「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The calculation apparatus calculates a flow rate of the steam from the drain trap (DTn) by using measurement results of the first and second measuring instruments (70), (80) at an initial point and an end point of a measurement process, a time interval between the initial point and the end point, and a correction coefficient.例文帳に追加

計算装置は、計測プロセスの初期時点における第１計測器（７０）及び第２計測器（８０）の計測結果、計測プロセスの終期時点における第１計測器（７０）及び第２計測器（８０）の計測結果、初期時点と終期時点との時間間隔、及び補正係数を用いて、ドレントラップ（ＤＴｎ）からの蒸気の流量を算出する。 - 特許庁

By photographing an attenuation process of emission intensity of the measurement object part at intervals shorter than the emission pulse cycles of the light by using a photographing means 16, the oxygen partial pressure distribution or the like of the whole measurement object part is obtained on the basis the attenuation rate of the emission intensity of the oxygen quenching coating applied to the part.例文帳に追加

そして、撮像手段１６により測定対象部分の発光強度の減衰過程を、光の照射パルス周期よりも短い間隔で撮影することで、測定対象部分全体の酸素分圧分布等を、当該部分に塗布された酸素消光性塗料の発光強度の減衰率に基づき把握することが可能となる。 - 特許庁

To achieve flat characteristics, in which the inclination rising toward the right in a limiting current region is very small in measurement at low oxygen concentration, to dispense with the need for an expensive, complicated correction circuit having power consumption is large, to achieve correspondence by only changing one portion of the manufacturing process, and to achieve stable, accurate, low-cost measurement.例文帳に追加

低酸素濃度での測定において、限界電流領域の右上がりの傾斜が極めて少なくフラットな特性を有し、高価で消費電力の大きい複雑な補正回路を必ずしも必要とせず、製造工程の一部変更だけで対応ができ、安定して正確に測定することができる安価な限界電流式酸素センサを提供する。 - 特許庁

A printer 11 images a substrate mark 2m and each land 3 provided on a substrate 2 by means of a land imaging camera 25, creates the actual measurement position data of each land 3 with reference to the position of the substrate mark 2m based on the imaging results, and then transmits the actual measurement position data of each land 3 thus created to a component mounting machine 13 on the downstream process side.例文帳に追加

印刷機１１は、ランド撮像カメラ２５により、基板２上に設けられた基板マーク２ｍ及び各ランド３を撮像した後、その撮像結果に基づいて、基板マーク２ｍの位置を基準とした各ランド３の実測位置データを作成し、その作成した各ランド３の実測位置データを下流工程側の部品装着機１３に送信する。 - 特許庁

A printer 11 images a substrate mark 2m and each land 3 provided on a substrate 2 by means of a land imaging camera 25, creates the actual measurement position data of each land 3 with reference to the position of the substrate mark 2m based on the imaging results, and then transmits the actual measurement position data of each land 3 thus created to a mounting inspection machine 14 on the downstream process side.例文帳に追加

印刷機１１は、ランド撮像カメラ２５により、基板２上に設けられた基板マーク２ｍ及び各ランド３を撮像した後、その撮像結果に基づいて、基板マーク２ｍの位置を基準とした各ランド３の実測位置データを作成し、その作成した各ランド３の実測位置データを下流工程側の装着検査機１４に送信する。 - 特許庁

The process (b) includes processes of: measuring the film thickness of the adjustment layer during formation of the adjustment layer, and adjusting the optical film thickness of the adjustment layer based on the measurement result of the film thickness of the adjustment layer.例文帳に追加

また、工程ｂ）は、前記調整層の成膜中に前記調整層の膜厚を測定する工程と、前記調整層の膜厚の測定結果に基づいて前記調整層の光学膜厚を調整する工程とを有する。 - 特許庁

The controller 7 performs a reflection process such that the detection result of the intensity of excited light by the power meter 6 is reflected in at least one of measurement of return light intensity by the OTDR device 1, and Raman gain efficiency calculation.例文帳に追加

