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diffusion-limitedの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 35



例文

?not random, but like a diffusion-limited fractal. 例文帳に追加

——ランダムではないが、散らばりかたの限られたフラクタルの波のようなパターンだ。 - Eric S. Raymond『ノウアスフィアの開墾』

When diffusion is formed from the rectangular region, a diffusion distance d1 in the direction of the long side of the rectangle is smaller than a diffusion distance d2 of a short side and an insulation wall is closed within limited diffusion time.例文帳に追加

くぼみはほぼ長方形の断面を有し、その大きい方の寸法はくぼみの配列線に垂直で、くぼみの深さは基板の半分の厚さより小さいあるいは等しい。 - 特許庁

A silicide layer 108 is formed to be limited within the high-concentration impurity diffusion layer 106.例文帳に追加

シリサイド層108は、高濃度不純物拡散層106内に限って形成される。 - 特許庁

The device is provided with a diffusion limitation part opening along the jet direction of the diffusion flow and to the exterior, and the diffusion in the vertical direction of the jet flow is limited and rectified by the diffusion limitation part.例文帳に追加

拡散流の噴射方向に沿いかつ外部に開口する拡散制限部が設けられており、噴射される拡散流は、拡散制限部によって上下方向の拡散が制限されて整流される。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is not limited by the concentration of a diffusion layer and of which junction leak current is reduced enough.例文帳に追加

拡散層濃度に制約されず、接合リーク電流が十分に低減された半導体装置を製造する。 - 特許庁


例文

In analysis of bulk specimens by WDS, the spatial resolution is limited to 0.1 to 1 μm by the diameter of the electron-diffusion region. 例文帳に追加

WDSによるバルク試料の分析では、空間分解能は電子拡散領域の直径によって0.1〜1μmに限定される。 - 科学技術論文動詞集

The inverse diffusion signal limited by the limiters 104-1 to 104-N is temporarily stored in memory devices 105-1 to 105-N.例文帳に追加

リミッタ104−1〜104−Nによりリミットされた前記逆拡散信号は、メモリ装置105−1〜105−Nに一時的に蓄積される。 - 特許庁

The limiting current type oxygen sensor 10 is equipped with: an ion conductor 11; electrodes 12a and 12b; a gas diffusion mechanism 16 for supplying a gas limited in its diffusion rate; and a heater 17 for heating the ion conductor 11.例文帳に追加

限界電流式酸素センサ10は、イオン導電体11と、電極12a,12bと、拡散律速されたガスを供給するガス拡散機構16と、イオン伝導体11を加熱するヒータ17とを備える。 - 特許庁

As the result of these constraints, a signal supply destination (connection destination) as to the after-diffusion data output part is limited, so that the interconnect lines can be reduced in number.例文帳に追加

この制約の結果、一つの拡散後データ出力部についての信号供給先(接続先)が限定され、配線数を減少させることができる。 - 特許庁

例文

A diffusion barrier is doped by one or two or more types of ions of for example, oxygen, nitrogen, fluorine, silicon, germanium, or xenon (however not limited to these).例文帳に追加

拡散バリアは、1又は複数の種類のイオン、例えば、酸素、窒素、フッ素、シリコン、ゲルマニウム、又はキセノン・イオン(しかし、これらに限定されない)でドープされる。 - 特許庁

例文

A carrier-interference method (CI) coding contains the groups of orthogonal polyphase codes, the lengths of these coding groups are not limited and these coding groups can be used for a direct diffusion and a multi-carrier coding.例文帳に追加

キャリア干渉法(CI)符号は直交多相符号の族を含み、これら符号族は長さ制限がなく、直接拡散およびマルチキャリア符号化に用いられ得る。 - 特許庁

A carrier-interference method (CI) code contains the groups of orthogonal multiphase codes, and the lengths of these code groups are not limited and can be used for a direct diffusion and a multi-carrier coding.例文帳に追加

キャリア干渉法(CI)符号は直交多相符号の族を含み、これら符号族は長さ制限がなく、直接拡散およびマルチキャリア符号化に用いられ得る。 - 特許庁

To provide a backlight device having a support which effectively supports a diffusion plate even when space is limited without deteriorating display picture quality of a liquid crystal panel and so on.例文帳に追加

