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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > deposit areaに関連した英語例文

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deposit areaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 99



例文

To provide a system and a method for forming a deposit film, by which a deposit film in which structural defects are suppressed and uniformity is improved can be formed over a large area.例文帳に追加

構造欠陥を抑制し、均一性が良好な堆積膜を大面積にわたって形成できる堆積膜形成装置及び方法を提供する。 - 特許庁

growth in the surface area of a cell by the deposit of new particles between existing particles in the cell wall 例文帳に追加

細胞壁の既存の粒子間の新しい粒子の堆積による細胞表面積の増加 - 日本語WordNet

At the time of the deposit service of laundry, the utilization history is recorded in the area indicated by a history pointer P.例文帳に追加

洗濯物の預け入れサービス時には履歴ポインタPに示す領域に利用履歴を記録する。 - 特許庁

To provide a method of raising a bank utilizing the deposit in a moving water area.例文帳に追加

本発明は、流水域に存在する堆積物を利用して堤防の嵩上げを図る方法の提案にある。 - 特許庁

例文

To provide a method for enlarging a beam diameter of a neutral particle beam to deposit the particles on a wider area of a substrate.例文帳に追加

中性粒子ビームのビーム径を広げ、基板上のより広い面積に粒子の堆積を行う。 - 特許庁


例文

To accurately estimate a deposit quantity of a particulate in a filter in a low flow rate area.例文帳に追加

低流量域でのフィルタにおけるパティキュレートの堆積量を正確に推定する。 - 特許庁

To provide a deposition preventing structure and a deposition preventing system and method that can effectively prevent deposition of an underwater deposit in a sedimentation area of a reservoir by efficiently accumulating the underwater deposit such as sand upstream of the sedimentation area of the reservoir such as a dam and removing the accumulated deposit.例文帳に追加

ダム等の貯水池の堆砂域の上流部において砂等の水中堆積物を効率的に集積し、集積された堆積物を排出することで効果的に貯水池の堆砂域における水中堆積物の堆積を防止可能な堆積防止構造物及び堆積防止システム・方法を提供する。 - 特許庁

An ink deposit 90 is accumulated in the inspection area 52 when a head inspection routine is repeatedly performed, and an ink deposit 92 is also accumulated around the inspection area 52 on a platen 44 when a printing processing routine is repeatedly performed.例文帳に追加

ヘッド検査ルーチンが繰り返し実行されると検査領域52にインク堆積物90が溜まり、印刷処理ルーチンが繰り返し実行されるとプラテン44のうち検査領域52の周辺にもインク堆積物92が溜まる。 - 特許庁

An ink deposit 90 is accumulated in the inspection area 52 when a head inspection routine is repeatedly performed, and an ink deposit 92 is also accumulated around the inspection area 52 on a platen 44 when a printing processing routine is repeatedly performed.例文帳に追加

ヘッド検査ルーチンが繰り返し実行されると検査領域52にインク堆積物90が溜まり、印刷処理ルーチンが繰り返し実行されるとプラテン44のうち検査領域52の周辺にもインク堆積物92が溜まる。 - 特許庁

例文

(2) Holders of digging right may file applications to split a mining area and merge it with another mining area of minerals that occur in the same type of ore deposit, or split part of more than two mining areas of minerals that occur in the same type of ore deposit and merge them into one mining area. 例文帳に追加

2 採掘権者は、鉱区を分割してこれを同種の鉱床中に存する鉱物の他の鉱区に合併し、又は同種の鉱床中に存する鉱物の二以上の鉱区の各一部を分割しこれを合併して一の鉱区とする出願をすることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

Article 37 (1) When the location and shape of a digging application area are different from that of an ore deposit and it is found that the ore deposit cannot be completely developed unless the location and shape of the digging application area are changed, the Director of Regional Bureau of Economy, Trade and Industry may give an order to increase or decrease the digging application area to make the location and shape thereof agree with that of the ore deposit. 例文帳に追加

第三十七条 経済産業局長は、採掘出願地の位置形状が鉱床の位置形状と相違し、採掘出願地の位置形状を変更しなければその鉱床の完全な開発ができないと認めるときは、採掘出願地の位置形状が鉱床の位置形状に合致するように、採掘出願地の増減の出願を命ずることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 48 (1) When the location and shape of a mining area are different from that of an ore deposit and it is found that the ore deposit cannot be completely developed unless the location and shape of the mining area are changed, the Director of Regional Bureau of Economy, Trade and Industry may give an order to increase or decrease the mining area to make the location and shape thereof agree with that of the ore deposit. 例文帳に追加

第四十八条 経済産業局長は、採掘鉱区の位置形状が鉱床の位置形状と相違し、その鉱区の位置形状を変更しなければその鉱床の完全な開発ができないと認めるときは、その鉱区の位置形状が鉱床の位置形状に合致するように、鉱区の増減の出願を命ずることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

