「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

Here, Fig.3 shows typical drawing results when the linear portions of the desired circuit pattern are tilted by a rational number angle from the drawing coordinate axis (Fig.3(a)) and by the irrational number angle (Fig.3(b)).例文帳に追加

図３は、所望の回路パターンの直線部分を描画座標軸から有理数角傾けた場合（図３（ａ））と、無理数角傾けた場合（図３（ｂ））の描画結果を模式的に示している。 - 特許庁

A drawing control section (71) provides driving circuits (27) of a light beam radiating device with drawing data of a scanning range which is shorter than the length in the scanning direction of a pattern to be drawn in the scanning area.例文帳に追加

描画制御部（７１）は、描画するパターンの走査領域における走査方向の長さよりも短い走査範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 - 特許庁

A large-sized drawing direction determining section 54 determines a drawing direction of a stroke pattern from edge strengths in horizontal and vertical directions for each predetermined pixel unit in the Y component of the source image.例文帳に追加

サイズ大描画方向決定部５４は、原画像のＹ成分における所定画素単位毎の水平方向及び垂直方向のエッジ強度から、筆運びパターンの描画方向を決定する。 - 特許庁

To provide an electrically charged particle beam drawing method and an electrically charged particle beam drawing device that draw a desired pattern by performing correction processing with an amount of irradiation corresponding to a film thickness of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜の膜厚に応じた照射量の補正処理を行い、所望のパターンを描画することのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

When a game ball enters a first start port, drawing is performed by a special pattern drawing means 620, and an opening/closing piece is opened and closed by an accessory opening/closing execution means 605 when a small winning is won.例文帳に追加

第１始動口に遊技球が入球すると、特別図柄抽選手段６２０により抽選が行われ、小当たりに当選すると役物開閉実行手段により開閉片が開閉動作する。 - 特許庁

The presence/absence of the establishment of a chance drawing mode is judged when a pachinko ball enters a special pattern start port and the report of "get coins within 5 rotations !!" is displayed when the chance drawing mode is established.例文帳に追加

パチンコ球が特別図柄始動口に入賞したときにはチャンス抽選モードの成立の有無が判定され、チャンス抽選モードの成立時には「５回転以内にコインをゲット！！」の報知表示が行われる。 - 特許庁

In drawing data D3, masks M having the same layout pattern P2 are designated by the same identifier id2, which reduces the burden of creating the drawing data D3.例文帳に追加

また、描画データＤ３中においても、同一のレイアウトパターンＰ２を有するマスクＭは同一の識別子ｉｄ２で指定されるため、描画データＤ３の作成にかかる負担も低減させることができる。 - 特許庁

When the pattern specifying/performance control command, the fanfare command or the ending command means shows the execution of the second re-drawing performance, the second re-drawing performance is carried out by a variable display device 9.例文帳に追加

また、図柄特定／演出制御コマンド、ファンファーレコマンドまたはエンディングコマンドが第２再抽選演出の実行を示しているときに、可変表示装置９で第２再抽選演出を実行する。 - 特許庁

When an entry to a middle start port is detected by a middle start detection means 401, drawing by a first special pattern drawing means 400 is held in a first holding means 428.例文帳に追加

中始動検出手段４０１によって中始動口への入賞が検出されると第１の特別図柄抽選手段４００による抽選が第１留保手段４２８に留保される。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus capable of calibrating an irradiation position at an appropriate time interval considering stability of the apparatus and achieving both of the operation rate and the drawing quality of the apparatus.例文帳に追加

装置の安定度を考慮した適正な時間間隔で照射位置の較正処理を行うことができ、装置の稼働率と描画品質とを両立させることができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for drawing a pattern with a photocurable coating material by which the quality of the design to be drawn on the surface of an object can be improved and the productivity of the drawing can be improved.例文帳に追加

描画対象物の表面に描画される意匠図の品質および描画の生産性を向上させることができる光硬化性塗料描画装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