液晶パネル等の表示画像の質を低下させることなく、限られたスペースであっても拡散板を効果的に支持する支持体を有するバックライト装置を提供する。 - 特許庁

The heat diffusion guide 13 produce an air flow passing through an air path 131 in a limited direction and further has a recessed part 135 formed nearby an external rim 132 and then a larger amount of air flow can be supplied, so that the efficient heat diffusion becomes possible.例文帳に追加

同熱拡散ガイド13は空気路131を通る空気流を制限した方向に流れを作り、さらに外方リム132の近くに凹部135を形成し、より多量の空気流を供給することが可能になり効率の良い熱拡散ができる。 - 特許庁

So, the wiring route of the source wiring 213 is not limited by the route of the inter-drain wiring 224, and is wired to cover the common source diffusion region 301 more widely.例文帳に追加

従って、ソース配線213の配線経路は、ドレイン間配線224の経路に制約を受けることが無く、共有ソース拡散領域301上をより広く覆うように配線できる。 - 特許庁

The heat treatment temperature is limited to 300°C or less, so that significant diffusion of hydrogen atoms in the silicon crystal is not generated, and no surface roughness of the SOI layer is also produced.例文帳に追加

熱処理温度は300℃以下に制限されているから、シリコン結晶中での水素原子の拡散が顕著に生じることがなく、SOI層の表面荒れが生じることがない。 - 特許庁

An inverse quantizer 20 quantizes the limited-gradation image 101 by a multi-valued error diffusion method and this inverse quantized image is converted into the low-frequency multi-gradation image 107.例文帳に追加

多値誤差拡散法による限定階調画像101を逆量子化器102により量子化し、さらにこの逆量子化画像を低周波多階調画像107に変換する。 - 特許庁

The fuel additive agent 42 is positioned inside an inner chamber 40 to be constantly fluid-communicated with fuel in the filter through an opening part limited by a baffle plate 50 and/or a diffusion orifice 44.例文帳に追加

燃料添加剤(42)は、内チャンバ(40)内に位置し、バッフルプレート50及び/又は拡散オリフィス(44)によって制限された開口部を介して、フィルタ内の燃料と常に流体連通している。 - 特許庁

When an increase of loss in the wavelength of 630 nm band caused by bonding defect of silicon and oxygen in the quartz glass is limited to 4 dB/km or less, an increase of loss in the wavelength of 1380 nm band caused by the diffusion of oxygen into the quartz glass can be limited to 0.1 dB/km or less.例文帳に追加

この石英ガラス中のシリコンと酸素との結合欠陥によって生じる波長630nm帯での損失増加分を4dB/km以下とすることにより、石英ガラス中への水素拡散によって生じる波長1380nm帯での損失増加分を0.1dB/km以下とすることができる。 - 特許庁

At this time, the internal height G of the cavity Sc is set larger than a distance D, the d diffusion of heat from the shower head 4 is limited, and the thermal insulation of the cavity Sc is increased to sufficiently heat the raw material gas.例文帳に追加

このとき、キャビティ部Scの内高Gが、距離Dより大きくされており、シャワーヘッド4からの熱の放散が制限され、キャビティ部Scの熱的な絶縁性が高められて原料ガスが十分に加熱される。 - 特許庁

To provide a method for producing a particulate aggregate with an ordered structure produced in the initial stage of aggregation in a diffusion-limited aggregation process at a high concentration, and to provide a particulate aggregate obtained by the production method.例文帳に追加

拡散律速凝集過程において、凝集の初期過程で生成する秩序構造を有する微粒子集合体を高濃度で製造する方法と、その製造方法によって得られる微粒子集合体を提供する。 - 特許庁

As a result, the dimensions of the isolation structure are limited and defined, thereby allowing a higher packing density than obtainable using conventional processes which include the growth of an epitaxial layer and diffusion of dopant.例文帳に追加

その結果として、上記分離構造の寸法が制限かつ規定され、こうして、エピタキシャル層を成長させる工程とドーパントを拡散させる工程とを含む従来のプロセスを用いて得られるよりも高い実装密度を得ることができる。 - 特許庁