When the scale of a light shielding area is smaller than a prescribed threshold, the arithmetic part 120 determines that the deposit is present on the operation face, and the operation face driving part 140 moves the operation face in the Z axial direction to eliminate the influence of the deposit.例文帳に追加

演算部120は、遮光領域の大きさが所定の閾値より小さい場合に付着物が操作画面上にあると判断し、操作面駆動部140で操作面をZ軸方向に移動することで付着物の影響を排除する。 - 特許庁

A pinhole 6 generated in an area exposed in the opening on the etch stopper film is filled with a deposit 7, and the opening where the pinhole is exposed by filling with the deposit, is then cleaned using a cleaning liquid.例文帳に追加

エッチストッパー膜における開口部に露出した領域に生じたピンホール6を堆積物7で埋め込んだ後、堆積物が埋め込まれピンホールが露出した開口部に対して、洗浄液を用いて洗浄を行う。 - 特許庁

To deposit single-wall carbon nanotubes over a large area at a comparatively low temperature by a method wherein a catalyst is not indispensable.例文帳に追加

触媒を必須とすることなく比較的低温でもって大面積上にわたって一重壁カーボンナノチューブを成膜すること。 - 特許庁

Due to the localized heating, aluminum vapor generated from the tape will only deposit aluminide coating on the taped area.例文帳に追加

局部加熱のため、テープから生じたアルミニウム蒸気はテープ被覆領域だけにアルミナイド皮膜を形成する。 - 特許庁

To uniformly deposit a zinc oxide type transparent conductive film having widely controllable resistivity on a substrate of large area.例文帳に追加

広範囲に制御可能な比抵抗を有する酸化亜鉛系の透明導電膜を大面積の基板上に均一に形成すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method which can uniformly deposit a film on a whole sidewall of an aperture area formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に形成された開口部の側壁全体を均一に成膜することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system which can deposit films with uniform film thickness and film quality over the whole substrate area.例文帳に追加

基板全面に亘って膜厚膜質共に均一な被膜を形成することができるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a filter unit which can be easily installed in a tank while preventing reduction of a filter effective area due to deposit.例文帳に追加

沈殿物によって埋まることによるフィルター有効面積の低減を防止しながら、タンク内に簡単に設置できる濾過ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a technology to reduce deposit accumulated at a nozzle hole forming area in an ejection part.例文帳に追加

噴射部のノズル孔形成領域に堆積するデポジットの量を低減させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a plating method which can deposit Cu in a recess without depending on a kind of a semiconductor device and the surface area of each wiring layer in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の品種や半導体装置内の各配線層の表面積に依存性せず凹部にCuを埋め込むことを目的とする。 - 特許庁

To continuously deposit a deposition film having a composition distribution to the film thickness direction on a substrate with a large area without the variation of its characteristics.例文帳に追加

膜厚方向に対して組成の分布がある堆積膜を、大面積の基板上に、特性にばらつきなくかつ連続的に形成する。 - 特許庁

An area requiring no metallic film is covered with a cover, and then it is dipped in a metallic liquid to deposit a metallic film.例文帳に追加

金属膜を付着しなくても良い所はカバーで被った後で、金属の液体に浸し、金属膜を付着させる。 - 特許庁

The target device is constituted by depositing a similar sprayed deposit onto the surface of a noneroded area of the target body and the surface of the backing plate body.例文帳に追加

ターゲット装置は、ターゲット本体の非エロージョン領域やバッキングプレート本体の表面に、同様な溶射膜を形成したものである。 - 特許庁

Before and after the deposit of volcanic ash or the like, the ground of the area under monitoring is three-dimensionally measured (S2, S3, S5, S6).例文帳に追加

火山灰等の堆積の前後で、監視対象地域の地表面を3次元測定する(S2,S3,S5,S6)。 - 特許庁

In this heat exchange area 12, the temperature of the heat phosphoric acid is absorbed to concentrically deposit melt (Si component) in the phosphoric acid solution.例文帳に追加

この熱交換領域12において熱リン酸の温度を奪い、リン酸溶液中の溶解物(Si成分)を集中的に析出させる。 - 特許庁

To provide a floor decorative material laying structure capable of reducing an area where foreign matters can deposit on the laying surface right under a floor decorative material body.例文帳に追加

床化粧材本体直下の敷設面上に異物が堆積し得る面積を狭小にすることができる床化粧材敷設構造を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus which can deposit a film in a correct area by preventing any thermal influence from an evaporation source to a mask.例文帳に追加

蒸発源からマスクへの熱の影響を防止して正確な領域に膜を形成しうる薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

