| 意味 | 例文 |
Process Measurementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 792件
To reduce a measurement time and maintenance management manhours by preventing occurrence of unnecessary resource consumption and replacement expense due to replacement of a usable filament in a conventional device by properly predicting and determining disconnection and deformation of the filament of an electron beam source device, and confusion of a process due to a follow-up process in occurrence of sudden disconnection and deformation.例文帳に追加
電子線源装置フィラメントの断線・変形を的確に予測・判定し、従来の装置における使用可能なフィラメントの交換による不必要な資源消費および交換費用の発生ならびに、突然の断線や変形発生時の後追い処理による工程の混乱を防止し、測定時間、保守管理工数を低減する。 - 特許庁
In the electrostatic charge image developing toner including at least a colorant and a binder resin, a peak of thermally stimulated current value in at least the range of 60-100°C in a temperature up process is 0.001-1 pA, wherein the peak is measured by a contact process in which the toner is charged and measurement is performed while keeping the toner in contact with an electrode.例文帳に追加
少なくとも着色剤とバインダー樹脂を含む静電荷像現像用トナーにおいて、トナーを帯電させ、電極と接触させた状態で測定する接触法で測定した昇温過程における熱刺激電流値の少なくとも60〜100℃におけるピーク値が、0.001〜1pAであることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁
The fault supervisory system of a plasma processing apparatus is characterized in comprising a particle measuring means for measuring the amount of particle generated by the plasma process at the area near the plasma processing portion, and a fault detecting means for detecting the occurrence of the fault in the plasma process on the basis of the result of measurement by the particle measuring means.例文帳に追加
プラズマ処理装置の異常監視システムであって、プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。 - 特許庁
The method of measuring flatness comprises a depositing process in which the electrooptic panel for measurement, which comprises an electrooptic substance filled between a pair of substrates, on an object to be measured which needs flatness and an evaluating process in which the flatness of the object to be measured is indirectly evaluated by color unevenness of the electrooptic panel.例文帳に追加
平坦性を必要とする測定対象物上に、一対の基板に電気光学物質を封入してなる測定用電気光学パネルを配置する配置工程と、上記測定対象物の平坦度を、上記電気光学パネルの色むらで間接的に評価する評価工程と、を有することを特徴とする平坦度測定方法を提供する。 - 特許庁
This method for monitoring a plasma chamber includes steps of: measuring an optical characteristic of plasma generated in the plasma chamber including a window in a predetermined measurement wavelength band (S10); extracting a process status index from the measured optical characteristic (S30); and thereafter determining a state of the plasma chamber by analyzing the extracted process status index (S50).例文帳に追加
ウィンドウを有するプラズマチャンバ内に生成されるプラズマの光学的特性を所定の測定波長帯域で測定(S10)し、前記測定された光学的特性から工程状態指数を抽出(S30)した後、前記抽出された工程状態指数を分析(S50)して、前記プラズマチャンバの状態を判断するステップを含む。 - 特許庁
The terminal A includes a communicating part 8 and a processing part A6 which carries out processes for transmitting through the communicating part to the server B request information including predetermined data needed for inspection or measurement made by an image process for a product handled as the subject of inspection by a customer using the terminal A, and for receiving the image process program delivered from the server B.例文帳に追加
端末Aは、通信部8と、これを通じて、当該端末A側の顧客が扱う検査対象物としての製品に対する画像処理による検査または計測に必要な所定データを含むリクエスト情報をサーバBに送信するとともにそのサーバBから配信されてくる画像処理プログラムを受信する処理を行う処理部A6とを含む。 - 特許庁
This device is provide with a bar code reader 2 for inputting a bar code showing a work process, a display part 7 and a sound device 8 for outputting contents to be measured in the inputted work process, a key entry part 4 and a thermometer 3 for inputting data measured according to these measurement contents, and a storage part for storing the inputted measured data.例文帳に追加