When there are more than one second suspended ball in the probability variation mode and continuous direction is possible, a continuous direction drawing part 45 determines whether or not continuous direction is performed by drawing on the basis of the read variation pattern and stores a drawing result to the sub-memory 42.例文帳に追加

確変モードで第２保留球が複数あり、連続演出可能な状態である場合、連続演出抽選部４５は、読み出した変動パターンに基づいて連続演出を行うか否かを抽選により決定し、抽選結果をサブメモリ４２に記憶する。 - 特許庁

According to both of the information, a prototype drawing is made for each customer, and a pattern drawing is designed, on the basis of the prototype drawing and the design specifications, whereby the clothing can be manufactured matching the customer's figure and tastes, without having to directly meet the customer or without fitting.例文帳に追加

上記 と の情報に基づいて顧客毎に原型図を作成し、該原型図とデザイン仕様を基にパターン図を設計し、該パターン図により顧客と直接対面する事なしに仮縫いを行わずに顧客の体型、好みに合致する被服を製作する。 - 特許庁

To provide a drawing method, an inkjet head and a drawing apparatus which control occurrence of jaggies and bulge and enable drawing of a pattern of an uniform width on a recording material, a method of manufacturing high-quality printed boards and a method of manufacturing a color filter.例文帳に追加

ジャギーおよびバルジの発生を抑制し、均一な幅のパターンを被記録材上に描画することができる描画方法、インクジェットヘッド、描画装置を提供し、高品質なプリント配線板の製造方法およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The CPU 21 of a main control part 20 acquires a random number for drawing and performs the drawing of jackpot, and when the jackpot is generated by drawing and the patterns of the pattern variable display device 10 are arranged to be predetermined patterns and stopped, a jackpot state is generated.例文帳に追加

主制御部２０のＣＰＵ２１は、抽選用の乱数を取得して大当たりの抽選を行ない、抽選により大当たりが発生し、図柄変動表示装置１０の図柄が予め決められた図柄に揃って停止したとき、大当たり状態が発生する。 - 特許庁

In the drawing device 10 capable of drawing a circuit pattern or the like, an exposure unit 20 is disposed to be movable in a main scanning direction (Y direction), and first and second drawing tables 18A, 18B are arranged side by side to be movable in a sub-scanning direction (X direction).例文帳に追加

回路パターンなどを描画可能な描画装置１０において、１つの露光ユニット２０を主走査方向（Ｙ方向）移動可能に設置し、第１、第２描画テーブル１８Ａ、１８Ｂを副走査方向（Ｘ方向）に沿って移動可能に並んで配置させる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

The surface of a substrate 1, on which a base pattern is formed and a photoresist is applied on the base pattern, is divided into a plurality of segments; the position of the base pattern is detected in each divided segment; and drawing data is created in accordance with the position of the base pattern in each divided segment based on the detection result.例文帳に追加

下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの位置を検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの位置に応じて、描画データを作成する。 - 特許庁

To provide resist ink which is used for the formation of a resist pattern by a direct resist drawing method, and with which a thick resist pattern can be formed easily by receiving less restriction from the viscosity of the ink; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink.例文帳に追加

本発明はレジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、粘度の制約が少なく、厚いレジストパターンを容易に形成できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical element is provided with a light transmissive active matrix liquid crystal display part, a memory part to store a plurality of pattern data for displaying them on the display part, a selection part to select an arbitrary pattern data from the memory part, and a drawing circuit to display a pattern corresponding to the selected pattern data on the display part.例文帳に追加

光透過型のアクティブマトリックス液晶表示部と、前記表示部に表示するための複数のパターンデータを格納する記憶部と、記憶部から任意のパターンデータを選択する選択部と、選択されたパターンデータに対応するパターンを前記表示部に表示させる描画回路とを備える。 - 特許庁

A drawing clock signal Bclk for determining timing of blanking an electron beam is generated based on a time calculated based on distances from a reference position to a drawing start position of starting the drawing of the pattern and a drawing finish position, and a speed of an irradiation position (or incident position) of the electron beam moving along a spiral track STr, when forming the pattern along the spiral track STr.例文帳に追加

