| 意味 | 例文 |
Process Measurementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 792件
To provide an inspection image, inspection method and inspection device using electron beams, with an expanded beam scan dimension (a field of vision; FOV) and with uniform or near-uniform CD distribution in the field to stabilize measurement in the FOV, in order to make an easy process control including variations in local CD, CD difference of vertical and horizontal line and the like.例文帳に追加
ビームスキャン範囲(視野、FOV)を拡大し、FOV面内の測定値がばらつかないようにCDの面内分布を均一又は略均一に分布させ、ローカルなCDのばらつき、縦線と横線のCDの違いなどのプロセス管理が容易な、電子ビームを用いる検査画像、検査方法、検査装置を提供する。 - 特許庁
To solve such a problem that a tiny stain or scratch is not detected because a measurement value of an optical sensor for measuring a tip of rolled paper is fluctuated due to influence of floating of the rolled paper in a rolled paper pre-cutting process in which the tip of the rolled paper is cut with measuring a stain or scratch at the tip when automatically feeding the rolled paper.例文帳に追加
ロール紙自動給紙時にロール紙先端部の汚れや破れなどを測定して先端部をカットするロール紙プレカットにおいて、ロール紙の浮き上がりの影響などにより、ロール紙先端部を測定する光学式センサの測定値が変動するため、微小な汚れや傷などが判定できない。 - 特許庁
A snapshot mode-operated lead salt-based image acquisition sensor 20 which is relatively low-cost and has good measurement sensitivity at temperatures consistent with thermoelectric cooling means, is used for various automated process control and article inspection applications, thus enabling a high-speed machine visual inspection system 12.例文帳に追加
熱電気冷却手段と矛盾のない温度における相対的に低コストで良好な測定感度を有し、スナップショットモードで動作される鉛塩ベースの画像取得センサー20が種々の自動化されたプロセス制御および物品検査アプリケーションに使用されることにより、高速機械視覚検査システム12が可能となる。 - 特許庁
In a process to reach a steady state free precession after repeating sequences in a short repetition time (TR) and going through a state of transient oscillation of magnetization, the amount of phase encoding to be applied is controlled to acquire echo signals in the state of transient oscillation and to have the acquired signals placed in a high region of a measurement space (k space).例文帳に追加
短い繰り返し時間(TR)でシーケンスを繰り返し、磁化が過渡振動状態を経た後、定常状態自由歳差運動に達する過程において、過渡振動状態のエコー信号も取得し、その信号が計測空間(k空間)の高域に配置されるように、付与する位相エンコード量を制御する。 - 特許庁
Two or more current sensors 5a and 5d having different ratings are installed in a same circuit, and, in a measurement process performed as required, by selecting a current sensor expected to have a minimum error, the magnitude of the error relative to a true current value is reduced compared with a case having a single current sensor.例文帳に追加
同一の回路に、定格の異なる2個上の電流センサ5a、5dを設置し、随時行われる計測処理において、最も誤差が小さいと期待される電流センサを選択することにより、電流センサ1個の時に比べて、真の電流値に対する相対的な誤差の大きさを小さくする。 - 特許庁
NISA focuses on the safety research for aging management of nuclear installations as one of its important research programs on the Nuclear Safety, and is carrying out the research on clarification of aging phenomena, development of prediction methods of aging process, development of methods for early detection of cracks and deterioration and fine measurement approach, and development of structural integrity evaluation.例文帳に追加
原子力安全・保安院は、原子炉施設の高経年化の安全研究を、重点安全研究課題の一つと位置付け、高経年化現象の解明と高経年化プロセスの予測手法、亀裂と劣化の早期検知と精細測定手法の開発、構造健全性評価手法の開発等のテーマを取りあげている。 - 経済産業省
To provide an array substrate capable of optimizing test conditions of a self-test functional circuit, (BISAT)(built in self array test), for every substrate by disposing a dummy pixel area in the vicinity of a display area and arranging a defective dummy pixel therein in order to avoid the erroneous determination or the increase of a measurement time required for test in the substrate created according to an NMOS process.例文帳に追加