Article 46 (1) In the case where digging areas are adjacent to mining areas of others where the minerals as the subject of digging areas occur in the same type of ore deposit, if the ore deposit cannot be completely developed unless a heading is driven to the adjacent mining area due to the location and shape of ore deposit, an application for increase of mining areas may be filed by obtaining the approval of the holder of mining right and mortgagee of the adjacent mining area and specifying the ore deposit. In this case, the holder of mining right and mortgagee may not refuse to give such approval without any justifiable grounds. 例文帳に追加

第四十六条 採掘鉱区がその目的とする鉱物と同種の鉱床中に存する鉱物の他人の鉱区と隣接する場合において、鉱床の位置形状により隣接鉱区に掘進しなければその鉱床の完全な開発ができないときは、その隣接鉱区の鉱業権者及び抵当権者の承諾を得て、鉱床を定めて、鉱区の増加の出願をすることができる。この場合において、鉱業権者及び抵当権者は、正当な事由がなければ、その承諾を拒むことができない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 89 (1) When the location and shape of a mining area are different from those of an ore deposit in the case where the digging areas of minerals that occur in the same type of ore deposit are adjacent to each other, and it is found that the ore deposit cannot be completely developed unless the location and shape of the mining area are changed, the Director of Regional Bureau of Economy, Trade and Industry may recommend that the holders of digging right concerned consult with each other about applications for mutual increase or decrease of their mining areas to make the location and shape thereof agree with that of the ore deposit. 例文帳に追加

第八十九条 経済産業局長は、同種の鉱床中に存する鉱物の採掘鉱区が隣接する場合において、鉱区の位置形状が鉱床の位置形状と相違し、その鉱区の位置形状を変更しなければその鉱床の完全な開発ができないと認めるときは、当該採掘権者に対し、鉱区の位置形状が鉱床の位置形状に合致するように、鉱区相互の間の鉱区の増減の出願について協議すべきことを勧告することができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(2) When the location and shape of a mining area are different from that of an ore deposit in the case where the digging areas of minerals that occur in the same type of ore deposit are adjacent to each other, and it is found that the ore deposit cannot be completely developed unless the location and shape of the mining area are changed, the holders of digging right concerned may consult with each other about applications for mutual increase or decrease of their mining areas to make the location and shape thereof agree with that of the ore deposit. 例文帳に追加

2 同種の鉱床中に存する鉱物の採掘鉱区が隣接する場合において、鉱区の位置形状が鉱床の位置形状と相違し、その鉱区の位置形状を変更しなければその鉱床の完全な開発ができないときは、採掘権者は、他の採掘権者に対し、鉱区の位置形状が鉱床の位置形状に合致するように、鉱区相互の間に鉱区の増減の出願をすることについて協議することができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Erroneous detection by adoption of a differential pressure method can be restrained by adopting the deposit quantity determined by the other method as a result, by setting the deposit quantity by the differential pressure method as zero, by determining as a reliability low area without sufficiently producing differential pressure, when the particulate deposit quantity determined on the basis of the differential pressure before and behind a DPF is the limit value or less.例文帳に追加

DPF前後の差圧に基づいて求められるパティキュレート堆積量がリミット値以下であるときは、差圧が十分に出ず信頼性が低い領域であると判断して、差圧法による堆積量をゼロとし、結果的に他の方法によって求められる堆積量を採用するので、差圧法の採用による誤検知を抑制することができる。 - 特許庁

Article 22 (1) Those who intend to create digging rights shall submit the description of ore deposit, which describes the location, strike, pitch, thickness and other conditions of the ore deposit of the mineral to be mined in the area of application, at the same time with the application prescribed in paragraph (1) of the preceding Article. 例文帳に追加

第二十二条 採掘権の設定を受けようとする者は、前条第一項の規定による出願と同時に、出願の区域について目的とする鉱物の鉱床の位置、走向、傾斜、厚さその他鉱床の状態を記述した鉱床説明書を提出しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 5 The term "mining right" as used in this Act shall mean the right to mine the registered minerals and other minerals that occur in the same type of mineral deposit in the area of certain land registered (hereinafter referred to as "mining area"), and acquire them. 例文帳に追加

第五条 この法律において「鉱業権」とは、登録を受けた一定の土地の区域(以下「鉱区」という。)において、登録を受けた鉱物及びこれと同種の鉱床中に存する他の鉱物を掘採し、及び取得する権利をいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a dredging method and dredging equipment, which enable the easy removal of deposit in an area disabling the entry of an ordinary dredger, an area incapable of being excavated because a structure for foot protection etc. exists under the water, and the like.例文帳に追加

通常の浚渫船が進入不可能な領域や水中に根固め等の構造物があり、掘削が不可能な領域等の堆積物を容易に撤去できる浚渫方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

Based on a corresponding relation map MAPsbta between a throttle opening TA and an opening area with no deposit building up, the throttle opening TA is converted into a reference opening area SB (S106).例文帳に追加