スパイラルトラックＳＴｒに沿ってパターンを形成する場合に、基準位置からパターンの描画が開始される描画開始位置及び描画終了位置までの距離と、スパイラルトラックＳＴｒに沿って移動する電子線の照射位置（又は入射位置）の速度とに基づいて算出された時間に基づいて、電子線のブランキングのタイミングを決定する描画クロック信号Ｂｃｌｋを生成する。 - 特許庁

To obtain an exposure device capable of making small a step formed at an oblique contour part of a drawing pattern without increasing original image data.例文帳に追加

オリジナルの画像データを増やさずに、描画パターンの斜め輪郭部に生じる段差を小さくすることができる露光装置を得る。 - 特許庁

In a pattern drawing device, a plurality of datum lines Lr that are fixedly formed on a stage 10 for supporting a substrate W are aligned in a sub-scanning direction X.例文帳に追加

基板Ｗを支持するステージ１０に固定的に形成された複数の基準線Ｌrが副走査方向Ｘに並んでいる。 - 特許庁

The sub control means 60b selects an optional performance pattern in the game wherein information relating to the winning combination drawing result is not received.例文帳に追加

サブ制御手段６０ｂは、役抽選結果に係る情報を受信しなかった遊技では、任意の前記演出パターンを選択する。 - 特許庁

To provide a fixture for body to be drawn, enabling positioning of an accurate and a quick drawing pattern to a mark that is a reference.例文帳に追加

基準となるマークに対する正確かつ迅速な描画パターンの位置決めを可能にする被描画体用の治具を提供とする。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus, a laser beam L1 becomes a laser beam L2 which advances while being contracted after the laser beam L1 is passed through a microlens array 4, and is imparted to a pinhole plate 5.例文帳に追加

レーザ光Ｌ１はマイクロレンズアレイ４を通過後、絞られながら進むレーザ光Ｌ２となって、ピンホール板５に与えられる。 - 特許庁

The manufacturing process of the storage bag is simplified by simultaneously drawing fold lines, when a developed sheet is obtained by punching along a printed pattern.例文帳に追加

印刷した型どおりに型抜きを行なって展開シートを得るときに折筋を同時に設けるようにして製造の簡素化を図る。 - 特許庁

In the case of a ready-to-win state variation pattern in a special state A before reaching the defined number of times of variations, mode fall drawing is performed.例文帳に追加

規定変動回数に達する前の特殊状態Ａにおいてリーチ変動パターンである場合には、モード転落抽選をおこなう。 - 特許庁

Then, the position of a spot pattern is measured by a measuring instrument outside the device and the position coordinate data are stored in a memory in the drawing device.例文帳に追加

そして、装置外の計測器によってスポットパターンの位置を計測し、その位置座標データを描画装置のメモリに格納させる。 - 特許庁

The pattern data which is the output data of the drawing software is sent to the ordering production system 1 and used for cake processing in a processor 3.例文帳に追加

ドローソフトの出力データである模様データは注文生産システム１に送られ、加工装置３でのケーキ加工処理に利用される。 - 特許庁

Linear portions of a desired circuit pattern are drawn on resist while tilted by an irrational number angle from a drawing coordinate axis or a scanning direction.例文帳に追加

所望の回路パターンの直線部分を描画座標軸もしくはスキャン方向から無理数角傾けてレジスト上に描画する。 - 特許庁

When the pattern is drawn by multiple drawing, figures divided in the first pass are used for distribution to sub-field areas in the second and following passes.例文帳に追加

多重描画でパターンを描画する場合、１パス目に分割された図形を、２パス目以降のサブフィールド領域への振り分けに用いる。 - 特許庁

Disclosed is the pattern drawing device having, as an optical control element, a plurality of two-dimensionally arrayed micromirrors of the micromirror device 107.例文帳に追加

