| 意味 | 例文 |
Process Measurementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 792件
Moreover, the analysis process conditions are edited on the basis of the measurement conditions in the identification information by the identification information determining part 24 and they are set with respect to the corresponding analysis process of a signal analysis process executing part 26.例文帳に追加
更に、識別情報判定部24にて識別情報中の測定条件に基づいて解析処理条件を編集し、信号解析処理実行部26の該当する解析処理に対して設定する。 - 特許庁
Normality/abnormality determination of cranking torque in the subsequent process is quantitatively performed for predictive determination by means of a Mahalanobis-Taguchi system that is a statistic method using a measurement value of bore diameter in a honing process of the preceding process.例文帳に追加
後工程のクランキングトルクの正常異常の判定を、前工程のホーニング加工工程のボア径の測定値を使用して、統計的手法であるマハラノビス−タグチシステムを利用して、定量的に予測判定を行う。 - 特許庁
A single quick-close type sensing component manufacturing process and temperature-changing photoelectric quantity measurement verification are performed, and hereby the epitaxial completes low-temperature temperature change and transformation measurement calibration of the sensing component.例文帳に追加
単乙型感知部品製造工程と変温光電量測定検証を行い、これによりエピタキシャルは感知部品の低温変温と変圧測定校正を完成する。 - 特許庁
MEASUREMENT OF PRESSURE IN PLASMA ETCHING CHAMBER IN SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING PROCESS AND SYNCHRONOUS MEASUREMENT OF BOTH OF PRESSURE THEREIN AND EFFICIENCY OF ETCHING例文帳に追加
半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ—の圧力の測定方法と半導体装置製造プロセスにおけるプラズマエッチングチャンバ—の圧力とエッチング効率との両者の同期測定方法 - 特許庁
To provide an instrument for the topographic measurement of an eye structure based on short coherence interference measurement without causing any measuring error of the structure due to longitudinal and lateral motions of the eyes in a signal recording process.例文帳に追加
信号記録過程における縦方向および横方向の眼の動きによる構造の測定誤差を惹き起こさない短コヒーレンス干渉測定に基づく眼構造のトポグラフィック測定 - 特許庁
After impedance is measured and the end of the measurement is reported (S1-7), the process of registration and renewal in a split memory area for recognizing impedance in-day fluctuation correction corresponding to the current measurement is performed (S8).例文帳に追加
インピーダンス計測,終了報知の後(ステップ1〜7)、今回の計測値の対応するインピーダンス日内変動補正認識用分割メモリエリアへの登録,更新処理を行う(ステップ8)。 - 特許庁
To provide a signal recording/analyzing system capable of carrying out efficient signal analysis by automatically identifying the type of a measurement signal recorded in each track of a magnetic tape, and automatically setting an analysis process and analysis process conditions necessary for the measurement signal.例文帳に追加
磁気テープの各トラックに記録された測定信号の種類を自動識別し、その測定信号に必要な解析処理及び解析処理条件を自動設定して、効率の良い信号解析が実施できる信号記録/解析システムを提供する。 - 特許庁
Are systems developed for the purpose of keeping records for future reference on the review process with regard to the selection of the integrated risk measurement technique and the assumptions thereof and the grounds for the selection process in order to enable follow-up verification and utilize the records to make the measurement more sophisticated and elaborated? 例文帳に追加
統合リスク計測手法、前提条件等を選択する際の検討過程及び決定根拠について、事後の検証や計測の精緻化・高度化のために必要な記録等を保存し、継承できる態勢を整備しているか。 - 金融庁
Is there a system to keep records, for future reference, on the review process with regard to the selection of operational risk measurement technique and the assumptions thereof and the grounds for the selection process, in order to enable a follow-up review and utilize the records to make the measurement more sophisticated and elaborated? 例文帳に追加
オペレーショナル・リスク計量手法、前提条件等を選択する際の検討過程及び決定根拠について、事後の検証や計量の精緻化・高度化のために必要な記録等を保存し、継承できる態勢を整備しているか。 - 金融庁
Thereafter, a process for determining degree of allowance of measurement values at the present moment to the measurement values at the first time of teaching operation and a process for displaying the calculated degree of allowance on the display portion 21 are repeated until a second time of teaching operation will be conducted.例文帳に追加
