「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The electron beam lithography is for drawing a specified pattern on a blank with an electron beam scanned over the blank.例文帳に追加

基材に対して電子ビームを走査することにより前記基材に所定の描画パターンを描画する電子ビーム描画である。 - 特許庁

A pattern formed of a plurality of specific signals corresponding to the plurality of marking positions are arranged on the displayed CAD drawing (S2).例文帳に追加

表示したＣＡＤ図面中に、複数の墨位置に対応する複数の特定記号からなるパターンを配置させる（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide an exposure drawing device wherein an alignment mark required to draw a circuit pattern is formed on a second surface of a substrate.例文帳に追加

回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の第２面に形成するようにする露光描画装置を提供する。 - 特許庁

When a pattern variation start condition is established, drawing for the first start information or the second start information is executed.例文帳に追加

図柄の変動開始条件が成立すると、第１始動情報または第２始動情報についての抽選が行われる。 - 特許庁

To enable necessary sufficient information to be printed to specify a mounting position or the like of a feather pattern material from CAD drawing information.例文帳に追加

ＣＡＤ図面情報から羽柄材の取付位置等を特定するのに必要十分な情報を印字できるようにする。 - 特許庁

EL LAMINATE DIELECTRIC STRUCTURE AND FORMING METHOD OF THE SAME, AND LASER PATTERN DRAWING METHOD, AND DISPLAY PANEL例文帳に追加

ＥＬラミネート誘電層構造体および該誘電層構造体生成方法ならびにレーザパターン描画方法およびディスプレイパネル - 特許庁

To provide a novel radiator core support structure for a hybrid type vehicle solving a problem regarding a pattern drawing of a reinforcement rib.例文帳に追加

補強リブの型抜きに関する問題を解決した新たなハイブリッド型の車両用ラジエータコアサポート構造の提供を図る。 - 特許庁

To enhance productivity in the work of drawing a pattern on a workpiece by reducing a waiting time needed for starting another line.例文帳に追加

ワークへのパターンの描画作業において、改行動作を行うための待ち時間の短縮を図り、生産性を向上させる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing mechanism for a molding machine for a mold that can obtain a desired vibration force by even a comparatively small vibrator.例文帳に追加

比較的小型のバイブレータでも所要の振動力を得ることができる鋳型造型機の型抜き機構を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing method with higher accuracy by correcting, by an irradiation time, an influence on a pattern dimension due to beam leakage and a foot of a beam profile (including a foot of an energy accumulated in a resist) in relation to a drawing method of an electron beam drawing device and to the electron beam drawing device.例文帳に追加

本発明は電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置に関し、ビーム漏れとビームプロファイルのすそ野（レジスト中に蓄積するエネルギーのすそ野を含む）によるパターン寸法への影響を照射時間で補正することにより、より高精度の描画方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The performance drawing means 420 includes a performance re-drawing means 422 for repeating the performance drawing every time the start switch 70 is operated in a state that the start switch 70 is not used for operation to start variable display of a pattern and within a preset performance re-drawing period (15 seconds, for example).例文帳に追加

演出抽選手段(420)には、図柄の可変表示の開始の操作にスタートスイッチ(70)が用いられていない状態で、且つ予め設定された演出再抽選期間（例えば１５秒）内に、当該スタートスイッチ(70)が操作される度に、演出抽選を繰り返して実行するための演出再抽選手段(422)を備える。 - 特許庁

To provide a master disk for magnetic transfer having a reference servo pattern for transfer suitable for a method for scanning and drawing an electron beam in an circumferential direction corresponding to a reference servo signal of a spiral system; to provide a drawing method of a pattern for magnetic transfer; and to provide a magnetic recording medium to which the magnetic transfer pattern is transferred.例文帳に追加

スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

When there is drawing processing put on hold when the variable display of the identification pattern 1153 is stopped, the identification pattern 1153 is variably displayed corresponding to the result of the drawing processing put on hold successively after the stopped variable display of the identification pattern 1153.例文帳に追加

この識別図柄１１５３の変動表示の停止時に保留の状態とされている抽選処理があるときは、当該停止された識別図柄１１５３の変動表示の後に、保留の状態とされている抽選処理の結果に応じた識別図柄１１５３の変動表示が立て続けに行われる。 - 特許庁