マイクロミラーデバイス１０７における二次元配列された複数のマイクロミラーを光制御素子として有するパターン描画装置である。 - 特許庁

When the drawing result satisfies specified conditions, the control board variably displays all the pattern rows 11 to 13 at a high speed all at once.例文帳に追加

抽選結果が所定の条件を満たしていると、制御基板は全図柄列１１〜１３を一斉に高速で変動表示させる。 - 特許庁

To eliminate effects of ununiformity of a lower wiring structure such as a step, etc., when a photoresist pattern is formed by electron beam linear drawing.例文帳に追加

電子線直描によりフォトレジストパターンを形成するに際して、段差等の下層配線構造の非一様性の影響を除去する。 - 特許庁

Thereafter, a second photoresist film 35 is formed on the substrate 31, and a device pattern is drawn by the drawing machine adjusted in correction parameter.例文帳に追加

その後、基板３１上に第２のフォトレジスト膜３５を形成し、補正パラメータを調整した描画機によりデバイスパターンを描画する。 - 特許庁

Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask.例文帳に追加

さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁

To extract the drawing of a vertex intentionally performed by a user, by a simple processing without preparing a graphic collation pattern.例文帳に追加

図形の照合パターンを用意しなくても，ユーザの意図的な頂点の描画を簡易な処理で抽出することができるようにする。 - 特許庁

To provide a digital mirror device (DMD) pattern drawing apparatus which uses a high-accuracy and inexpensive microlens array causing no attenuation of exposure light.例文帳に追加

露光光の減衰がなく、高精度で安価なマイクロレンズアレーを使用するデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）パターン描画装置を提供する。 - 特許庁

There is 'kakiage-yuzen,' which is a dyeing technique of drawing a pattern directly on a white cloth with a brush without using the resisting technique. 例文帳に追加

糊置き防染の技法を用いず、直接白生地に絵筆にて絵柄を施す染色法として「描上友禅（かきあげゆうぜん）」がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a technology by which contact between a base and a floating part is prevented or suppressed to a minimum in a pattern drawing device.例文帳に追加

パターン描画装置において、基部と浮上部との接触を防止あるいは最小限に止めることができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique which achieves pattern drawing of high precision, on the basis of the relative position of an irradiating mechanism to a substrate.例文帳に追加

照射機構と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a prescribed jackpot variation pattern command is transmitted to a sub control part 300 according to the jackpot drawing result of the main control part 200, the sub control part 300 draws one jackpot variation pattern command from the variation pattern command and the other jackpot variation pattern commands corresponding to the variation pattern command and transmits it to a performance pattern control part 400.例文帳に追加

主制御部２００の大当たり抽選結果に応じて所定の大当たり用変動パターンコマンドがサブ制御部３００に送信されてきたときは、サブ制御部３００は、この変動パターンコマンドとこの変動パターンコマンドに対応する他の大当たり用変動パターンコマンドのなかから１つの大当たり用変動パターンコマンドを抽選して演出図柄制御部４００に送信する。 - 特許庁

A selecting part 505 selects a special variation pattern having a variation time which is different from the normal variation pattern when the normal game state is set in the game state setting part 504, and a winning drawing to the special second reserved ball is performed by the drawing part 502.例文帳に追加

選択部５０５は、遊技状態設定部５０４に通常遊技状態が設定されており、且つ、抽選部５０２によって特２保留球に対する当たり抽選がおこなわれた場合、通常の変動パターンとは異なる変動時間を有する特殊変動パターンを選択する。 - 特許庁

The drawing data with a corrected design pattern in each correction cell is produced based on the pattern area rate in the peripheral region around each correction cell and on the proximity correction data obtained for each pattern area rate (ST7, ST8).例文帳に追加

各補正セルを中心とした周辺領域内におけるパターン面積率と、前記パターン面積率毎に得た近接効果補正用データとに基づいて、当該補正セル毎に設計パターンを補正した描画データを作成する（ＳＴ７，ＳＴ８）。 - 特許庁