作業工程を示すバーコードを入力するためのバーコードリーダ2と、入力された作業工程で測定する内容を出力する表示部7及び音声装置8と、その測定内容に従って測定したデータを入力するためのキー入力部4及び温度計3と、入力された測定データを記憶するための記憶部と、を具備する。 - 特許庁
To provide a fluid transfer device capable of high-precision which controls fluid transfer, as required, for advanced measurement hardware and easily forming a fluid transfer process of a control flow of the fluid transfer.例文帳に追加
本発明は、例えば高度な計測機器が必要とするような高精度な流体移送制御が可能であり、かつ、流体移送の制御フローである流体移送過程を容易に構築可能な流体移送装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
Furthermore, a process for selecting at least one of message recording technique on the client side and message recording technique on the server side based on the measurement of the system load, size of its threshold, network delay and size of its threshold is included in the switching method.例文帳に追加
さらに、この切り替え方法には、システム負荷とその閾値の大小及びネットワーク遅延とその閾値の大小の測定に基づき、クライアントサイドでのメッセージ記録手法とサーバサイドでのメッセージ記録手法の少なくとも一つを選択する過程が含まれる。 - 特許庁
The method includes a process for forming a transfer sheet 10 by controlling the coating conditions based on the continuous measurement of the film thickness of a coating layer to make the film thickness of the layer constant and to form the release layer 2 and the color layer 7 having a film thickness as designed.例文帳に追加
塗布層の連続した膜厚測定に基づき塗布条件を制御して塗布層の膜厚を一定なものとし、設計値どうりの膜厚の剥離層2、着色層7を形成する転写シート10形成工程を具備すること。 - 特許庁
The device tip position controller obtains information, such as the position of the device tip from a camera 148 and execute process, including initial measurement region split step, image processing step, verification step, redivision step, coordinate administration step and another reference measuring point selection step.例文帳に追加
デバイスチップ位置制御装置は、デバイスチップの位置等の情報をカメラ148から取得して、初期測定領域分割ステップ、画像処理ステップ、検定ステップ、再分割ステップ、座標管理ステップ及び別基準測定点選定ステップを含む処理を実行する。 - 特許庁
To provide a testing and adjusting method for a microwave semiconductor device which shortens the time for electric characteristic measurement and adjustment by eliminating a screw-fixing process and matches characteristics in the adjustment with characteristics after sealing by ensuring electromagnetic shielding.例文帳に追加
ネジ止め工程を無くして、電気特性測定及び調整の時間を短縮させるとともに、電磁気シールドを確実にして、調整時の特性と封止後の特性を一致させることを可能にするマイクロ波半導体装置の試験調整方法を得る。 - 特許庁
To stabilize dispersion of data collected by each cycle of charging and discharging, to determine more accurately the acceptability of products in measurement/inspection of initial quality, which is performed at the final step of the manufacturing process of an electric double-layer capacitor.例文帳に追加
電気二重層キャパシタの製造過程の最終段階で行われる初期性能の測定・検査において、製品の合否を正確に判定しやすくするため、充放電のサイクル毎に収集されるデータのバラツキを安定化させるようにする。 - 特許庁
In this control process, the control unit 20 controls so as to compensate for a measurement error in the air flow meter 33, with respect to a supply amount of the cathode gas which is obtained based on the amount of the moisture trapped in the cathode exhaust gas by the trapped-moisture-amount measuring unit 42.例文帳に追加
この制御処理において、制御部20は、捕水量計測部42がカソード排ガスからトラップした水分量から得られるカソードガスの供給量に対するエアフロメータ33の計測誤差が補償されるように制御する。 - 特許庁
The model parameter in the steel production process is corrected within a scope designated beforehand by using an optimizing method with restrictive conditions so that the result of calculations obtained with the above model is consistent with the result obtained from actual measurement data.例文帳に追加
鉄鋼プロセスのモデルのパラメータを制約条件付き最適化法を用いることで、予め指定した範囲内で、前記モデルによって得られる計算結果が実際に計測された実績データから得られる結果と一致するように修正する。 - 特許庁
