「SCRATCHES」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture a ball-point pen tip having a larger writing angle and less scratches through compression deformation by a simply configured compression tool.例文帳に追加

筆記角度がより大きく、かつ引っかかりがより少ないボールペンチップを、簡素な形状の押圧工具による押圧変形によって製造する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth having a superior water absorbing property, capable of suppressing scratches and the like during polishing, and especially being suitable for high precision polishing.例文帳に追加

吸水性に優れ、かつ研磨中のスクラッチ等を抑制することができる、特に高精度研磨に適した研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a CMP abrasive which can polish a silicon oxide film at a high speed without leaving polishing scratches, and a polishing method of a substrate.例文帳に追加

酸化珪素膜の研磨を高速に行うことができ、かつ研磨傷が付かないCMP研磨剤及び基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, scratches, cracks, and the like, can be prevented from occurring to the back side (lower side) of the processing object, when the processing object, such as, the semiconductor wafer is supported.例文帳に追加

これにより、半導体ウエハ等の被処理体を支持する際に、この裏面（下面）にスクラッチや傷等が付くことを防止する。 - 特許庁

To provide a suction device and a droplet discharge device that prevent scratches generated on the back side of a workpiece, and suppress the generation of electrostatic.例文帳に追加

ワークの裏面の擦り傷を防止し、また、静電気の発生を抑制する吸着装置および液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the GaN substrate 10 is thinned through mechanical polishing of the bottom surface thereof, and then scratches are removed through chemical mechanical polishing, to thereby planarize the bottom surface.例文帳に追加

その後、ＧａＮ基板１０裏面を機械的に研磨して薄膜化し、化学機械研磨によって研磨傷を除去し、平坦化する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of suppressing generation of scratches when its top surface is flattened by CMP and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

ＣＭＰ研磨により上面を平坦化する際にスクラッチが生じにくい半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of obtaining a good image by suppressing sticking of magnetic particles and preventing the scratches of a photoreceptor.例文帳に追加

磁性粒子の付着を抑えて感光体傷を防止し、良好な画像を得ることができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a fluororesin tube which is produced with virtually no scratches, and a rotating body for a fixing device which uses the fluororesin tube.例文帳に追加

製造時の擦り傷がほとんどないフッ素樹脂チューブ、およびそのフッ素樹脂チューブを用いた定着器用回転体を提供する。 - 特許庁

BOARD-CONVEYING HAND, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT AND METHOD FOR SPECIFYING THE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT WITH SCRATCHES ON BOARD DUE TO CONVEYANCE例文帳に追加

基板搬送用ハンド、半導体製造装置、および搬送により基板にキズが発生した半導体製造装置を特定する方法 - 特許庁

To provide an electric wire peeling method of an electric wire processing machine that effectively prevents damage such as the curling and scratches of a core wire.例文帳に追加

芯線部の曲がり癖や傷付き等の損傷を有効に防止する電線処理機における電線皮剥ぎ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a CMP liquid which can suppress generation of polishing scratches while suppressing decrease of a polishing rate.例文帳に追加

研磨速度の低下を抑制しつつ研磨傷の発生を抑制することが可能なＣＭＰ研磨液の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a uniform polished surface small in scratches after worked without the adjustment or the exchange of a working liquid in every kind of glass products.例文帳に追加

ガラス製品の品種毎に加工液の調整や交換を必要とすることなく、加工後に傷の少ない均一な研磨面を得る。 - 特許庁

To provide a polishing composition for CMP (Chemical Mechanical Planarization) that reduces scratches caused on a device wafer surface as a result of polishing.例文帳に追加

研磨することによりデバイスウェハ表面に発生するスクラッチ（かき傷）を低減することができるＣＭＰ用研磨組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a filler polishing implement suitable for the time when scratches and dents are generated on boundary parts and corners between a floor surface and a wall surface.例文帳に追加

床面と壁面との境界部分やコーナーに生じた傷や凹みを補修する際に好適な充填剤研磨具の提供。 - 特許庁

To improve durability by preventing occurrence of potential change or scratches in an electrophotographic photoreceptor having a magnesium fluoride surface layer.例文帳に追加

フッ化マグネシウムの表面層を有する電子写真用感光体において、電位変動や傷の発生を防止し、耐久性を向上する。 - 特許庁

To provide a means for preventing a urethane-made belt from receiving scratches when brought into contact with a metal without blending anything special in a urethane resin.例文帳に追加

