特許庁

If the total of the switching positions exceeds the injection stroke from the process control starting point S1 to the forefront advancing position of the plunger 19, the measurement is determined to be insufficient, and the injection molding is stopped.例文帳に追加

切換位置のトータルがプロセス制御起点Ｓ_1 からプランジャ１９の最前進位置までの射出ストロークを超える場合は、計量不足として射出成形を中止する。 - 特許庁

On the other hand, the control part detects flow rate of the fuel injection valve 2 by acquiring measurement value of a flow meter 106 in a flow rate adjustment process of the fuel injection valve 2.例文帳に追加

一方、燃料噴射弁２の流量調整工程において、制御部は、流量計１０６の測定値を取得することにより燃料噴射弁２の流量を検出する。 - 特許庁

The management terminal 4 receives an output such as measurement results from a measuring instrument 5, changes the status data in a wafer unit in accordance with the progress condition of the process and updates the information table 3.例文帳に追加

管理端末４は、測定装置５からの測定結果等の出力を受けて、工程の進捗状況に応じ、ステータスデータをウェハー単位で変更して、情報テーブル３を更新する。 - 特許庁

To provide a cavitation detector using an indirect measurement method that avoids influence of external noise, surely detects a cavitation signal, and prevents from corroding by process fluid and the like.例文帳に追加

外部ノイズの影響を回避し、キャビテーション信号を明確に検知でき、かつプロセス流体による腐食等を受けない、間接測定法によるキャビテーション検出装置を提供する。 - 特許庁

This hinders the getting out of shape of packing of the bundle-packaged product 2 in the conveying process to keep a part of the bundle-packaged product 2 from being deviated longitudinally in a weighing area during the measurement with the gravimeter 15.例文帳に追加

搬送過程で束状物２の荷姿の崩れを生じにくく、重量計１５による計測時に束状物２の一部のものがその計量域の前後に逸脱することがない。 - 特許庁

To provide a manufacturing environment for a wafer manufacturing process and an SPC environment for setting control limits and obtaining the measurement data of production runs.例文帳に追加

本発明は、ウェーハ製造プロセスのための製造環境（１１０）、並びに制御限界を設定すると共に生産ランの測定データを取得するＳＰＣ環境（１１２）を提供する。 - 特許庁

The organic EL element of a pixel 5 for measurement formed in the same process with an organic EL element for a pixel 4 for display formed at a display section 1 is formed at a different position from the display section 1.例文帳に追加

表示部１に形成した表示用画素４の有機ＥＬ素子と同じ工程で形成した測定用画素５の有機ＥＬ素子を、表示部１と異なる位置に形成する。 - 特許庁

To provide a film thickness measurement device capable of accurately measuring film thickness even in the case that the film thickness of a thin film formed in the manufacturing process of an electrophotographic photoreceptor is thin.例文帳に追加

電子写真感光体の製造工程において形成された薄膜の膜厚が薄い場合でも精度よく膜厚を測定できる膜厚測定装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain an improved estimation strategy by estimating a channel impulse response, estimating data in a signal by using it, repeating this process at least one time by using an output, providing improved channel impulse response estimation and performing it by using correlation channel measurement in this case.例文帳に追加

本発明は、通信システムにおいてあるチャンネルを介して送信される信号におけるチャンネルインパルス応答とデータを推定する方法および装置に関する。 - 特許庁

One embodiment includes a method for preparing and using a data store of profile-based information composed of a measurement signal, structure profile data, a process control parameter, and an IC simulation attribute and its use method.例文帳に追加

ひとつの実施例は、計測信号、構造プロファイルデータ、プロセスコントロールパラメータ、及びＩＣシミュレーション属性から構成されるプロファイルベースの情報のデータストアの作成と使用法を含む。 - 特許庁

To provide a process managing method with which dispersion of an increase amount of line width by a flow can be managed with high measurement precision and high throughput by using an optical inspection device.例文帳に追加