NMOSプロセスで作成された基板の場合、誤判定または検査に要する測定時間の増大を回避するために、表示領域近傍にダミー画素領域を設けその中に不良ダミー画素を配置することにより、基板毎に自己検査機能回路(BISAT)の検査条件の最適化をし得るアレイ基板の提供を目的とする。 - 特許庁
The wafer sensing unit is installed in the semiconductor manufacturing apparatus including a processing device which performs a heating process, and includes a module of remotely measuring a temperature of a wafer being transferred by an infrared temperature sensor and a determination module of determining that the wafer is mounted on a transfer mechanism when a measurement result indicates that the temperature is equal to or higher than a first constant temperature.例文帳に追加
ウェハセンシング装置は、加熱処理を行う処理装置を備えた半導体製造装置に装備され、搬送されるウェハの温度を赤外線温度センサーにより遠隔計測する手段と、計測結果が第1の一定温度以上の場合は、ウェハが搬送手段に搭載されていると判定する判定手段とを備える。 - 特許庁
To provide an excellent suspended particle measurement device capable of suitably obtaining size of suspended particles in a predetermined spatial cross section in a fluid, the number of the suspended particles, and the distribution of the suspended particles without requiring a complicated calculation process, and of specifically acquiring motion of the suspended particles in the spatial cross section in the fluid.例文帳に追加
煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子のサイズ、浮遊粒子の数、浮遊粒子の分布を好適に求めることができ、また、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供する。 - 特許庁
In this system, the component concentration measurement of an aqueous solution of salts can be executed by using an unsaturated solution prepared by diluting by 10 to 7 times with water the aqueous solution of salts of high temperature and a high concentration such as the liquid in a boiling-dry can in a salt manufacturing process by an ATR method (attenuated total reflectance method) by an infrared spectrophotometer.例文帳に追加
赤外分光光度計によるATR法(全反射減衰法)により、製塩工程におけるせんごう缶の缶内液のように、高温度でかつ高濃度の塩類水溶液を、水で10/7倍に希釈することにより調製した未飽和溶液を用いて、該塩類水溶液の成分濃度測定が可能であることを見出した。 - 特許庁
A heating control means of the rice cooker inputs the output from a preliminary immersing time measuring means, whose measurement is started by an outer lid opening time clocking means, and automatically controls a heating means so that the water absorption rate of rice reaches the saturation state when the water absorbing process terminates, being not more than 30%, and the water temperature is 40-60°C.例文帳に追加
加熱制御手段は、外蓋開放時間計測手段により測定開始される予備浸漬時間測定手段からの出力を入力として、吸水工程終了時に米の吸水率が飽和状態まで達しており、かつ吸水率30%以下、かつ水温が40〜60℃になるように加熱手段を自動制御するものである。 - 特許庁
In a temperature compensation process S9, temperature differences are measured between a temperature measuring junction 41 and the temperature junctions 42 and 43 of the thermocouple 16 to determine the temperature of the reference temperature junctions as the temperature of a measurement part 18, performing high-accuracy temperature compensation with respect to measured temperature from environmental temperature information and measuring junction temperature information.例文帳に追加
そして、温度補償工程S9は、熱電対16の測温接点41と基準温度接点42,43との温度差を計測して、基準温度接点の温度を特定することにより、測定部18の温度とし、測定された値に対して環境温度情報と測温接点温度情報とから高精度の温度補償を行う。 - 特許庁
To provide a microchip for electrophoresis for use in protein analysis, which enables the pretreatment of a sample containing a protein on the chip, in addition to the separation, measurement and detection process in electrophosesis, and can integrate the operation processes, resulting in the improvement of the efficiency due to the reduction in time required for analytical operation and the labor saving.例文帳に追加