この後は、2回目の教示操作が行われるまで、1回目の教示操作時点での測定値に対する現時点の測定値の余裕度を求める処理と、算出した余裕度を表示部21に表示する処理とを繰り返す。 - 特許庁
The measurement process part is provided with a plurality of measurement mode with different calculation methods for calculating the peak position or position of the center of gravity and extracts (#103) feature amount such as width of the peak part and selects an appropriate measurement mode (#104-#108) corresponding to the feature amount.例文帳に追加
計測処理部は、ピーク位置又は重心位置の算出方法が異なる複数の計測モードを有し、受光波形の山部の幅のような特徴量を抽出し(#103)、その特徴量に応じて適切な計測モードを選択する(#104〜#108)。 - 特許庁
Process to measure engine torque with gradually changing injection timing in vicinities of an upper and a lower limit value of the measurement range is repeated, and the measurement range of injection timing is corrected to a range maintaining a good combustion condition based on the measurement results.例文帳に追加
更に、この計測範囲の上下限値付近で噴射時期を少しずつ変化させてエンジントルクを計測する処理を繰り返し、その計測結果に基づいて噴射時期の計測範囲を燃焼状態が良好となる範囲に修正する。 - 特許庁
In the same process as that of the pixel transistors, a plurality of transistors 302,..., 302 for measurement are formed, and these are connected in parallel.例文帳に追加
画素用トランジスタと同一プロセスにおいて、複数の測定用トランジスタ302,……,302を形成し、これらを並列接続した。 - 特許庁
To provide an automatic analyzer, and a measurement method for simplifying a constitution, and implementing an analysis process of a plurality of items.例文帳に追加
簡易な構成で複数項目の分析処理を行うことが可能な自動分析装置および測定方法を提供すること。 - 特許庁
To manufacture a composite thin film magnetic head having high quality while performing the measurement for inspecting the defect in the course of the manufacturing process.例文帳に追加
製造工程の途中にて欠陥検査のための測定を行いながら、高品質の複合型薄膜磁気ヘッドを作製する。 - 特許庁
The same process can be executed using a fixed resistor R_1 connected in series to a sensor resistor R_S as a resistor for temperature measurement.例文帳に追加
センサ抵抗R_S に直列に接続された固定抵抗R_1 を温度測定用抵抗として同様な処理をしてもよい。 - 特許庁
To facilitate high-precision measurement of a V-groove by simplifying the method for measuring the V-groove as well as an etching process.例文帳に追加
エッチングプロセスを簡素化すると共に、V溝の測定方法を簡素化してV溝の高精度測定が容易になるようにする。 - 特許庁
A performance monitoring tool (160) detects a state of the present system process and provides the mapping module (150) with measurement data (170).例文帳に追加
パフォーマンス監視ツール(160)は、現在のシステムプロセスの状態を検出し、前記マッピングモジュール(150)に対し測定データ(170)を提供する。 - 特許庁
To initiate MDT only when a target mobile station UE is allowed to perform an MDT measurement process.例文帳に追加
対象移動局UEに対してMDT測定処理を行わせることが承諾されている場合にのみ、MDTを開始する。 - 特許庁
Information for detection output of the detection means under the process line speed of the second image forming apparatus obtained from the measurement result is stored.例文帳に追加
その測定結果から得た第2画像形成装置のプロセス線速下での検知手段の検知出力の情報を記憶する。 - 特許庁
The measurement apparatus is applicable to, for example, a personal authentication process of the subject based on the electrocardiographic waveform signals.例文帳に追加
この測定装置は、例えば、心電波形信号に基づいて被測定者の個人認証処理を行う場合に適用できる。 - 特許庁
A mobile station UE is provided with a measurement unit 22 which is so configured as to perform measurement process based on predetermined information and a reporting unit 23 which is so configured as to report in a random access procedure a measurement result measured by the measurement unit 22, to a wireless base station eNB.例文帳に追加
本発明に係る移動局UEは、所定情報に基づく測定処理を行うように構成されている測定部22と、ランダムアクセス手順において、無線基地局eNBに対して、測定部22によって測定された測定結果を報告するように構成されている報告部23とを具備する。 - 特許庁
A distortion eliminating conversion process part 34 performs a correcting process for distortion elimination as to image data for measurement according to the conversion parameters stored in the conversion parameter storage part 33.例文帳に追加
歪解消変換処理部34は、変換パラメータ記憶部33に記憶された変換パラメータに基づいて、計測用の画像データに対して歪解消用の補正処理を施す。 - 特許庁