To realize a high-speed light section line extracting process in a profile measurement using a mobile light-sectioning method, even in the case that an element being comparatively low in arithmetic capacity is used therefor, and to avoid any false extraction of the light section line due to influences of disturbance.例文帳に追加
比較的演算能力の低い素子でも移動式光切断法による形状測定において高速な光切断線抽出処理を実現でき,また,外乱の影響による光切断線の誤抽出を回避できること。 - 特許庁
To provide a sensor for determining the concentration of at least one gas component, particularly, an oxygen concentration in exhaust gas from a combustion process, preferably, in exhaust gas from an internal combustion engine, and an operation method of the sensor capable of attaining an increased measurement accuracy.例文帳に追加
少なくとも1つのガス成分の濃度、特に燃焼工程からの排気ガス内、好ましくは内燃機関からの排気ガス内の酸素濃度を決定するセンサ、および上昇された測定精度が達成可能な、センサの作動方法を提供する。 - 特許庁
For measurement, the output of a sample photodetector 9 is normalized by a process for division by the output of the monitor photodetector 10 to remove the influence of variation of the incident light (due to variance of the oscillation fluence of, specially, the laser light source 1).例文帳に追加
測定に際しては、サンプル受光器9の出力を、モニター受光器10の出力で割る等の処理により正規化し、入射光の変動(特にレーザー光源1の発振フルエンスの変動に起因するもの)の影響を除去する。 - 特許庁
To provide optical characteristics measuring equipment and method in which precision of measurement can be enhanced, and to provide an aligner capable of producing a substrate having an extremely fine pattern precisely, and a process for fabricating a device.例文帳に追加
光学特性の測定精度を向上を図ることのできる光学特性測定装置及び光学特性測定方法、極めて微細なパターンを有する基板を精度よく、歩留まりよく製造可能な露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an aggregation monitoring apparatus which can detect the state of particles in water to be tested being sampled in an aggregation process with high sensibility and a high ratio of SN and can minimize a measurement container containing the water to be tested.例文帳に追加
凝集処理工程からサンプリングされた検水中の粒子の状態を高SN比で高感度に検出することができ、同時に検水を収容する計測容器の小型化を図ることのできる凝集モニタ装置を提供する。 - 特許庁
The measuring instrument 111 comprises an I/O control part 117 to which a traffic gathering part 112, a filtering process part 113, a quality measurement part 114, a CPU 115, a memory 116, a monitor (display unit) 118, and a keyboard 119 are connected.例文帳に追加
計測装置111は、トラヒック収集部112,フィルタリング処理部113,品質測定部114,CPU115,メモリ116,およびモニタ(表示装置)118およびキーボード119を接続するI/O制御部117から構成される。 - 特許庁
A control part in a manufacturing line determines whether or not the outer tube part 111 is subjected to a phosphor application process based on the measurement (calculation) result and preset determination references (the length of a side: less than 0.3 mm; the distribution density: less than two/25 mm^2).例文帳に追加
この計測結果と予め設定された判定基準(辺の長さ:0.3mm未満、分布密度:2個/25mm^2以下)とから、製造ラインの制御部が当該外管部分111を蛍光体塗布工程に流すか否かを判定する。 - 特許庁
In this process, an interval parameter setting part 4 sets an interval parameter representing an interval between the target frame Frt and the past frame Frt-i in measurement of the motion vector for each area or each pixel on the target frame Frt.例文帳に追加
この際、間隔パラメータ設定部4が、対象フレームFrt上における領域毎または画素毎に、動きベクトルを計測する際の対象フレームFrtと過去フレームFrt−iとの間隔を表す間隔パラメータを設定する。 - 特許庁
To provide a viscoelasticity measuring tool and a viscoelasticity measurement method using it capable of continuously and accurately measuring a viscoelasticity of samples containing volatile ingredients in the process where the samples change due to volatilization, curing, etc.例文帳に追加
揮発成分を含む試料の粘弾性を揮発や硬化などの試料が変化する過程において連続的に精度よく測定することが可能な粘弾性測定用治具及びこれを用いた粘弾性測定方法を提供するものである。 - 特許庁