To provide photosensitive resist ink which is used for forming a resist pattern by a direct resist drawing method and has sufficiently high resist pattern curing speed, etching resistance, peelability, etc., and with which the manufacturing yield and manufacturing time of a conductor pattern can be improved; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board.例文帳に追加

レジスト直描方式を用いたレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、レジストパターンの硬化速度、耐エッチング性、剥離性等が十分で、導体パターンの製造歩留まりや製造所要時間が満足のいく、感光性レジストインクを提供し、レジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern controller receives and analyzes the pattern variation command transmitted from the main controller and establishes a single variation pattern corresponding to hit out information by drawing lots and controls pattern variations based on the variation pattern over a period directed by the variation time information.例文帳に追加

図柄制御手段は、主制御手段から送信される図柄変動コマンドを受信し、その図柄変動コマンドを解析し、当たり外れ情報に対応する１つの変動パターンを抽選により設定し、その変動パターンに基づいて変動時間情報で指示される時間に亙って図柄変動制御する。 - 特許庁

The method for drawing the fine pattern comprises putting a paper pattern expressing a proper pattern on a denim cloth, coating a chemical paste from above the paper pattern, sufficiently drying the paste, decoloring the denim cloth 1, and cleaning the remaining paste to draw the pattern 2 with the color of the denim cloth 1 before the decoloration at the part coated with the paste.例文帳に追加

適宜模様を表現した型紙をデニム地上に置き、前記型紙の上から化学のりを塗布し、前記のりを十分に乾燥させた後デニム地１を脱色し、残ったのりを洗浄することにより、前記のり塗布部分に当該デニム地１の脱色前の色にて前記模様２を描出することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an resist ink for forming a resist pattern using a direct resist drawing system for achieving smaller number of resist pattern forming steps, sufficient etching resistance of the resist pattern, and a satisfactory manufacturing yield and required manufacturing time for a conductor pattern, and provide a method for manufacturing a conductor pattern and a printed wiring board using the ink.例文帳に追加

レジストパターンの形成工程が少なく、レジストパターンの耐エッチング性が十分で、導体パターンの製造歩留まりや製造所要時間が満足のいく、レジスト直描方式を用いたレジストパターン形成用レジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a mask 1 for drawing disclosed electron beams, a membrane structure 2 where a donut-like pattern (a pattern in an endless shape) 4 is formed, and a stencil structure 3 where a pattern in a straight line shape (a pattern other than the pattern in an endless shape) 5 is formed are bond by an insulating resin or the like such as resin in one piece.例文帳に追加

開示されている電子線描画用マスク１は、ドーナッツ形状パターン（無端形状パターン）４が形成されたメンブレン構造体２と、直線形状パターン（無端形状パターン以外のパターン）５が形成されたステンシル構造体３とが、樹脂等の絶縁性接着剤等により貼り合わされて一体化されている。 - 特許庁

TOOL FOR MEASURING PARTS DIFFICULT TO BE MEASURED IN MEASURING DIMENSIONS OF PARTS OF BODY NECESSARY FOR DRAWING CLOTHING, AND BODY FITTING PATTERN ALONG BODY FROM BODY TO HIP LINE, AND TIGHT PATTERN OF SLEEVE例文帳に追加

衣服の製図に必要な体の各所の寸法で、計測しにくい部分を計測する計測器と、身頃からヒップラインまで体に添わせた身頃フィット原型と袖のタイト原型。 - 特許庁

A state of (B) is turned to a state of (C) by applying a drawing color to an allocation line pattern of a line length of a violation value (hereinafter, "violating line length") in each wiring pattern of a wiring path as an error display.例文帳に追加

（Ｂ）の状態から、配線パスの配線パターンごとに、違反値の線長（以下、「違反線長」）分配線パターンに描画色を施してエラー表示とすることで、（Ｃ）の状態となる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus and a method therefor which can easily make a film thickness of a pattern constant by a method other than controlling a discharge speed by controlling a drive voltage.例文帳に追加

駆動電圧を制御することによる吐出速度を制御する以外の方法にて、パターンの膜厚を簡易に一定にし得るパターン描画装置及びパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development loading correction method which is capable of accurately correcting dimension variations due to development loading even in the case of a photomask having a close pattern region, and a pattern drawing device.例文帳に追加