制御装置７は、このパワーメータ６による励起光の強度の検出結果をＯＴＤＲ装置１による戻り光強度の測定およびラマン利得効率算出の少なくとも一方に反映させる反映処理を実行する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring a thin film in an accurate and rapid measurement real time when the film is deposited or etched in a film forming step or an etching step used in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程で用いられている成膜工程や、エッチング工程で、薄膜を堆積あるいはエッチングしていく際に、高精度で迅速にリアルタイムで測定のできる薄膜測定方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem that a control system utilizing a low speed scan cycle is unable to compensate for high frequency process variations which have a duration less than the round-trip communications time between the controller developing the compensating control signal and the measurement device.例文帳に追加

低速な走査サイクルを用いる制御システムは、補償制御信号を生成するコントローラと測定デバイスとの間の往復通信時間よりも継続時間が短い高周波プロセス変動に対して補償することができない。 - 特許庁

To provide a measurement means, capable of evaluating in which distribution a harmful metal penetrating inside a semiconductor device substrate by thermal process are captured in a desired region, having an arbitrary shape in the depth direction on the surface of the substrate.例文帳に追加

半導体デバイス用基板の内部に熱処理で侵入する有害金属が、基板面の任意の形状の所望領域で、深さ方向にどのような分布で捕獲されるかの評価が出来る測定手法を提供する。 - 特許庁

In this sensor, normal operating mode and area setting mode are optional, and in normal operating mode, normal displacement measuring process for measuring displacement of an object in measurement coverage area is performed from outputs of the image pickup device.例文帳に追加

通常動作モードと領域設定モードとが選択可能とし、通常動作モードにあっては、撮像素子の出力に基づいて計測対象領域内の物体の変位を計測する通常の変位計測処理を実行させる。 - 特許庁

First, a measurement value obtained inaccurately from the parasitic components R1, R2 is compensated during a manufacturing process, such as an electrical final inspection in an electronic power circuit, regarding the current/temperature dependency or voltage dependency of the components.例文帳に追加

初めに、該寄生構成要素Ｒ１、Ｒ２から不正確に得られた測定値を、該構成要素の電流／温度依存性または電圧依存性に関して、製造工程（例えば、電子電力回路での電気系最終検査）中に補償する。 - 特許庁

In addition, a dried recording sheet is conveyed to a waiting area 9 and stopped (step 7), the time T after stoppage is clocked, and measurement processing of next process is waited until the time T reaches the waiting time Ts.例文帳に追加

これとともに、乾燥後の記録用紙を待機エリア９まで搬送して停止させ（ステップ７）、停止させてからの時間Ｔを計時し、この時間Ｔが待機時間Ｔｓに達するまで次の工程の測定処理を待機する。 - 特許庁

To provide a sub-oscillator mode measuring method and measuring apparatus for discriminating a plurality of sub-oscillation modes of a crystal oscillator piece and a process control method for barrel-processing the oscillation piece, based on the measurement result thereof.例文帳に追加

水晶振動片の複数の副振動モードを区別するための副振動測定方法と測定装置及び、この測定結果に基づいて、バレル加工により水晶振動片を加工する場合の加工管理方法を提供すること。 - 特許庁

In the measurement process, based on the volume data and on a pressure drop value measured by the pressure sensor during a definite time period, it is determined which portion of a preset characteristic area is applicable, thereby determining the state of leak.例文帳に追加

そして、測定工程では、この容積データと、ゲージ圧センサで計測した一定時間での圧力低下値とを基に、予め設定しておいた特性の領域のどの部分に位置するかを判定し、リーク状態を判定する。 - 特許庁

As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加

実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁

A number described on one surface of a paper sheet 11 in process of transport is read by a number reader 14, a pattern on the other surface of the paper sheet is read by a pattern reader, and the thickness of the paper sheet is measured by a thickness measurement device 16.例文帳に追加

搬送中の紙葉類１１の一面に記載された前記番号を番号読取装置１４で読み取り、同紙葉類の他面の図柄を図柄読取装置で読み取り、同紙葉類の厚みを厚み測定装置１６で測定する。 - 特許庁

To provide a physical strength measuring apparatus and a physical strength evaluating system, which consistently process the health examination of the physical strength (grip, one leg standing, walking speed) of the aged from the measurement thereof to the formation of a result table safely and efficiently by a group health examination system.例文帳に追加

高齢者の体力健診（握力、片足立ち、歩行速度）を集団健診方式で安全かつ効率的に測定から結果票作成まで一貫処理できる体力測定装置と体力評価システムを提供すること。 - 特許庁