On the array substrate 20 inside the seal agent 22, the almost equal amount of liquid crystal 31 is dropped in a position wherein the diffusion interval between adjoining dewdrops is almost equal and liquid crystal 32 of 2 mg less than the amount being dropped (5mg) of the liquid crystal 31 is dropped in a position wherein liquid crystal diffusion is limited between adjoining liquid crystals 31.例文帳に追加

図2(b)は、シール剤22内のアレイ基板20面上に、隣接する液滴間の拡散距離がほぼ等しくなる位置にほぼ同量の液晶31の滴下を行い、隣り合う液晶31間で液晶拡散が疎となる位置に液晶31の滴下量(5mg)より少ない2mgの液晶32を滴下した状態を示している。 - 特許庁

The area of a region in which boron is diffused is limited in the area of the p^+-type buried diffusion layer because the opening section corresponding to the scribing line is not formed, and the area of the region is made largely smaller than the case when the opening section corresponding to the scribing line is formed.例文帳に追加

スクライブラインに対応する開口部を形成しないことで、ボロンを拡散する領域の面積がP^+型埋め込み拡散層の面積に限られ、スクライブラインに対応する開口部を形成した場合に比べて大幅に削減される。 - 特許庁

By adding the transformation temperature lowering element to the bonding surfaces of the metal stocks, the transformation temperature in a vicinity of the bonding surfaces is locally lowered, and the heating temperature for bonding is lowered in the diffusion bonding step, the deformation during the diffusion bonding is limited to a vicinity of the surface, and excellent bonding can be performed while suppressing the deformation of a base material.例文帳に追加

これにより、金属素材の接合表面に変態点低下元素を添加することで接合表面近傍の変態点が局部的に低下するので、拡散接合工程において接合のための加熱温度を低下させるとともに、拡散接合の際の変形を表面近傍に限定し、母材の変形を抑制しつつ良好な接合を行うことができる。 - 特許庁

Light emitted by an LED 10_k in a (k)th row has its irradiation range limited to irradiate a diffusion plate 12 above a (k-1)th row and a (k+1)th row adjacent across a mountain part 11b to widths corresponding to the (k-1)th row and (k+1)th row.例文帳に追加

第k行のLED10_kから出射された光は、山部分11bにより隣接する行である第k−1行、第k+1行の上方にある拡散板12の、第k−1行、第k+1行幅に相当するところにそれぞれ照射されるように、光の照射範囲が制限される。 - 特許庁

Like this, by separating functions of the light-incident parts and the diffusion part capable of emitting uniform light, light of each light source of the limited number is made the most use of to a maximum degree, while, an extent of mixture is enhanced, and thus a luminous observation face with a high brightness and uniformity can be obtained.例文帳に追加

このように、光を導入する入光部と均一発光可能な拡散部とを機能分離させることによって、少ない光源数でも各光源の光を最大限に有効利用すると共にこれらの混合性を高め、高輝度で且つ均一は発光観測面を得ることができる。 - 特許庁

To provide an inkjet recording device in which the diffusion of a VOC material to the open air is prevented; and when the VOC material is decomposed and absorbed, not an internal gas in the whole device but a gas in a limited space may be decomposed and absorbed, which is more efficient and can reduce the time required for the VOC decomposition and absorption.例文帳に追加

本発明は、VOC物質の外気への拡散を防ぎ、またVOC物質を分解吸収するときも装置全体の内部気体でなく、限られた空間の気体を分解吸収すればよいのでより効率がよく、VOC分解吸収にかかる時間もより短くできる。 - 特許庁

To provide a light diffusion sheet for fixing a translucent member and a light guide sheet, in which the fixed translucent member is suitably viewed by suitably diffusing only limited light from a light source, especially light from a side direction of the sheet, and in which click feeling of the fixed translucent member is suitably maintained.例文帳に追加

ごく限られた光源からの光、特にシート側方からの光を良好に拡散させることにより固定する透光性部材を好適に視認でき、かつ固定した透光性部材のクリック感を好適に保持できる透光性部材固定用の光拡散シートおよび導光シートを提供する。 - 特許庁