タンパク質分析に用いられる電気泳動用マイクロチップであって、電気泳動における分離・測定・検出過程に加えて、タンパク質含有試料の前処理をチップ上で可能にし、作業工程を一体化することによって分析作業時間の短縮と省力化による効率の向上を図ることができるものを提供する。 - 特許庁
To provide an injection molding machine provided with a toggle type mold-clamping device, capable of adjusting a mold-clamping force so that measuring timing of the mold-clamping force during a molding process is set, target mold-clamping force at the set timing is set and mold-clamping force at the set measurement timing becomes equal to the target mold-clamping force at each molding cycle.例文帳に追加
成形工程中の型締力の測定タイミングを設定し、設定されたタイミングでの目標型締力を設定し、設定された測定タイミングでの型締力が毎成形サイクルで目標型締力と同じになるように型締力を調整可能なトグル式型締装置を備えた射出成形機を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for detecting the diameter of a single crystal capable of improving the measurement accuracy of a large, heavy crystal and achieving improvement in the yield of the single crystal and reduction of quality variation thereof in a method for detecting the diameter of a single crystal grown by the CZ process, and to provide a single crystal pulling apparatus.例文帳に追加
CZ法により育成される単結晶の直径を検出する方法において、大口径、高重量結晶の直径の測定精度を向上し、単結晶の歩留まりの向上と品質ばらつきの低減を達成することができる単結晶直径の検出方法および単結晶引上げ装置を提供する。 - 特許庁
This interlocking releasing device is equipped with an interlocking releasing mechanism 26 capable of being moved by means of compressed air energization for the execution of any interlocking releasing process, a valve means for selectively feeding compressed air to energize the interlocking releasing mechanism 26, and with a measurement device 18' for detecting an actual interlocking releasing position made by the interlocking releasing mechanism.例文帳に追加
連動解除装置が、連動解除過程の実行のために圧縮空気付勢によって移動させられ得る連動解除機構26と、連動解除機構の付勢のための圧縮空気の選択的な供給のための弁手段と、連動解除機構の実測連動解除ポジションの検知のための測定装置18′とをもっている。 - 特許庁
To provide a charged particle beam application inspection device and an inspection method capable of realizing a charge control technology having more excellent uniformity than hitherto, and having excellent inspection accuracy and length measurement accuracy, concerning the inspection method and the device using the charged particle beam for defect inspection at an optional part on an unfinished semiconductor wafer in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加
半導体装置製造過程での未完成な半導体ウェハ上の任意の部分における欠陥検査のための、荷電粒子ビームを使用した検査方法および装置に関し、従来よりも均一性に優れた帯電制御技術を実現し、検査精度、測長精度に優れた荷電粒子線応用検査装置、検査方法を提供する。 - 特許庁
This method of manufacturing a semiconductor device includes a process of arranging the resist film forming the alignment superposition measurement mark 11 nearly 200 μm or above, apart from the end 2A of an element forming region 2 formed adjacent to a scribe region 18, in an X direction in which the scribe region 18 formed on a semiconductor board 1 as a base is measured.例文帳に追加
開示される半導体装置の製造方法は、合わせ側の重ね合わせ計測マーク11を構成するレジスト膜を、下地である半導体基板1に形成したスクライブ領域18の計測方向であるX方向に沿って、スクライブ領域18に隣接して形成した素子形成領域2の端部2Aから略200μm以上離して配置する。 - 特許庁
Regarding this point, in order to eliminate an additional measurement step of measuring the workpiece 24, a control unit 18 is formed and programmed in such a method that comparison, between a position coordinates acquired by the control unit 18 after the distance compensation of the laser cutting head 22 is made and the reference coordinates stored in memory, is performed before the laser cutting process is started.例文帳に追加
この点に関して、被加工物24を測定する追加の測定ステップを避けるために、レーザ切断ヘッド22の距離補正後に制御ユニット18によって取得された位置座標とメモリに格納された基準位置座標との比較が、レーザ切断プロセスが開始される前に行われるような方法で、制御ユニット18が形成かつプログラムされる。 - 特許庁