When the measurement value lowers than a set flow rate from the result of the arithmetic process, the flow rate of the sample water is maintained constant by providing a control signal from the controller 32 to the injection pump 11 to increase the set value of the pump 11.例文帳に追加
演算処理の結果により、流量計測値が設定流量値より低下したとき、コントローラ32から制御信号が試料水注入ポンプ11に与えられ、ポンプ11の設定値を上昇させて、試料水の流量を一定にする。 - 特許庁
The material during the operation is continuously fed in the form of a regulable stream controlled and/or adjusted by the measurement of different process variables during running, so that the flow, composition, and heat dissipation of combustible gases can be kept under control.例文帳に追加
作動中の前記材料が異なるプロセス変量の運転中の測定によって制御及び/又は調整されている調節可能な流れで連続して充填されるので、可燃ガスのフローと組成及び放熱が制御下に保たれる。 - 特許庁
A collector necessary to a conventional method using the ion beam for covering the substrate 8 and an electrode becomes unnecessary, whereby its measuring system can be made simple, and a measurement of the secondary electrons can be carried out in the deposition system, and a deposition process can be made stable.例文帳に追加
イオンビームを用いる従来法に必要であった基板8と電極とを覆うコレコタは不要なので、測定系をシンプルにすることができ、成膜装置内での2次電子の測定が可能となり、成膜工程の安定化を実現できる。 - 特許庁
Since data of the raising state by the size and the saccharinity are accumulated relative to the individual fruit in a process of measurement of the angle of rotation, not only saccharinity estimation of the individual fruit but also raising management such as determination or prediction of a harvest time or a shipping time are enabled.例文帳に追加
旋光度測定の過程で、個々の果実について、大きさおよび糖度による育成状況のデータが蓄積されるので、個別の果実の糖度推定だけでなく、収穫時期や出荷時期の判定・予測等の育成管理も可能となる。 - 特許庁
In an interval determining process, as a shim thickness is determined based on the measurement value, errors in the valve operating angle for each cylinder or in the valve operating angles among cylinders are suppressed to enable the adjustment of the variable valve train allowing highly accurate valve control.例文帳に追加
間隔決定工程ではこの測定値に基づいてシムの厚さを決定するので、バルブ作用角における気筒毎及び気筒間の誤差を抑制して高精度なバルブ制御を可能とする可変動弁機構の調整が可能となる。 - 特許庁
A storage part 8 storing sampling data Dv, Di of two measurement signals Si, Sv output from the multiplexer 5 in the predetermined order and a process part 7 calculating interpolation data Dc as interpolation value of measurement signal Si at a predetermined time different from sampling time of the sampling data Di by interpolating the sampling data Di stored in the storage part 8 are provided.例文帳に追加
マルチプレクサ5から所定の順序で出力される2つの測定信号Sv,SiのサンプリングデータDv,Diを記憶する記憶部8と、記憶部8に記憶されているサンプリングデータDiを補間してサンプリングデータDiについてのサンプリング時刻とは異なる所定時刻における測定信号Siの補間値として補間データDcを算出する処理部7とを備えている。 - 特許庁
In the wafer test process, a test time criterion value is calculated from test time achievements in the past for each product and each measurement conditions, and actual test time is compared with the criterion value for every notice of wafer end from a device such as a tester thus performing GO/NO-GO test.例文帳に追加
ウエハのテスト工程にて、各製品毎、測定条件毎の過去のテスト時間実績からテスト時間判定基準値を算出し、テスタ等の装置からのウエハ終了通知毎に、実際のテスト時間と、判定基準値とを比較し良否判定を行う。 - 特許庁
An operation planning part 6 calculates a device start and stop plan per unit time on the day on the basis of the quantity demanded per unit time for one day predicted by the demand predicting part 5 and the measurement value of the process with a genetic algorithm encoded by an integer gene.例文帳に追加
運用計画部6は、需要予測部5が予測した単位時間あたりの1日分需要量とプロセスの計測値に基づいて該当日の単位時間あたりの機器起動停止計画を整数値遺伝子でコード化した遺伝的アルゴリズムで演算する。 - 特許庁
In processes for sorting the power of Brillouin scattered light measured on each of measurement points along a sensing optical fiber, by using the frequency of light as a variable, the power of Brillouin back scattered light is measured by using triangular incident pulse beam (first process).例文帳に追加