ウレタン製ベルトの金属接触禍を防止する手段として、ウレタン樹脂に特殊配合する必要のない対策を提供する。 - 特許庁

To provide an optical head in which it can be prevented that a cover part (sliding position) is attached to a disk and scratches a disk.例文帳に追加

カバー部（摺動部位）がディスクに付着したりディスクを傷つけたりすることを防止することの可能な光学ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a digital camera preventing deterioration of image quality caused by white and black scratches, and preventing reduction of use convenience resulting from preventing the image quality deterioration.例文帳に追加

白キズや黒キズによる画質低下の防止と、この画質低下を防止するために利便性が低下するのを抑えるデジタルカメラ。 - 特許庁

To remove scratches caused on a semiconductor polishing surface containing a copper film, etc., so that an adhesive is neither adhered to the polishing surface nor left behind.例文帳に追加

銅膜等を含む半導体研磨面に生じる引っかき傷を無くし、研磨面に研磨剤を付着残存させないことである。 - 特許庁

To provide an outer frame body for a game machine capable of preventing scratches and damages during handling such as game machine transfer, making scratches inconspicuous, improving handling aptitude and preventing the merchandise value decline of the game machine, and to provide the game machine.例文帳に追加

遊技機搬送等の取扱い時においてキズが付いたり破損したりするのを防止し、また、目立たないキズとすることができ、取扱い適性を向上させると共に遊技機の商品価値低下を防止することのできる遊技機用の外郭枠体及び遊技機を提供すること。 - 特許庁

To provide decorative parts having high hardness and free from the generation of scratches, particularly, decorative parts composed of a gold alloy base metal and free from the generation of scratches caused by impact, particularly, decorative parts containing gold and having a gold color tone, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

使用中に傷が発生しない高硬度の装飾部品、特に金合金母材からなる装飾部品に対し耐衝撃によるキズが発生しない高硬度の装飾部品特に金を含有し金色色調を有する装飾部品とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide decorative parts having high hardness and free from the generation of scratches in use, particularly, decorative parts composed of a pure gold (24K) base material and free from the generation of scratches caused by impact, particularly, decorative parts containing gold and having a gold color tone, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

使用中に傷が発生しない高硬度の装飾部品、特に純金（２４Ｋ）母材からなる装飾部品に対し耐衝撃によるキズが発生しない高硬度の装飾部品特に金を含有し金色色調を有する装飾部品とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate supporter for a substrate annealing apparatus which can support horizontally a large-sized substrate (e.g., not smaller than one meter square), and can follow the displacement caused by the heating and cooling of the substrate, and further, can reduce largely the generation of the scratches (micro scratches) caused by its sliding on the surface of the substrate.例文帳に追加

大型の基板（例えば１ｍ四方以上）を水平に支持することができ、基板の加熱・冷却による変位に追従でき、基板表面との滑りによる傷（マイクロスクラッチ）の発生を大幅に低減することができる基板アニール装置用の基板支持装置を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film capable of preventing its surface from being easily damaged by scratches or the like and preventing a low refractive index layer from being peeled off.例文帳に追加

擦過等による表面への傷が付き難く、低屈折率層の剥離がないような反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a paper feeding device capable of separating a sheet without producing scars and scratches on its surface, and a recording device equipped with it.例文帳に追加

表面に傷や擦れを発生させることなくシートを分離することのできる給紙装置及びこれを備えた記録装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the wet etching is made in order to clear unevenness due to scratches formed by the backgrinding processing on the surface of the semiconductor wafer 1a.例文帳に追加

この時、バックグラインド処理で生じるスクラッチによる半導体ウエハ１ａ面内の凹凸を除去するためにウェットエッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip carrier capable of suppressing scratches on a portion other than an edge of the lower surface of a semiconductor chip housing tray.例文帳に追加

半導体チップ収容トレイの下面のうち、縁以外の部分に傷が生じることを抑制できる半導体チップ搬送体を提供する。 - 特許庁

To provide a sample grasping end effector capable of transferring a semiconductor wafer reliably with fewest scratches or least defacement by particles on the wafer.例文帳に追加

ウエハの引っ掻き傷や粒子による汚損を最少にして半導体ウエハを確実に移送し得る試料把持用端部エフェクタを提供すること。 - 特許庁

To efficiently detect gentle irregularities, extremely minute scratches and unevenness, and a minute contrast on the surface of a blade for an electrophotography device.例文帳に追加