To provide a calcium measurement method for obtaining a correct quantitative result of each luminescent color from each cell, and observing an expression process of gene derived by calcium and a subsequent aspect of a cell differentiation, after a change in a calcium ion concentration of the same cell has been observed temporally.例文帳に追加
各細胞から各発光色の正確な定量的結果を得ることができ、その結果、同一の細胞についてカルシウムイオン濃度の変化を経時的に観察した後に、カルシウムによって誘導される遺伝子の発現過程およびその後の細胞分化の様子を観察することができるカルシウム測定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In executing a filter process to measured data obtained on a measurement space of two or more dimensions, if the measured data includes invalid or unwanted data (S2), valid data obtained by removing the invalid or unnecessary data from the measured data are used to calculate replacement data for the invalid or unwanted data, and the invalid or unwanted data is replaced (S3) with the replacement data.例文帳に追加
二次元以上の測定空間上で得られた測定データに対してフィルタ処理を施す際、測定データに無効又は不要データが含まれている場合(S2)、測定データから無効又は不要データを除いた有効データを用いて無効又は不要データに対する置換データを算出し、無効又は不要データを置換データに置き換える(S3)。 - 特許庁
The support structure 30 is configured and arranged to support the transparent sheet 10 so that measurement error induced by the support structure 30 is viewed by the imaging device 80 as extending along or parallel to first axises 46 and 54 that is oblique to second axises 22 and 24 extending along which the process-induced features in the transparent sheet 10 extend when viewed by the imaging device.例文帳に追加
支持構造30は、支持構造30により誘起される測定誤差が、撮像装置80により、第一の軸46、54に沿って、またはこれに平行に延在して見えるように透明シート10を支持するように構成、配置され、第一の軸は、撮像装置から見たときに、透明シート10のプロセス誘起特徴がそれに沿って延在する第二の軸22、24に対して斜めである。 - 特許庁
To provide a substrate for process evaluation of an organic electroluminescent device in which evaluation of individual lighting and evaluation of whole lighting can be made using one substrate, and moreover, there is no fear of degradation of measurement accuracy even in case variations in characteristics in units of pixels exist, and man-hour and manufacturing cost for making a test substrate can be reduced.例文帳に追加
1つの基板を用いて、個別点灯の評価と全面点灯の評価とを評価することが可能であり、しかも、1画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がなく、さらに、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することが可能な有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を提供する。 - 特許庁
This polyimide film having high resistance to repeated flexing and high resistance to repeated twisting is obtained by the steps of: applying a polyamic acid being a precursor of polyimide including a benzoxazol structure to a substrate and drying it; and subsequently carrying out imidization using a process of performing tensile deformation between the crystallization onset temperature obtained by using high output X-ray diffraction and the 90% imidization-attaining temperature obtained by IR measurement.例文帳に追加
ベンゾオキサゾール構造を含むポリイミド前駆体であるポリアミド酸を、支持体に塗布乾燥後、高出力のX線回折を用いて得られる結晶化開始温度とIR測定から得られる90%イミド化率到達温度との間に引っ張り変形を行うプロセスを用いてイミド化処理することにより高い耐繰り返し屈曲、耐繰り返しひねり性を有するポリイミドフィルムを得る。 - 特許庁
The time interval analyzer includes a phase comparator 11 determining that a delay amount of the measured signal has is either positive delaying or negative delaying to a characteristic value and an operational circuit 13 outputting the result of division process consisting of the number of measured signal with positive delaying and the number of measured signal with negative delaying, as a result of measurement.例文帳に追加
本発明にかかるタイムインターバルアナライザは、被測定信号が特性値に対して正の遅延と負の遅延とのいずれの遅延量を有しているかを判定する位相比較器11と、正の遅延を有する被測定信号の個数と負の遅延を有する被測定信号の個数との除算結果を測定結果として出力する演算回路13と、を有するものである。 - 特許庁
