「Process Measurement」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical measuring part with excellent measurement process speed and measurement precision, a member for optical measuring, and a micro particle measuring device arranged therewith.例文帳に追加

優れた測定処理速度及び測定精度を備える光学測定部及び光学検出用部材、並びにこれらを配設した微小粒子測定装置の提供。 - 特許庁

In the electronic clock, rate pulses are outputted from a data transmission means in a rate measurement mode, and a rate measurement signal is transmitted from a motor coil (S5A: data transmission process).例文帳に追加

電子時計は、歩度測定モードにおいて、データ送信手段から歩度パルスが出力され、モータコイルから歩度測定信号が送信される（Ｓ５Ａ：データ送信工程）。 - 特許庁

The measurement of a displacement on the above weld zone surface 8a is repeated several times for the same area, arithmetic addition of this measurement result is utilized for imaging process.例文帳に追加

上記溶接部表面８ａの変位の測定は、同一箇所に対して複数回繰り返し、この測定結果を加算演算して画像化処理に利用する。 - 特許庁

A section 17 for determining need for a displacement measurement determines the presence of displacement measurement of an actual position to a target position of a process processing section 3 in the subscanning direction 9.例文帳に追加

ずれ量計測要否判断部１７で、副走査方向９への工程処理部３の目標位置に対する実際の位置のずれ量の計測の有無を判断する。 - 特許庁

To provide a method of setting measurement and inspection conditions which enables setting of high-precision measurement and inspection conditions irrespective of process variations and to provide a computer program.例文帳に追加

本発明は、プロセス変動に依らず、高精度な測定，検査条件の設定を可能とする測定，検査条件設定方法、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide the process to simplify the operation of MR tomography and to reduce substantial amount of involvement of operators during measurement processes.例文帳に追加

ＭＲトモグラフィ装置の作動を簡単化し、かつ測定経過中のオペレータの関与を大幅に不要にする。 - 特許庁

To efficiently process a solid material separation treatment system by making possible a floc strength measurement.例文帳に追加

フロック強度を測定可能にして固形物分離処理システムの処理を効率的に行うことを課題とする。 - 特許庁

After storing a time measurement initiation time, a timer 20 once releases a CPU so that the CPU performs other process.例文帳に追加

時間計測開始時刻を記憶した後、タイマーは一旦ＣＰＵを解放して、ＣＰＵは他の処理を行う。 - 特許庁

If the lock signal is not detected when the decrease in the multiplication ratio is performed predetermined times, the process goes back to the magnification measurement.例文帳に追加

それを所定回数行ってもロック信号が検出されない場合は，倍率測定からやり直す。 - 特許庁

A process in which an input vector is allocated to a cluster is on the basis of minimum distance measurement for plural prototype vectors.例文帳に追加

入力ベクトルをクラスタに割当てるプロセスは、複数のプロトタイプベクトルに対する最小距離測定に基づく。 - 特許庁

A device 200 to be measured is provided with a function which outputs a pulse according to the start of a measurement target process.例文帳に追加

測定対象装置２００は、測定ターゲットプロセスの起動に応じてパルスを出力する機能を備えている。 - 特許庁

In the measurement process, an impact load is measured per material of different test skin member 11.例文帳に追加

次いで、測定工程により、材料種の異なる試験用表皮部材１１毎に衝撃荷重を測定する。 - 特許庁

The heat treatment conditions are decided based on measurement values of the line width measured in the first line width measuring process.例文帳に追加

第１の線幅測定工程で測定した線幅の測定値に基づいて熱処理条件を決定する。 - 特許庁

To provide an exposure device accurately performing exposure processing and measurement processing based on liquid immersion process.例文帳に追加

液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

A substrate processing device 103 is connected in common to process chambers 104A-104D and a measurement process chamber 400, and comprises a common transfer chamber 102 for delivery of wafers to/from the process chambers.例文帳に追加

基板処理装置１０３は，処理室１０４Ａ〜１０４Ｄ，測定処理室４００に共通に連結され，各処理室に対してウエハの搬出入を行う共通搬送室１０２を備える。 - 特許庁

To shorten a time required for an entire process for improving working efficiency by performing two processes of a scattering (aligning) process to the measurement surface of a granular object to be inspected and a photometry process at the same period.例文帳に追加

粒状の検査物の測定面への散布（整列）工程と、測光工程の異なる２つの工程を同時期に行うことで、全工程にかかる時間を短縮し、作業効率を向上させる。 - 特許庁

A method for reducing in-wafer variation in critical measurement standard of the lithography process includes a process 22 of measuring at least one characteristic of resist arranged on a wafer during the process.例文帳に追加

リソグラフィ・プロセスのクリティカルな測定基準のウェハ内変動を低減するための方法は、リソグラフィ・プロセス中にウェハ上に配置されたレジストの少なくとも１つの特性を測定する工程２２を含む。 - 特許庁