フローによる線幅の増加量のばらつきの管理を光学的検査装置を用いて高い測定精度、且つ高スループットに行うことができるプロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an evaluation device and evaluation method of an organic EL element for improving reliability of measurement data in an evaluation process of the organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の評価工程における計測データの信頼性を向上させることが可能な有機ＥＬ素子の評価装置及びその評価方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When both of two tuners are not used, a measurement process is performed for determining amplifying gain according to each channel of TV broadcasts by using either one of the tuner.例文帳に追加

２つのチューナの両方が使用されない場合、どちらか一方のチューナを用いて、テレビジョン放送の各チャンネルにそれぞれ応じた増幅利得を決定するための計測処理が実行される。 - 特許庁

To provide prober equipment realizing stabilized electrical measurement by suppressing variation in the probe height of a probe card, and to provide its probe height measuring method and a process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

プローブカードの探針の高さばらつきを抑制し、安定した電気的測定を実現するプローバー装置及びその探針高さ調整方法、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system for realizing high-throughput film reduction detection or film reduction measurement of a resist pattern, applicable as a part of inline process management.例文帳に追加

本発明の目的は、インラインのプロセス管理の一環として適用が可能な，高スループットなレジストパターンの膜減り検知ないし，膜減り計測を実現するシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing head for a CMP apparatus for manufacturing semiconductor elements enabling the measurement of a step height difference between a wafer and a retainer ring in a CMP process, and the CMP apparatus including the same.例文帳に追加

ＣＭＰ過程にリテーナリングとウェーハ間の段差を測定できるようにする半導体素子製造用ＣＭＰ装置の研磨ヘッド及びこれを備えたＣＭＰ装置を提供する。 - 特許庁

An etching time in the additional process is calculated by the real etched depth which is measured by the film thickness measurement mechanism, the set value of the etched depth, and the etching rate in the film to be etched.例文帳に追加

追加処理におけるエッチング時間は、膜厚測定機構により測定された実際のエッチング深さおよびエッチング深さの設定値、被エッチング膜におけるエッチング速度から算出される。 - 特許庁

A waveform-comparing means 16 implements a correlation process, and obtains an optimal period as a period of a reference waveform is changed based on the measurement data recorded in the data recording means 13.例文帳に追加

波形比較手段１６は、データ記録手段１３に記録された計測データに基づいて参照波形の周期を変更しながら相関処理を行い最適な周期を取得する。 - 特許庁

To use a more accurate processor load measurement technology for a processor executing a task distribution process in a multiple processor architecture for improving efficiency of a multiple processor computer system.例文帳に追加

マルチプロセッサ・アーキテクチャにおいてタスク分散プロセスを実行しているプロセッサのために、より正確なプロセッサ負荷測定技術を用いることにより、マルチプロセッサ・コンピュータ・システムの効率を改善する。 - 特許庁

To simplify the preparation of a processing flow performing the indication guidance of operation to an operator in a process for executing measurement and to enable the accurate guidance matched with the skill degree of the operator.例文帳に追加

測定を実行する過程でオペレータに操作指示のガイダンスを行う処理フローの作成を簡単にするとともに、オペレータの習熟度などに合わせた的確なガイダンスを可能とする。 - 特許庁

To provide an environment evaluation method and its device allowing easy measurement of non-metal ions contained in the environmental atmosphere during a semiconductor wafer manufacturing process.例文帳に追加

半導体ウエーハの製造過程中の環境雰囲気中に含まれる非金属イオンの測定を簡便に行うことの可能な環境評価方法及び評価装置を提供すること。 - 特許庁

One embodiment includes a method for creating and using a data store of profile-based information comprising a signal of measurement data structure profile data, a process control parameter, and an IC simulation attribute.例文帳に追加

ひとつの実施例は、計測信号、構造プロファイルデータ、プロセスコントロールパラメータ、及びＩＣシミュレーション属性から構成されるプロファイルベースの情報のデータストアの作成と使用法を含む。 - 特許庁