To provide a system and method for manufacturing a workpiece by computer control, capable of performing a program change into a new processing process and measurement process, simpler than a conventional technique.例文帳に追加
従来技術におけるよりも簡単な、新しい加工工程および測定工程へのプログラム変更を可能にする、被加工物をコンピュータ制御で製造するシステムと方法を提供する。 - 特許庁
In this measurement, a process irradiating a samples including oocysts of Cryptosporidium with ultrasonic waves for 10-15 seconds and a process cooling the irradiated samples in the low temperature area for 10-20 seconds are alternately repeated.例文帳に追加
クリプトスポリジウムのオウシストを含む試料に、超音波を所定時間照射する工程と、超音波照射後に低温部において所定時間冷却する工程とを交互に繰り返す。 - 特許庁
To provide a surface plasmon measuring technology to be incorporated in a process line and capable of performing the specific high-sensitivity in-line measurement of a particular substance in fluid having passed a preceding process.例文帳に追加
プロセスライン上に組み込んで、前のプロセスを通過した流体内の特定の物質を特異的、高感度にインラインで計測可能な表面プラズモン測定技術を提供する。 - 特許庁
The Qos factor measurement value of an application process is determined and compared with first and second QoS factor thresholds when the application process accesses a first storage tier of the storage system (402, 404, 406).例文帳に追加
ストレージ・システムの第1のストレージ階層へのアクセス時に、アプリケーション・プロセスのQoSファクタ測定値を決定して第1及び第2のQoSファクタ閾値と比較する(402、404、406)。 - 特許庁
It includes measurement of a thickness A of the semiconductor wafer before the epitaxial growth process, measurement of a thickness B of the epitaxial wafer obtained after the epitaxial growth process and calculation of the thickness of the epitaxial layer as a difference (B-A) between the thickness B and the thickness A.例文帳に追加
エピタキシャル成長工程前に半導体ウェーハの厚みAを測定すること、エピタキシャル成長工程後に得られたエピタキシャルウェーハの厚みBを測定すること、前記厚みBと厚みAとの差分(B−A)として、エピタキシャル層の厚みを算出することを含む。 - 特許庁
A measurement data stack is disposed in the same or a different process device and operates to receive/store a response or measurement signal generated by the process device along with a time stamp indicating the time when the response signal was generated or detected.例文帳に追加
測定データスタックは、同一のまたは異なるプロセスデバイスに配置され、プロセスデバイスにより生成された応答信号または測定信号とともにその応答信号が生成されたまたは検出された時間を示すタイムスタンプを受信・格納すべく動作する。 - 特許庁
After pH, total ammonia, total VFA (total volatile organic acid), etc., are measured by a measuring process 1, free ammonia, nonelectrolytic VFA, etc., are calculated based on the measurement of the measuring process 1 by a calculating process 2 and the volume load of organic materials is limited by a load range limiting process 3.例文帳に追加
pH、全アンモニア、全VFA(全揮発性有機酸)などを測定工程1で測定した後、この測定工程1の測定に基づいて、遊離アンモニアおよび非電離VFAなどを算出工程2で算出するとともに、有機物容積負荷を負荷範囲限定工程3で限定する。 - 特許庁
To provide a method of measuring a target nucleic acid in a test sample which permits the high sensitive measurement by accompanying with the amplification of the target nucleic acid in the process of the measurement without previously amplifying the target nucleic acid.例文帳に追加
標的核酸を増幅することなく、測定方法の中で核酸の増幅を伴うことにより高感度な測定が可能な被検試料中の標的核酸の測定方法の提供。 - 特許庁
To provide a factor analysis device allowing easy acquisition of relation between measurement items even when not having knowledge of a product produced through measurement of a large number of items in a production process.例文帳に追加
製造工程において多数の項目測定を経て製造される製造物について、製造物の知識がない場合でも測定項目間の関係を容易に把握できる要因分析装置を提供する。 - 特許庁
To provide a three-dimensional measuring device which carries out a three-dimensional measurement of an object to be measured by using a CCD camera and a range finder, and recognizes the unknown object to be measured with good measurement accuracy in a quick process.例文帳に追加
CCDカメラとレンジファインダを用いて計測対象物の3次元計測を行い、未知の計測対象物を早い処理で、計測精度良く認識する3次元計測装置を提供する。 - 特許庁
A bioinformation processor 2 stores bioinformation 22a acquired from bioinformation detection device 1, a measurement portion 22b for executing a measuring process, and measurement information 22c in a storage section 22.例文帳に追加
生体情報処理装置2において、生体情報検出装置1から取得した生体情報22a、測定処理を行う測定部22b及び測定情報22cを記憶部22に記憶する。 - 特許庁