Based upon the measured value obtained in the measurement process, a value is found which is indicative of a force or moment operating on the hand 3b of the other robot 102 by reaction by the contacting process (calculation process).例文帳に追加

測定工程で得られた測定値に基づき、当接工程により反作用によって他方のロボット１０２のハンド３ｂに作用している力又はモーメントを示す値を求める（算出工程）。 - 特許庁

The method for evaluating the progress in fatigue cracks due to the machine fatigue of a rotary shaft comprises a crack angle measurement process, a mode ratio calculation process, a crack progress judgment process, and further a breakdown mode judgment process and a life evaluation process as needed, or a change point calculation process and a life evaluation process.例文帳に追加

回転軸の機械疲労による疲労き裂進展の評価方法であって、き裂角度測定工程と、モード比算出工程と、き裂進展判定工程と、さらに必要に応じて、破壊モード判定工程および寿命評価工程、又は、変化点算出工程および寿命評価工程、を含むことを特徴とする疲労き裂進展の評価方法。 - 特許庁

To provide a process liquid level control unit for controlling the deviation between a control target value and a control measurement value and reducing the amount of change in process control output in process liquid level control, where the deviation between the control target value and the control measurement value does not necessarily have to be reduced.例文帳に追加

制御目標値と制御計測値との偏差を必ずしも小さくさせる必要がないプロセス液面制御において、制御目標値と制御計測値との偏差を制御し、かつ、プロセス制御出力の変化量を少なくすることができるプロセス液面制御装置を提供する。 - 特許庁

When the determination part determines that the process apparatus is the ordinary state, a correction value calculation part calculates a recipe correction value by using measurement data generated from a measurement instrument arranged behind the process apparatus and the apparatus data.例文帳に追加

プロセス装置が健常状態にあると判定部が判定したときには、補正値演算部はプロセス装置の後続に備えられている測定装置から発される測定データと装置データを用いてレシピの補正値を演算する。 - 特許庁

The thickness measurement device provided with a plurality of non-contact distance measurement device is composed of a process for recording the coordinate of a substrate, and a process for measuring the thickness of the substrate at the coordinate on the substrate.例文帳に追加

基板までの距離を非接触測定する複数の非接触距離測定器を備えた厚み測定器において、基板上の座標を記録する工程と、基板上の座標における基板の厚みを測定する工程とを備えている。 - 特許庁

A turn process for turning the fuel conjugant 11 to a certain measurement angle and a measurement process for measuring the intensity of the gamma rays passing through collimators 14 whose distances from a plane 34 are different by a gamma-ray detector 15 are repeated.例文帳に追加

燃料集合体１１をある測定角に回転させる回転工程と、平面３４からの距離が異なる複数のコリメータ１４を通過するガンマ線強度をガンマ線検出器１５で測定する測定工程とを繰り返す。 - 特許庁

The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).例文帳に追加

パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁

To provide a defoaming apparatus and a powder measurement apparatus for overcoming various problems in conventional wet powder measurement, a defoaming process, etc., sufficiently removing foams at a low cost and suitable for in-line measurement.例文帳に追加

従来の湿式粉体測定や脱泡処理の以上のような種々の問題点を解決し、低コストで十分な気泡除去が可能であり、インライン測定にも適した脱泡装置および粉体測定装置を提供する。 - 特許庁

This method of thin layer analysis comprises: a process for performing oblique etching or oblique grinding for the analysis specimen having a thin-layer laminated structure to expose the measurement layer; a process for exciting characteristic X rays from the exposed measurement layer by electron beam irradiation; a process for detecting only the characteristic X rays from the measurement layer; and a process for determining the element composition from the detected X rays.例文帳に追加

本発明は、薄層の積層構造を有する分析試料に斜めエッチングまたは斜め研磨を行なって、測定層を露出させる工程；電子線照射によって、露出させた測定層から特性Ｘ線を励起させる工程；測定層からの特性Ｘ線のみを検出する工程；および検出した特性Ｘ線から元素組成を決定する工程からなる薄層の分析方法を提供する。 - 特許庁

To provide two-point type in-process gage equipment which reduces thickness measurement errors of a substrate during a grinding process of the substrate, even if the thickness of the substrate becomes extremely thin down up to 25 to 50 μm.例文帳に追加

基板の厚みが２５〜５０μｍと極薄となっても、基板の研削工程中に基板の厚み測定誤差を小さくできる２点式インプロセスゲ−ジ機器の提供。 - 特許庁

Data of Bow and Warp of all silicon wafers obtained in a measurement process (B) are used to determine qualities based upon curvatures in a next determination process (C).例文帳に追加