センシング用光ファイバに沿った各計測点について、光周波数を変数として計測されたブリルアン散乱光のパワーをソートする工程において、ブリルアン後方散乱光のパワーは、三角形入射パルス光を用いて計測される(第1工程)。 - 特許庁
To provide a method and a device capable of performing measurement in a plurality of temperature zones by a mechanism for measuring only a detection object without being influenced by a temperature, omitting a process for cleaning or the like, and measuring intermolecular interaction more simply with high accuracy.例文帳に追加
温度の影響を受けず、かつ検出対象のみを測定する機構により、複数の温度域での測定が可能で、洗浄等の工程を省略できる、より簡便で高精度に分子間相互作用を測定する方法および装置を提供すること。 - 特許庁
To solve the problem that the detection result of a displacement amount becomes discontinuous, because if two capacitors which change in static capacitances depending on the displacement of a measurement object are charged with DC, a process to convert the difference of charge amounts of the two capacitors into voltage is necessitated.例文帳に追加
被測定物の変位に応じて静電容量が変化する2つのコンデンサを直流で充電すると、それら2つのコンデンサの電荷量差分を電圧に変換する工程が必要になるので、変位量の検出結果が不連続になってしまう。 - 特許庁
To provide a temperature measuring resistor input device, which shortens the time necessary for detecting a breakage of a multi-wire type temperature measuring resistor or a disconnection of each connection wire, and makes the measurement result into a wave form suitable for a burn up or burn down process, when the disconnection arises.例文帳に追加
測温抵抗体入力装置の多線式測温抵抗体の破損または各接続線の断線検出に要する時間を短縮する機能を持たせると共に、断線時等の測定結果を、バーンアップ、バーンダウン処理に適した波形にする。 - 特許庁
To provide a magnetic tape cassette capable of simply measuring the perpendicularity of a roller shaft and of stably transporting the magnetic tape, and provide a guide roller support structure and a roller shaft inclination measuring method capable of simplifying the measurement/inspection process of the perpendicularity of the roller shaft.例文帳に追加
ローラ軸の垂直度を簡単に測定できる磁気テープカセット、磁気テープを安定して走行させることができる磁気テープカセット、及び、ローラ軸の垂直度の測定検査工程を簡略できるガイドローラ支持構造並びにローラ軸傾斜計測方法を提供する。 - 特許庁
To provide a heat treatment apparatus that has a temperature detection means installed outside a reaction chamber so as to prevent a process gas from contacting the temperature detection means to form a film and improve reliability and reproduction of a measurement value of the temperature detection means.例文帳に追加
温度検出手段を反応室の外部に設けたことで、処理ガスが前記温度検出手段に接触し、成膜されるのを防止し、前記温度検出手段の測定値の信頼性及び再現性の向上を図る熱処理装置を提供する。 - 特許庁
A measurement is made when the transmitter is exposed to a high pressure for instance in a cleaning process, and then the value is compared with the value in the storage for detecting anomalies, such as damage or deformation of the diaphragm.例文帳に追加
高圧が印可され、かつ圧力伝送器が正常であるときの圧力測定値を記憶部に保存しておき、洗浄などで高圧がかかったときに、そのときの圧力測定値と保存された値を比較してダイヤフラムの破損・変形などの異常を判定するようにした。 - 特許庁
Through transfer data form judgment 53, it is judged, from the measurement results, which of an RGB image data command and a CMYKcm binarized image data command completes a process in a shorter time and the judgment result is stored by the print conditions in a result storage part 52.例文帳に追加
転送データ形態判断53は、計測結果に基づいて、RGBイメージデータ・コマンドとCMYKcm二値化イメージデータ・コマンドとのうち、いずれのコマンドの方が短時間で処理できるかを判断し、この判断結果を印刷条件毎に結果記憶部52に記憶する。 - 特許庁
A section 18 of computing compensation movement amount computes a compensating movement amount in the subscanning direction 9 of the process processing section 3, based on a newly measured displacement or displacement stored beforehand based on the determination of the section 17 of determining the need for displacement measurement.例文帳に追加
補正移動量算出部18は、ずれ量計測要否判断部17の判断に基づいて、新たに計測されたずれ量または予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部3の副走査方向9の補正移動量を算出する。 - 特許庁