According to the method, the shape of a resist pattern being formed on an wafer can be predicted by numerical simulation without requiring any preliminary measurement or experiment for predicting diffusion phenomenon of acid in the heating process of resist following to exposure.例文帳に追加

この結果、レジスト露光後加熱の工程における酸の拡散現象を予測するために予備的な実測実験を行なうことなく、ウェーハ上に形成されるレジストパターン形状を数値シミュレーションにより予測することができる。 - 特許庁

To provide a component mounting apparatus and a method that improve the productivity of component mounting work that uses substrates liable to be warped and deformed as targets and is accompanied by a warpage measurement process.例文帳に追加

反り変形を生じやすい基板を対象とし反り計測工程を伴う部品実装作業において、生産性を向上させることができる部品実装装置および部品実装方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an ultrasonograph, a medical image analysis instrument and method that have improved the measurement precision by optimizing a template size when a pattern patching is performed by using a mutual correlation process to medical image data.例文帳に追加

医用画像データに対して相互相関処理を用いてパターンパッチングを行う際のテンプレートサイズの最適化により、計測精度を向上させた超音波診断装置、医用画像解析装置及び医用画像解析方法を提供する。 - 特許庁

To measure with high accuracy the amount of disagreement, between the displacement amount of registration measured from superposition measurement marks and the displacement amount of registration of circuit patterns themselves of the semiconductor device, in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程において、重ね合わせ測定マークから計測される合わせずれ量と、半導体装置の回路パターン自身の合わせずれ量との不一致量を高精度に測定することを目的としたもの。 - 特許庁

To provide a circuit which, in detecting a duty of a clock, performs an initial measurement operation for removing offsets caused by variation in environment parameters, such as process, voltage level, and temperature within a semiconductor memory device.例文帳に追加

クロックのデューティ検出において、半導体メモリ装置内のプロセス、電圧レベル、及び温度などによる環境変数の変化によって発生するオフセットを除去するための初期測定動作を行うことができる回路を提供すること。 - 特許庁

The immunity measurement method using a reaction vessel, and a solid phase in which an antibody or an antigen is immobilized, includes a process for performing an antigen/antibody reaction under conditions, where the lower and upper portions of the reaction vessel are heated and cooled, respectively.例文帳に追加

反応容器及び抗体又は抗原を固定化した固相を用いた免疫測定方法であって、反応容器の下部を加熱し上部を冷却する条件下で抗原抗体反応を行う工程を含むようにした。 - 特許庁

To provide a liquid crystal cell capable of measuring reliable AΦ without a complicated process even in the case of a liquid crystal orientation film with large azimuth angle anchoring energy (AΦ) and a measurement method of AΦ using the liquid crystal cell.例文帳に追加

方位角アンカリングエネルギー（ＡΦ）の大きい液晶配向膜でも、煩雑な工程なしに信頼性のあるＡΦを高精度に測定できる液晶セル、およびその液晶セルを用いたＡΦの測定方法を提供する。 - 特許庁

An evaluation sample M is washed (including a drying process) (S1), and a transmissivity T is obtained by executing transmissivity measurement within a prescribed time (S2), and the obtained transmissivity T is corrected into a transmissivity Tc at an evaluation time tc (S3).例文帳に追加

評価サンプルＭを洗浄（乾燥工程を含む）し（Ｓ１）、所定時間内に透過率測定を行って透過率Ｔを求めた後（Ｓ２）、得られた透過率Ｔを評価時間ｔｃにおける透過率Ｔｃに補正する（Ｓ３）。 - 特許庁

The method for inhibiting NOx gas generation is characterized by electrolyzing the nitric acid solution at a constant electropotential in a process of dissolving the copper metal in the solution and by controlling a quantity of added hydrogen peroxide based on a measurement of the electrolysis current.例文帳に追加

銅系金属を硝酸含有液で溶解させる工程において、該液を一定電位で電解し、その電解電流値に基づいて過酸化水素の添加量を調整することを特徴とするＮＯｘガスの抑制方法。 - 特許庁