測定工程（Ｂ）で得られた全てのシリコンウェーハのＢｏｗやＷａｒｐのデータを用いて、次の判定工程（Ｃ）で湾曲に基づく良否の判定を行う。 - 特許庁

A detection signal of the force sensor 1, having been calibrated, of the one robot 101 by the execution of the contacting process is converted into a measured value indicative of a force or moment (measurement process).例文帳に追加

当接工程の実行による一方のロボット１０１の校正済みの力覚センサ１の検出信号を力又はモーメントを示す測定値に変換する（測定工程）。 - 特許庁

The process ID recorded in the context register 103 is compared with the measurement object process ID registered in the event context register 102 by a comparator 104.例文帳に追加

コンテキストレジスタ１０３に記録されたプロセスＩＤは、比較器１０４によって、イベントコンテキストレジスタ１０２に登録されている測定対象となるプロセスＩＤと比較される。 - 特許庁

A server 1 acquires a progress situation of a pre-stage from a process management database 3 and calculates an in-process schedule to a lot to be a measurement object.例文帳に追加

サーバ１は、工程管理データベース３から前工程の進捗状況を取得して、測定対象となるロットの測定工程への仕掛り日程を算出する。 - 特許庁

To provide a rework measurement system for measuring the result of a work for countermeasures against any defect generated in a manufacturing process (that is, a rework process).例文帳に追加

製造工程内で発生している不良対策作業（即ちリワーク工程）の作業実績を測定することができるリワーク測定システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

A measurement part 8 measures a transfer amount in the process of transferring of a flooding frame to an inner priority change part 10.例文帳に追加

測定部８は、フラッディングフレームを内部優先度変更部１０へ転送する過程でその転送量を測定する。 - 特許庁

Then, it is determined whether a measurement result in the surface void number measuring process is over a prescribed threshold or not (S102).例文帳に追加

次に、前記表面ボイド個数計測工程の計測結果より、所定の閾値以上か否かを判定する（Ｓ１０２）。 - 特許庁

Thus, an automatic measurement program employs a multi-task (multi-thread) technology to process the registered processing items in parallel.例文帳に追加

これにより、自動計測プログラムはマルチタスク（マルチスレッド）技術を用いて、登録された処理項目を並列に処理する。 - 特許庁

REMOTE NON-CONTACT SONIC SPEED/HEAT CONDUCTIVITY MEASURING METHOD BASED ON MEASUREMENT OF REFLECTED LIGHT OF PULSE LASER INDUCED ELASTIC WAVE ATTENUATION PROCESS例文帳に追加

パルスレーザー誘起弾性波減衰過程の反射光測定による遠隔非接触音速・熱伝導率測定法 - 特許庁

To provide a probe for plasma density information measurement capable of preventing abnormal discharge to stably implement a process.例文帳に追加

異常放電を防止してプロセスを安定して行うことができるプラズマ密度情報測定用プローブを提供する。 - 特許庁

Then, when the measurement is successful, the process is jumped to N1200 (5, 8, 11), and the measured result is registered, and the measuring mode is ended (15, 16).例文帳に追加

そして、計測成功ならＮ１２００へジャンプし（５，８，１１）、計測結果を登録して終了する（１５，１６）。 - 特許庁

Dynamic strain of the milling attachment due to a tentative processing of a work is measured by a dynamic strain measurement (Process P11).例文帳に追加

動的歪み測定（プロセスＰ１１）において、工作物の試験加工によるフライス装置の動的歪みを測定する。 - 特許庁

This information is inputted in the memory unit 44 of the process cartridge B after final information measurement in the assembly stage.例文帳に追加

プロセスカートリッジＢのメモリユニット４４への情報の入力を、組立工程の最終情報計測の後に行なう。 - 特許庁

Then a prediction unit 27 inputs process data for prediction to the prediction model to obtain an estimate of measurement data.例文帳に追加

そして、予測部２７で上記予測モデルに上記予測用のプロセスデータを入力して、測定データの予測値を得る。 - 特許庁

To provide an improved method and instrument for in-situ/noncontact temperature measurement in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスでの原位置・非接触温度測定のための改善された方法および装置を提供することである。 - 特許庁

Then, the measurement process is executed after the color corresponding to the detected color data is detected from the color image after correction.例文帳に追加

そして、補正後のカラー画像から被検出色データに対応する色彩を検出した後に、測定処理を実行する。 - 特許庁

To efficiently process and collect measurement information such as dynamic information about an objective site by using a relatively simple structure.例文帳に追加

比較的簡単な構成を用いて、対象部位の動的情報等の計測情報を効率良く処理収集する。 - 特許庁

The invention comprises: a collection process for collecting on a collection surface, particles which float in the air and then sediment; an image-capturing process for capturing images of the particles collected on the collection surface; and a measurement process for measuring particles.例文帳に追加

空気中を浮遊して沈降する粒子を捕集面に捕集する捕集工程と、捕集面に捕集された前記粒子を撮像する撮像工程と、粒子の計測を行う計測工程とを備える。 - 特許庁