In the substrate-treating device for performing a series of treatment processes to a substrate, an optical sensor as a mass measurement means is mounted to a holding arm 100a (100b) in main conveyance mechanisms 10A, 10B, 10C, 10D, 10E for delivering the substrate to a treatment unit for performing each treatment process.例文帳に追加
基板に対して一連の処理プロセスを行う基板処理装置において、各処理プロセスを行う処理部に対して基板の受け渡しを行う主搬送機構10A,10B,10C,10D,10Eの保持アーム100a(100b)に質量測定手段として光学式センサーを取り付ける。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a multi-axis angular velocity sensor unit detecting angular velocities corresponding to respective three-axis orthogonal to each other, and to increase productivity by simplifying a measurement process of a detection level in the multi-axis angular velocity sensor unit.例文帳に追加
本発明は、互いに直交する3軸に対応する角速度をそれぞれ検出する多軸角速度センサユニットの製造方法に関し、多軸角速度センサユニットにおける検出レベルの測定工程を簡略化し生産性を高めることを目的とする。 - 特許庁
METHOD FOR MANAGING SIGNAL MEASUREMENTS IN WIRELESS NETWORK, STATION ADAPTED TO COOPERATE WITH CENTRALIZED MEASUREMENT MANAGER UNIT, CENTRALIZED MANAGEMENT UNIT ADAPTED TO PROCESS MEASUREMENTS IN THE WIRELESS NETWORK AND SYSTEM FOR MANAGING MEASUREMENTS IN THE WIRELESS NETWORK例文帳に追加
無線ネットワークにおいて信号測定を管理する方法、集中測定マネージャユニットと協働するように適合された局、無線ネットワークにおいて測定を処理するために適合された集中測定マネージャユニット、及び無線ネットワークにおいて測定を管理するシステム - 特許庁
A measuring method of remaining austenite volume in the invention that includes a step for using an eddy-current measuring device to measure a remaining austenite volume contained in a test object realizes online and low-cost measurement within a manufacturing process of the test object.例文帳に追加
本発明の残留オーステナイト量の測定方法によれば、被検体に含まれる残留オーステナイト量を渦電流方式の測定装置を用いて測定することができるため、該被検体の製造工程内においてオンラインで安価に測定することができる。 - 特許庁
That is, the small patches normally used only for registration measurement are also used for xerographic process control measurements, thereby eliminating the need for large patches and obtaining registration information and color control information at the same time.例文帳に追加
すなわち、通常はレジストレーションの測定にだけ使用されていた小さいパッチが、電子写真式プロセス制御の測定にも使用され、それによって大きいパッチの必要性を排除するとともに、レジストレーション情報およびカラー制御情報を同時に獲得することになる。 - 特許庁
One of several spectrum parameters of the laser pulse are specifically modified in order to process the material, or during the processing according to, preferably, a measurement processing parameter.例文帳に追加
本発明によれば、レーザ・パルスの1つまたは数個のスペクトル・パラメータ、即ち、スペクトル振幅および/またはスペクトル位相および/またはそのスペクトル偏波を、好ましくは測定加工変数に応じて、材料を加工するために、あるいは前記加工の実行の間に、特定的に改変する。 - 特許庁
To verify stability of an analogue circuit and to secure quality in the mass-production process, wherein waveform measurement and failure analysis of the analogue circuit, being difficult so far, are automatically performed for quicker and easier testing of the analogue circuit.例文帳に追加
従来は困難であったアナログ回路の波形測定及び不良解析を自動的に実現可能とすることで、アナログ回路の試験が短時間で且つ容易に行うことを可能とし、アナログ回路の安定性の検証及び大量生産工程での品質確保を図る。 - 特許庁
The pH measuring unit 2B measures the pH of the ultrapure water, which shows a known pH level, within a given time by the start of the next board processing in a process tank 19, and puts a detected signal indicating pH measurement into the controller 16.例文帳に追加
pH計測部2Bは、処理槽19において次の基板処理が開始されるまでの所定の時間内に、既知のpH値を示す上記超純水のpH値を計測し、この計測したpH値を表す検出信号をコントローラ16に入力する。 - 特許庁
To provide a process cartridge, an electrophotographic image forming device, a developing device, a developer amount detecting device, and a developer amount detecting member which can detect the rest of a developer in a developer container continuously at low cost while suppressing variance in measurement error and detected value.例文帳に追加
測定誤差及び検出値のバラツキを抑え、低コストで、現像剤容器内の現像剤残量を逐次検知することができるプロセスカートリッジ、電子写真画像形成装置、現像装置、現像剤量検出装置及び現像剤量検出部材を提供する。 - 特許庁
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