A method of manufacturing the compound thermoelectric material comprises: a step of mixing powders of constituent elements at the measurement ratio corresponding to the chemical composition; a step of producing compound powder having the chemical composition by subjecting the powder mixture to a high-energy ball milling process or mechanical alloying; and a step of subjecting the produced compound powder to spark plasma sintering to harden and form the powder.例文帳に追加
この化合物熱電材料の製造方法は、上記化学組成に対応する計量比で各成分元素の粉末を配合し、配合された粉末混合物に高エネルギ・ボールミル過程または機械合金化を行うことにより上記化学組成の化合物粉末を生成し、生成された化合物粉末に放電プラズマ焼結を行なうことにより硬化成形する。 - 特許庁
To solve the problem of low productivity due to time taken for delivery and measurement of a wafer, requiring long hours of work by a skilled engineer, and requiring a positioning device even in a steady production process, owing to entirely manual teaching of a reference position at each port when initiating a conventional facility in a semiconductor manufacturing device having the positioning device and a carrying robot.例文帳に追加
位置決め装置と搬送ロボットとを具える半導体製造装置における従来の設備立ち上げの際の各ポートでの基準位置教示が全て手動で、熟練技術者による長時間作業が必要であり、定常生産工程でも位置決め装置が必要でウエハの受け渡し、測定と時間が掛かり生産性が低いという問題を解決することにある。 - 特許庁
A CPU operation time measurement process 12 adds up CPU operation times in reference to an operation history table 22 to calculate the total CPU operation time, reads the value of a drive counter 31 mounted on rental meter drive hardware 30 to wait until the value becomes 0, and writes the total CPU operation time into the drive counter 31 when the value of the drive counter 31 becomes 0.例文帳に追加
CPU稼働時間計測プロセス12は、動作履歴テーブル22を参照してCPU稼働時間を合計して総CPU稼働時間を算出し、レンタルメータ駆動ハードウェア30に実装されている駆動カウンタ31の値を読み出して値が0になるまで待ち合わせ、駆動カウンタ31の値が0になったときに総CPU稼働時間を駆動カウンタ31へ書き込む。 - 特許庁
In this inspection process, inspection is performed after confirming that the contact resistance of a lead terminal 15 of the sensor intermediate assembly 11 is at a level not to affect the abnormality detection and the measurement of characteristic information, so that accurate characteristic information on the detecting element 4 can be obtained to secure the detection accuracy of the completed NOx sensor 1.例文帳に追加
また、この検査工程においては、センサ中間組立体(11)のリード端子(15)の接触抵抗が検出素子(4)の異常検出や特性情報の測定に影響を与えないレベルにあることを確認した上で検査が行われるため、検出素子(4)について正確な特性情報を得ることができ、完成後のNOxセンサ(1)の検出精度を確保することができる。 - 特許庁
A polyimide film having excellent resistance to repeated flexing and resistance to repeated twisting is obtained by coating on a support a polyamide acid of a benzoxazole structure-containing polyimide precursor, drying, and performing imidation treatment by using a process for tensile deformation between the crystallization starting temperature obtained by using high output X-ray diffraction and the 90% imidation-attaining temperature obtained from IR measurement.例文帳に追加
ベンゾオキサゾール構造を含むポリイミド前駆体であるポリアミド酸を、支持体に塗布乾燥後、高出力のX線回折を用いて得られる結晶化開始温度とIR測定から得られる90%イミド化率到達温度との間に引っ張り変形を行うプロセスを用いてイミド化処理することにより高い耐繰り返し屈曲、耐繰り返しひねり性を有するポリイミドフィルムを得る。 - 特許庁
An optical communication system includes a plurality of optical transceivers for PON and a control circuit section capable of controlling all ONUs, connected to the optical transceivers for the PON, based on an administration table storing the information on the ONU grasped through a signal for a registration process or a propagation time measurement and a maintenance survey signal for each of the ONUs.例文帳に追加
本発明に係る光通信システムは、複数のPON用光トランシーバと、該PON用光トランシーバに接続される全てのONUについて、ONU毎に登録処理あるいは伝搬時間測定のための信号および保守監視信号を通して把握されたONUに関わる情報を記憶する管理テーブルに基づいて該全てのONUを制御可能な制御回路部と、を備える。 - 特許庁