Thereafter, the substrate which is already developed is measured or inspected by an integrated measurement device IM, and an acceptable substrate is sent to an input / output port I / O2, and the lot which is already treated is assembled before the lot is transported to another process.例文帳に追加

現像済みの基体はその後統合測定装置ＩＭにより測定もしくは検査され合格した基体は入出力ポートＩ／Ｏ２に送られ、そこで処理済みのロットは別のプロセスに移送される前に組み立てられる。 - 特許庁

A displacement measurement necessity determination part 17 determines whether or not it is necessary to measure the displacement of an actual position with respect to the target position of a process processing part 3 in a sub-scanning direction 9 based on a predetermined criterion.例文帳に追加

ずれ量計測要否判断部１７は、副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量を、新たに計測する必要があるか否かを予め定められた基準に基づいて判断する。 - 特許庁

To provide a method for correcting mask data for an LSI, the method capable of reducing the number of measurement points on a test pattern transferred onto a wafer and reducing the measuring time while carrying out optical proximity correction and process proximity correction with high accuracy.例文帳に追加

光近接効果補正とプロセス近接効果補正を高精度に行いながら、ウエハー上に転写したテストパターンの測定点数の削減および測定時間の短縮を行えるＬＳＩ用マスクデータ補正方法を実現する。 - 特許庁

Every time when elapsing a prescribed time, this game machine executes a token measurement process for calculating a mean value of the measured value stored in the control RAM 66 to the number of tokens inserted into a token slot 8 for a prescribed time (S59).例文帳に追加

そして、所定時間が経過する毎に、制御ＲＡＭ６６に記憶されている計測値の、所定時間の間にメダル投入口８に投入されたメダル枚数に対する平均値を算出するメダル計測処理を行なう（Ｓ５９）。 - 特許庁

Then, the contaminations are carried to a measurement section 6 for visual inspection, and a semiconductor package sorted to be conforming is stored in a storage tray 7, and is carried out to a next process outside the visual inspection apparatus 1 via a storage tray elevator 9.例文帳に追加

その後に測定部６に搬送されて外観検査が行われ、良品と選別された半導体パッケージが収容トレイ７に収容され、収容トレイエレベータ８を介して外観検査装置１の外へ、次工程へと搬出される。 - 特許庁

Therein, in order to perform thickness measurement upon thinly grinding and a domain reversal process, the ferroelectric single crystal substrate 6 is constituted such that four corners are cut as compared to the base substrate 2, whereby a part of a metal film 3 is exposed.例文帳に追加

なお、薄く研磨する時の厚み測定及び分極反転プロセスを行なうため、強誘電体単結晶基板６は、ベース基板２と比べて四隅がカットされており、従って金属膜３の一部が露出している。 - 特許庁

An application switching part 130 measures time with a time measurement means 131, and switches applications to cause the application 120 identified by the command analysis part 110 to process the command received in the measured time.例文帳に追加

アプリケーション切替え部１３０は、時間計測手段１３１を用いて時間を計測し、計測した時間に受信したコマンドの処理を、アプリケーションを切替えることで、コマンド解析部１１０が特定したアプリケーション１２０に処理させる。 - 特許庁

For example, whether there is a control environment in place in which, having quantified the costs of raising funds and so forth taking into account the degree that liquidity is affected during times of stress, these costs are used in the budget process, measurement of business results, approval of new products and so on. 例文帳に追加

たとえば、ストレス時に流動性が影響を受ける度合いを勘案し、資金調達コスト等を定量化した上で、予算プロセス、業績測定及び新商品の承認等に活用する態勢となっているか。 - 金融庁

A polishing pad 100 comprises a polishing pad body 11 having an aperture 18 formed therein, and a window 30 secured in the aperture for performing optical measurement of a semiconductor substrate to be polished during the polishing process.例文帳に追加

研磨パッド１００は、中に形成された開口部１８を有する研磨パッド本体１１と、被研磨体である半導体基材の光学計測を研磨中に実施するための、開口部中に固定された窓３０を含む。 - 特許庁

A value of strain tensor is not simply converted to Raman shift, but a microscopic spectroscopic measurement process is simulated in combination with an electromagnetic field analysis, thereby enabling more accurate simulation, such as polarization direction dependence.例文帳に追加