Regarding a Financial Instruments Business Operator using an internal control model-based approach, supervisors shall annually check the results of external audits of the risk measurement process and the risk measurement model used in the previous year. 例文帳に追加
内部管理モデル方式を利用している金融商品取引業者に対しては、毎年、前年度におけるリスクの計測の過程及びリスク計測モデルに係る外部監査の結果を確認するものとする。 - 金融庁
A scanning speed and a focus measurement position are determined from process conditions and the like (step 1), a threshold Δ is determined based on the scanning speed (step 2), and focus measurement is executed (step 4) when the stage position is within the range of the threshold Δ at the focus measurement position.例文帳に追加
プロセス条件等から走査速度及びフォーカス計測位置を決定し(ステップ1)、この走査速度に基づいて閾値Δを決定し(ステップ2)、ステージ位置がこのフォーカス計測位置の閾値Δの範囲内にあるときに、フォーカス計測を実行する(ステップ4)。 - 特許庁
To provide a process measurement control system maintenance and inspection device capable of making drastically efficient realization of maintenance and inspection work.例文帳に追加
保守点検作業の大幅な効率化を実現することができるプロセス計測制御システム保守点検装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a wafer type temperature sensor where the measuring process of temperature can be automated and the accuracy of measurement will not degrade, even at a high temperature.例文帳に追加
温度の測定工程を自動化することができ、かつ、高温中でも測定精度が劣化しないウェハ型温度センサを提供する。 - 特許庁
To solve the following problem: if measuring instrument has a high resolution, a process of determining measurement parameters of a reference source having a high resolution can be quite expensive.例文帳に追加
測定機器が高分解能だと、一層高い分解能の基準ソースの測定パラメータを決定する処理が非常に高価となる。 - 特許庁
To provide an inverse multiplex process control system for an optical back plane unit that can adjust timing without the need for measurement at a high bandwidth.例文帳に追加
高帯域幅での測定の必要なしにタイミングを調整出来る、光バックプレイン装置の逆多重化プロセス制御システムの提供。 - 特許庁
A control part 21 of the computer 5 performs the process etc. for reducing the noise of the measurement results stored in a memory part 22 (Step 104).例文帳に追加
次に、コンピュータ5の制御部21は、記憶部22に記憶した計測結果のノイズを低減させる処理等を行う(ステップ104)。 - 特許庁
Preferably, the determination method also includes a measurement process for measuring expression level of GSTπ in the biological sample.例文帳に追加
また、上記判定方法は、上記生体試料中のGSTπの発現量を測定する測定工程を有することが好ましい。 - 特許庁
To provide a measurement method of accurately measuring rate of reduction of chrome in a process of reducing trivalent chrome to divalent chrome.例文帳に追加
3価クロムを2価クロムに還元する工程において、クロムの還元率を正確に測定することができる測定方法を提供する。 - 特許庁
The film thickness measurement of the bare wafer resist-coated in the coating treatment unit SC is performed in the inspection unit 11 after prebaking process.例文帳に追加
塗布処理ユニットSCにおいてレジスト塗布されたベアウエハはプリベーク処理後、検査ユニット11において膜厚測定が行われる。 - 特許庁
In this case, a particle measurement result acquired by measuring particles in the process gas can be used as a determination reference for switching the channel.例文帳に追加
その際、プロセスガス中のパーティクルを計測するパーティクル測定結果を流路切換えの判定基準として用いることができる。 - 特許庁
To provide a wafer type temperature sensor capable of automating a temperature measuring process, and preventing deterioration of measurement accuracy even at high temperatures.例文帳に追加
温度の測定工程を自動化することができ、かつ、高温中でも測定精度が劣化しないウェハ型温度センサを提供する。 - 特許庁
A synthetic receptacle (60) is composed so as to process the converted pressure measurement signal to a continuous audio signal showing tension.例文帳に追加
合成器(60)が、変換された圧力測定信号を圧力を表わす連続的な音声信号に処理するように構成されている。 - 特許庁
It is thus possible to inhibit sample contamination and suppress the occurrence of defects in a process following measurement of the samples.例文帳に追加
これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。 - 特許庁
Particularly, in the step S6, a process is performed determining positions of the monocline structure in relation to measurement points where measured values change.例文帳に追加
特に、ステップS6において、測定値が変化する測定ポイントに関連づけて地山の単斜構造の位置を求める処理を行う。 - 特許庁
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