A semiconductor circuit design support method includes: a step of calculating variation 102 of device characteristics, when process parameters are varied, by using a first model 22; a step of normalizing an error between the device characteristics calculated by using a second model 23 and an actual measurement value 21, based on the variation 102; and a step of analyzing the second model 23 using the normalized error by an arithmetic unit 11.例文帳に追加
本発明による半導体回路の設計支援方法は、第1モデル22を用いて、プロセスパラメータが変動したときのデバイス特性の変動量102を算出するステップと、第2モデル23を用いて算出されたデバイス特性と実測値21との誤差に対して、変動量102で規格化するステップと、演算装置11が、規格化された誤差を用いて第2モデル23に対する解析を行うステップとを具備する。 - 特許庁
This measuring device includes a process for reacting the solid phase having one or more insolubilized ligands thereon, and the marker ligand with the test material, and thereafter liberating or separating at least a part including marker material of the complex formed resultantly on the solid phase from the solid phase, to thereby reduce substantially the influence of measurement of a signal generated from the marker material by the solid phase.例文帳に追加
少なくとも1つのリガンドを固相上に不溶化させた固相、標識リガンド及び被検物質を反応させた後、その結果固相上に形成された複合体の標識物質を含む少なくとも一部を固相上から遊離・分離させる工程を含み、実質的に固相による標識物質からの発生するシグナルの測定の影響を軽減させる被験物質の測定方法。 - 特許庁
The method for recovering high-concentration hydrogen gas from coke oven gas generated in the process of producing coke by dry distillation of coal blend in a coke oven comprises continuously measuring at least the hydrogen concentration of the coke oven gas and, at a point when the measurement of the hydrogen concentration comes to 60% or higher or 90% or higher, recovering the coke oven gas.例文帳に追加
配合炭をコークス炉で乾留しコークスを製造する過程で発生したコークス炉ガスから高濃度水素ガスを回収する方法において、前記コークスを製造する過程で発生するコークス炉ガス中の少なくとも水素濃度を連続的に測定し、該水素濃度の測定値が60%以上、または90%以上となった時点で、前記コークス炉ガスを回収するコークス炉ガスからの高濃度水素ガスの回収方法。 - 特許庁
Specifically, whether the effects of value fluctuations, credit deterioration, natural disasters and other unfavorable situations on group financial institutions or the group as a whole are appropriately evaluated through a process for appropriately identifying risk concentrations of the group, a comprehensive risk measurement system, establishment of ceilings on large exposures and concentrations of other risks, stress testing, scenario analysis and correlation analysis processes. 例文帳に追加
具体的には、グループに集中するようなリスクを適切に特定するプロセス、包括的なリスク計測システム、大口のエクスポージャーとその他のリスクの集中を管理するための限度枠の設定、ストレステストやシナリオ分析、及び相関分析等のプロセスを通じ、市場価値の変動、信用度の低下、自然災害といった不利な事象が、グループ内の金融機関又はグループ全体に対して及ぼす影響を適切に評価しているか。 - 金融庁
Specifically, it defines risks by classifying them into strategic risk ("risk associated with business opportunities") and operational risk ("risk associated with the execution of business activities") and presents risk management through the following process: (i) Risk Detection and Identification; (ii) Risk Measurement; (iii) Risk Evaluation; (iv) Choosing Risk Treatment; (v) Evaluation of Remaining Risks; (vi) Policies Addressing Risks and Monitoring and Correction of Risk Treatment; and (vii) Evaluation and Correction of Effectiveness of Risk Management.例文帳に追加
具体的には、リスクを戦略リスク(「事業機会に関連するリスク」)とオペレーション・リスク(「事業活動の遂行に関連するリスク」)の2つに分類して定義した上で、①リスクの発見及び特定、②リスクの定量的算定、③リスクの定性的評価、④リスク対策の選択、⑤残留リスクの評価、⑥リスクへの対応方針及び対策のモニタリングと是正、⑦リスクマネジメントの有効性評価と是正、というプロセスによるリスク管理を提示している。 - 経済産業省
To provide a further improved ultraviolet sensing element whose manufacturing process is simple, capable of front surface irradiation without being provided with a buffer layer and capable of reliable ultraviolet sensing and measurement for obtaining the ultraviolet sensing element by using a gallium nitride (GaN) semiconductor element having various merits, and to provide its manufacturing method and an ultraviolet sensing system including the ultraviolet sensing element.例文帳に追加