電子写真装置用のブレードの表面における、緩やかな凹凸や、極微小なキズ及びムラ、微妙なコントラストを効率的に検出する。 - 特許庁

To move a pickup to a target position within a short time even when track position information cannot be read due to scratches, blemishes, or the like on a disk.例文帳に追加

ディスクの傷や汚れなどによりトラック位置情報の読み取りができない場合にも、短時間にピックアップを目標位置に移動させる。 - 特許庁

To provide a disk cartridge which assures reliable holding and removal of an optical disk and prevents recorded data loss due to stains or scratches.例文帳に追加

光ディスクを確実に保持して取り出すことができ、汚れや傷等による記録データの損失を防ぐことが可能なディスクカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for polishing a chemical machine capable of suppressing the occurrence of scratches even on an interlayer insulating membrane having a small elastic modulus.例文帳に追加

弾性率の小さい層間絶縁膜であってもスクラッチの発生が抑えられる化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁

To provide a composite material tool plate for polishing, which tool plate does not give a fear of causing scratches on a workpiece, and has a wearless working surface and a long life.例文帳に追加

被加工物にスクラッチが入るおそれがなく、かつ加工面の摩耗がなく長寿命な研磨用複合素材工具プレートを提供する。 - 特許庁

To provide a wooden facing flooring material composed of a low- pressure melamine facing plate hardly causing scratches because of its high abrasion resistance and superior in workability.例文帳に追加

耐磨耗性が大きくて擦り傷が生じ難く且つ施工性に優れた低圧メラミン化粧板からなる木質化粧床材を提供する。 - 特許庁

The vertical line/horizontal line detection circuit 204 detects beat noise components or linear scratches in the light shielding part of the solid-state imaging element 102.例文帳に追加

縦線・横線検出回路２０４は、固体撮像素子１０２の遮光部におけるビートノイズ成分もしくは線状のキズを検出する。 - 特許庁

To provide a grinding sheet and its manufacturing method capable of obtaining high grinding efficiency without causing scratches on a grinding object and dispensing with slurry.例文帳に追加

被研磨物に傷を発生させることなく高い研磨効率が得られ、且つスラリーが不要な研磨シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a construction machine which quietly self-traveles between fields without breakage like scratches or smudge like slip marks onto a pavement surface.例文帳に追加

舗装面に、引っ掻き傷等の損傷や、スリップ痕のような汚れを与えることなく、静かに現場間を自走可能な建設機械を提供する。 - 特許庁

To reduce scratches to occur on a surface of a polysilicon film even if the polysilicon film is used as a stopper film of CMP.例文帳に追加

ＣＭＰのストッパ膜として多結晶シリコン膜を用いた場合においても、多結晶シリコン膜の表面に発生するスクラッチを低減させる。 - 特許庁

To provide a suction port body for a vacuum cleaner capable of easily discriminating the exchange time of a roller and preventing scratches of a floor surface, and the vacuum cleaner.例文帳に追加

ローラーの交換時期を容易に判別して床面の傷を防止できる電気掃除機用吸込口体及び電気掃除機を提供する。 - 特許庁

To prevent scratches from being made on a disk due to contact with a disk guide immediately after start of conveyance of the disk that is inserted from an insertion slot.例文帳に追加

挿入口から挿入したディスクの搬送開始直後に、ディスクガイドとの接触によりディスクに擦り傷が生じることを防止する。 - 特許庁

To provide a polishing method for enabling highly uniform polishing by considerably reducing scratches, damages and waviness, and also enabling high speed polishing.例文帳に追加

スクラッチや傷、うねりを大幅に低減して均一性の高い研磨を可能とすると共に、高速研磨を可能とする研磨方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the outermost coat layer 55 of the charging roller 51 changes its resistance and is gradually damaged by scratches.例文帳に追加

このため、帯電ローラ５１の最も外側のコート層５５は、その抵抗値が変動し、その表面に傷等が発生して、徐々に劣化して行く。 - 特許庁

To provide a cathode-ray tube preventing neck cracks or implosion by eliminating scratches caused by a valve spacer when sealing an electron gun.例文帳に追加

電子銃を封止する際のバルブスペーサーによる擦過傷をなくしてネッククラックや爆縮をおこさない陰極線管を得ることを目的とする。 - 特許庁

To prevent the generation of scratches of a fixing belt, while securing the separability of a sheet, in a fixing device adopting a contact type separation member.例文帳に追加

接触タイプの分離部材が採用された定着装置において、シートの分離性を担保しつつ、定着ベルトのキズ発生を防止する。 - 特許庁