A method for accelerating the output control using a channel state estimation scheme is provided, wherein the estimation of channel state is equivalent to measuring or estimating channel parameters including the speed of a moving station, Doppler diffusion, K factor, the number of multiplexed channels, and the intensity of each of multiplexed channel, but not limited to these parameters.例文帳に追加

チャネル状態推測スキームを用いて出力制御を速める方法であって、チャネル状態推測は、移動局速度、ドップラー拡散、K因子、多重通路の数、各多重通路の強さを含むがこれらに限定されないチャネル・パラメータを計測または推測することに相当する方法を提供する。 - 特許庁

Bonding property of a barrier layer to a foundation dielectric is improved by forming a bonding/interlaminar region (410) of a semiconductor substrate element (404) before deposition of a barrier layer (412), strength to the next mutual connection layer is improved without changing function of a barrier layer, and diffusion of Cu into a dielectric substrate is limited.例文帳に追加

バリア層(412)の堆積前に半導体基板素子(404)の接着/層間領域(410)を形成することによって、下地の誘電体に対するバリア層の接着性を改善し、バリア層の機能を変えることなく、次の相互接続層に対する強度を高め、Cuの誘電体基板内への拡散を制限する。 - 特許庁

To provide an image display device capable of holding a picture quality disturbance level always constant without worsening it due to a cyclic pattern noise appearing when dither processing or error diffusion processing is carried out even if an average picture signal level (APL) continuously varies in an image display device which performs digitally limited half-tone display like a plasma display panel (PDP) display device.例文帳に追加

プラズマ・ディスプレイ・パネル(PDP)表示装置等のデジタル的に限られた中間調表示を行う画像表示装置に関して、平均映像信号レベル(APL)の変化によって、ディザ処理や誤差拡散処理特有の周期的パターンノイズの発生による画質妨害を減少させるようにする。 - 特許庁

The method includes the steps of: (a) preparing the substrate formed from an intermetallic alloy; (b) depositing gold on the surface of the substrate to be protected; and (c) annealing the substrate having the gold coating under a controlled condition so as to induce limited diffusion of gold at the surface to be protected.例文帳に追加

本発明による方法は、a)金属間化合物合金で形成された基材を調製する操作、b)保護する前記基材表面上に金を堆積する操作、c)保護する前記表面への制限された金の拡散を生じさせるために、前記金被膜を備える前記基材に、制御された条件で焼きなましを施す操作を含む。 - 特許庁

When the coating solution 30 is poured into a hydrogen manifold included in the fuel cell stack and into a gas passage 22, pressure difference (PLin-PO) between the pouring pressure PLin and the exhausting pressure PO of the coating solution 30 is limited to lower than capillary pressure (ΔPsuf, max) generating when the coating solution 30 penetrates into the pores of the gas diffusion layer 14.例文帳に追加

燃料電池スタックが備える水素マニホールド内、および、ガス流路22内にコーティング溶液30を注入する際に、コーティング溶液30の注入圧力PLinと排出圧力P0との圧力差(PLin−P0)を、ガス拡散層14が有する細孔にコーティング溶液30が浸入する毛管圧(ΔPsuf,max)未満に制限する。 - 特許庁

例文

In quantization processing in an error diffusion method, a peripheral element, where dots are formed among already quantized peripheral elements in the neighborhood of a pixel under consideration is detected, and the dot formation of the position of the target pixel is limited under the consideration of the density value of the peripheral element before it is quantized, the density value of the pixel under consideration, and a distance between both the elements.例文帳に追加

本発明は、誤差拡散法による量子化処理において、注目画素近傍の既に量子化された周辺画素のうちドットが形成されている周辺画素を検出し、その周辺画素の量子化される前の濃度値と注目画素の濃度値と両画素間の距離とを考慮し、注目画素位置のドット形成に制限を加える。 - 特許庁




  
科学技術論文動詞集
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この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の集積したものであり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。
  
原題:”Homesteading the Noosphere”

邦題:『ノウアスフィアの開墾』
This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.

Eric S. Raymond 著
山形浩生 YAMAGATA Hiroo 訳    リンク、コピーは黙ってどうぞ。くわしくはこちらを見よ。
プロジェクト杉田玄白 正式参加作品。
詳細は http://www.genpaku.org/ を参照のこと。
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