多様な長所を有するガリウムナイトライド(GaN)半導体素子を用いて紫外線感知素子を具現するにおいて、緩衝層を含まなくて前面照射が可能であって、さらに信頼性のある紫外線感知及び測定が可能であり、その製作工程が単純で、さらに改善された紫外線感知素子及びこれの製造方法と紫外線感知素子を含む紫外線感知システムを提供する。 - 特許庁
To provide an abnormality determining method and its device which is capable of accurately determining abnormality on the basis of the detected value of oscillation measurement even under adverse conditions in which, for example, oscillations from an adjacent driving system are superimposed on a rotating equipment, which is an object of abnormality determination, and which enables even those who are not a special expert to process abnormality determination easily and highly accurately.例文帳に追加
異常判定対象の回転機器が,例えば隣接した駆動系からの振動がノイズとして重畳するといった悪条件下にある場合であっても,検出された振動測定値に基づいて正確に異常判定を行うことができ,また特別な熟練者でなくとも上記異常判定の処理を容易且つ高精度で行うことが可能な異常判定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
This rework measurement system is provided with: a rework instruction issuing terminal 10 for issuing rework instructions when reworking a product in the manufacturing process of a product; an operator input terminal 20 for registering the result of the rework; a database server 30 for managing the result information of the rework; and a manager terminal 40 for retrieving the database for every monitor item for monitoring the result information of the rework.例文帳に追加
製品の製造工程において、製品を手直しするリワーク工程が発生した際に、リワークの指図を発行するリワーク指図発行端末10と、リワークの実績を登録するための作業者入力端末20と、リワークの実績情報を管理するためのデータベースサーバ30と、リワークの実績情報を監視するために監視項目別に前記データベースを検索する管理者端末40とを有する。 - 特許庁
In the method of performing development using a two component developer for electrophotography composed of a toner and a magnetic carrier, the average charging amount of the toner Q/M[μC/g] is 40 to 60[μC/g], and the average adhesion force of the toner to the magnetic carrier lies in the range of 15 to 30[nN] in a measurement method using a centrifugal separation process.例文帳に追加
トナーと磁性キャリアから成る電子写真用二成分現像剤であって、該二成分現像剤を用いて現像する方法において、前記トナーのトナー平均帯電量Q/M[μC/g]として40[μC/g] 〜60[μC/g]であって、前記トナーの前記磁性キャリアに対するトナー平均付着力が遠心分離法を用いた測定法において15[nN]〜30[nN]の範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁
A pair of structures for relative position measurement formed from the first conductor and the second conductor in laminated wiring is formed in a first conductor pattern forming step for forming first wiring and a portion of second wiring and in a second conductor pattern forming step for forming the second wiring, respectively, and an overlapping state of the structures formed in each forming process is optically detected.例文帳に追加
積層型配線において、前記第1導体、および前記第2導体から形成される相対位置測定用の一対の構造体を、それぞれ第1配線および第2配線の一部を構成する第1導体パターンの形成工程、および第2配線を構成する第2導体パターンの形成工程で形成し、各形成工程で形成される構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
The diaminodiphenyl ether with stable high quality is produced in high yield by installing near infrared absorption spectroscopic arrangements and directly measuring compositions of the solution in etherification, hydrogen addition and distillation purification processes which allow the accurate measurement of the reaction condition and purification condition and continuous downloading of the results to a distributed process control system for automatic calculation and control.例文帳に追加
ジアミノジフェニルエーテルの製造プロセスに、近赤外線吸収スペクトル分光分析装置を設置し、エーテル化反応工程、水素添加反応工程、蒸留精製工程の各工程の溶液組成を直接測定することで、反応の状態や精製の状況が迅速、かつ正確に測定でき、更に得られた測定結果を分散型プロセス制御システムに連続的に取り込み自動演算、自動制御させることにより、安定した高純度品質を有するジアミノジフェニルエーテルが高収率で生産できる。 - 特許庁
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