歪みテンソルの値をラマンシフトに単純に変換するのではなく、電磁場解析と組み合わせて顕微分光計測過程をシミュレートすることにより、偏光方向依存性等、より精密なシミュレートを可能にしたことを特徴とする。 - 特許庁

In the first measurement process of a multitude of fuel rods 4 in a fuel assembly, distance information of peripheral fuel rods 4 is output as a mountain waveform by scanning outside sensors 22 and 23 along X-axis and Y-axis.例文帳に追加

燃料集合体の多数の燃料棒４について、第一測定処理で、外側センサ２２、２３をＸ軸及びＹ軸に沿って走査して外周側の燃料棒４の距離情報を山形波形として出力する。 - 特許庁

To provide a polishing method and a polishing apparatus capable of executing a multi-stage polishing process wherein the throughput is enhanced by particularly omitting the measurement of the surface state of substrates between polishing processes as much as possible to the utmost extent and the polishing condition (polishing recipe) is improved.例文帳に追加

特に各段の研磨プロセス間での基板の表面状態の計測を可能な限り省略してスループットを高め、しかも研磨条件（研磨レシピ）を改善させた多段研磨プロセスを行うことができるようにする。 - 特許庁

[2] In the furnace pressure control process in a waste disposal furnace provided with a boiler, the air flow rate or vapor flow rate during the soot blow conducted in the boiler is adjusted based on a measurement value of the pressure in the waste disposal furnace.例文帳に追加

［２］ボイラが併設された廃棄物処理炉における炉内圧の制御方法であって、前記ボイラ内でのスートブローの空気流量又は蒸気流量を、前記廃棄物処理炉内の圧力の計測値に基づき調節する。 - 特許庁

A control code change means 108 executes a process for changing the control codes in the VPN connection information tables 104, 204 in accordance with a CPU load of the VPN gateway 10 measured by a CPU load measurement means 106.例文帳に追加

制御コード変更手段１０８は、ＣＰＵ負荷測定手段１０６が測定したＶＰＮゲートウエイ１０のＣＰＵ負荷に応じて、ＶＰＮ接続情報テーブル１０４，２０４中の制御コードを変更するための処理を行う。 - 特許庁

Then,, measurement results acquired in a measuring process S1, namely, the data measured on the surface shape of each fine optical surface of the micro fly-eye lens 5, are subjected to second differentiation, to determine an illuminance irregularity function (S2).例文帳に追加

次いで、本実施の形態の製造方法では、計測工程Ｓ１で得られた計測結果、すなわちマイクロフライアイレンズ５の各微小光学面の面形状に関する計測データを２階微分して照度ムラ関数を求める（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a device for drying raw laver capable of drying the laver in a short time for capable of feeding back the mass of the raw laver for its mass measurement after the drying to a concentration-adjusting process as soon as possible.例文帳に追加

質量測定用生海苔の乾燥後の質量をできるだけ速く濃度調整工程へフィードバックさせるため、生海苔を短い時間で乾燥することができる質量測定用生海苔の乾燥装置を提供する。 - 特許庁

Then, a polarization dependant loss measurement process is performed which measures the polarization dependant loss of the object 8 by measuring the transmission light from the object 8 while the light of wavelength detected by the peak wavelength detection process is made incident on the object 8, with the polarization state of the light being changed at random.例文帳に追加

つぎに、ピーク波長検出処理により検出した測定波長の光を被測定物８に入射させるとともに、当該光の偏波状態をランダムに変化させながら、被測定物８からの透過光を測定することにより、被測定物８の偏波依存性損失を測定する偏波依存性損失測定処理が実行される。 - 特許庁

The method and apparatus for monitoring during a dynamic process determine when effective measurements of thermal effusivity and/or thermal conductivity are made during a part of a cycle during a calibration stage, then measure thermal effusivity and/or thermal conductivity during a subsequent dynamic process in dependence upon a time delay value and a measurement duration value until a desired value is obtained.例文帳に追加

動的プロセス中にモニタする方法及び装置は、熱浸透率及び／又は熱伝導率の効率的な測定が較正段階のサイクルの一部でいつ行われたかを判定し、所望の値が獲得されるまで時間遅延値及び測定持続値に基づいて次の動的プロセス中に熱透過率及び／又は熱伝導率を測定する。 - 特許庁