デポジット未堆積でのスロットル開度と開口面積との対応関係マップMAPsbtaに基づいてスロットル開度TAを基準開口面積SBに換算する(S106)。 - 特許庁

To provide a silicon wafer in which oxygen deposit is stably formed in dependent of crystal position or device process, a method of producing the same, and a method for evaluating the defect area of a silicon wafer whose pulling-up conditions and the defect area are unknown.例文帳に追加

結晶位置やデバイスプロセスに依存せずに安定して酸素析出が得られるシリコンウエーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a monitoring sensor capable of identifying a deposit temporarily adhered on the surface of a monitoring window and a shield appearing in a monitoring area after setting the monitoring area.例文帳に追加

監視窓の表面に一時的に付着した付着物と監視領域の設定後に監視領域内に出現した遮蔽物とを識別可能な監視用センサを提供する。 - 特許庁

It also described recent measures in the Japanese financial services area with a focus on insurance and banking, including the changes in the Deposit Insurance Law and the Insurance Business law. 例文帳に追加

預金保険法の改正、保険業法の改正を含む、銀行・保険分野を中心とした金融サービス分野の最近の施策についても説明した。 - 財務省

In the financial services session, the Japanese side reported on Japan's progress in financial sector reform, including recent measures in the Japanese financial services area, such as changes in the Deposit Insurance Regime and inspection schemes. 例文帳に追加

金融サービスセッションにおいて、日本側は、預金保険制度や検査スキームの改革といった日本の金融サービス分野における最近の政策を含む金融セクターの改革の進展について報告した。 - 財務省

To provide a cleaning method, which allows the removal of deposit on electrodes included in an extraction electrode system of an ion source at high speed over a wide area thereof.例文帳に追加

イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To deposit a homogeneous, high quality photoelectric conversion layer on a substrate of large area over the whole surface under relatively high reactant gas pressure at high speed.例文帳に追加

比較的高い反応ガス圧のもとで大面積の基板上に全面にわたって均質で高品質の光電変換層を高速で堆積することを可能にする。 - 特許庁

To hardly deposit a particulate matter PM included in exhaust gas on the foremost face side in the flow direction and to prevent reduction in a passage area on the foremost face side even if the particulate matter is deposited.例文帳に追加

排気ガス中に含まれるPM(微粒子物質)が流れ方向の最前面側に堆積し難く、また、堆積しても最前面側の通路面積が絞られないこと。 - 特許庁

To deposit a thin film of a uniform thickness on a substrate by unifying the pressure of gas molecules ionized in a discharge area between a substrate 5 and a target 3, and uniformly colliding the ionized charged particles with the target 3.例文帳に追加

基板5とターゲット3との間の放電領域内において電離するガス分子の圧力を均等化し、これにより電離した荷電粒子をターゲット3に均等の衝突させて、基板5上に均等な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁

After the crushed rubber pieces 2 are accumulated on the geogrid 1 in the inside area of the frame body 3, the sides 1a and 1a of the ends of the geogrid 1 are folded and superposed on the deposit of the crushed rubber piece 2.例文帳に追加

枠体3の内側領域のジオグリッド1上に破砕ゴム片2を堆積させた後、ジオグリッド1の端部側1a,1aを破砕ゴム片2の堆積物の上に折り重ねる。 - 特許庁

To provide a method for producing a microbial film deposited with specified species of microbes and having controlled deposited area, deposit form and the like by utilizing electrical properties and their differences of the microbes in depositing the microorganisms on a carrier.例文帳に追加

担体に微生物を付着させる際に、微生物細胞の電気的性質とその差異を利用して、付着する微生物の種類、付着面積および付着形状等を制御して微生物膜を作成する方法を提供すること。 - 特許庁

The area exposed to the opening on the etch stopper film is then removed by etching together with the pinhole filled with the deposit, and wiring is exposed.例文帳に追加

次に、エッチストッパー膜における開口部に露出した領域を堆積物が埋め込まれたピンホールとともにエッチングにより除去し、配線を露出する。 - 特許庁

To deposit a thin oxide film having uniform quality on a substrate large in area, to suppress the generation of particles and to improve the yield by generating the uniform flow of a gaseous starting material on the space between electrodes generating plasma discharge.例文帳に追加

プラズマ放電を発生させる電極間に原料ガスの均一な流れを作り出すことにより、大面積の基板に均一な品質の酸化物薄膜を形成するとともに、パーティクルの発生の抑制して歩留りの向上を図る。 - 特許庁

例文

In the step of forming the insulating film 30, the layer 30 is caused to deposit on the area by projecting an ion beam of a gas containing a rare gas as the main component upon the substrate after the patterning step is performed.例文帳に追加

絶縁層30を成膜する工程では、前記パターニング段階の後の前記基体に向けて希ガスを主成分とするガスのイオンビームを照射しつつ、絶縁層30を堆積させる。 - 特許庁

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