密なパターン領域を持つフォトマスクであっても、現像ローディングによる寸法変動を精度良く補正できる現像ローディング補正方法およびパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

The oldest first drawing result is checked if it is a normal big win at S2527 when a second special pattern is not in a fluctuation state of a normal big win pattern (NO at S2523).例文帳に追加

第２特別図柄が通常大当たり図柄の変動中でなければ（Ｓ２５２３でＮＯ）、Ｓ２５２７にて最古の第１抽選結果が通常大当たりであるかを確認する。 - 特許庁

When the game ball has entered a starting winning port 103, and the variation of patterns of the special pattern- displaying device 102 has started, a drawing by a winning random number of a special pattern is performed.例文帳に追加

遊技球が始動入賞口１０３に入賞して、特別図柄表示装置１０２の図柄が変動開始されると特別図柄の当たり乱数による抽選が行われる。 - 特許庁

To provided a pattern forming apparatus which draws a resist pattern with a plurality of ink jet printers, and can easily suppress the variation of drawing condition due to gravity by each ink jet printer.例文帳に追加

複数のインクジェットプリンタでレジストパタンを描画し、各インクジェットプリンタによる描画の状態の、重力に起因するばらつきを抑制することが容易なパタン作製装置を提供する。 - 特許庁

Then the 2nd pattern data are sent from the CAD system to an electron beam drawing device and a specific area of resist applied onto the reticle is irradiated with an electron beam according to the 2nd pattern data.例文帳に追加

次に、その第二パターンデータをＣＡＤシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に照射する。 - 特許庁

In the case that the variation result of the special pattern is a chance spot, the hitting direction annunciator 42 becomes in the lighted state when the variation of the special pattern for N times decided by drawing is completed.例文帳に追加

特別図柄の変動結果がチャンス目である場合には、抽選によって決められたＮ回の特別図柄の変動が完了すると、発射方向報知器４２が点灯状態になる。 - 特許庁

Then, corresponding to the storage value of the small prize pattern navigation counter, processing of determining whether or not to execute a reporting performance in the game in which a special small prize pattern is won in internal drawing is performed.例文帳に追加

そして小役ナビカウンタの記憶値に応じて、内部抽選で特殊小役が当選した遊技において報知演出を実行するか否かを判定する処理を行う。 - 特許庁

In occurrence of the right of probability variation as the result of getting probability variation winning, the number of times of execution (the number of time of starting) of pattern variation of a special pattern display part 13 is set as the period of the probability variation by drawing.例文帳に追加

確変当たりとなり確変の権利が発生すると、抽選により確変の期間として特別図柄表示部１３の図柄変動の実行回数（スタート回数）が設定される。 - 特許庁

In a pattern drawing device 1, the pixel pattern of a liquid crystal display device is drawn in a drawing region by relatively moving an irradiation region by light from a first light irradiation unit 4 with respect to a substrate 9 having a negative photosensitive material formed on the main surface.例文帳に追加

パターン描画装置１では、ネガ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して、第１光照射部４からの光の照射領域を相対移動することにより、描画領域に液晶表示装置の画素パターンが描画される。 - 特許庁

To solve the problem, an image processing apparatus converts a targeted pattern into the transmission object when the pattern is determined to be converted into the transmission object after drawing logic sequence decision, drawing region decision and transmission conversion decision are performed.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明は、描画論理順序判定をし、描画領域判定をし、 透過変換判定をおこない、透過に変換すべきと判断された場合に、対象パターンを透過オブジェクトへ変換するパターン変換することを特徴とする。 - 特許庁

A rectangular test pattern is actually drawn in the drawing apparatus to obtain test pattern images 91a to 91f influenced by the distortion of the reflection faces or the like, and an object drawing region 92 is set in a common region 911 that is independent from the reflection faces.例文帳に追加

描画装置では矩形のテストパターンを実際に描画して反射面等の歪みの影響を受けたテストパターン画像９１ａ〜９１ｆが取得され、反射面に依存しない共通領域９１１内に対象描画領域９２が設定される。 - 特許庁

To provide the pattern drawing method and an apparatus for charged particle beam lithography system, capable of accurately performing proximity effect corrections on the peripheral portion of patterns, regarding the pattern drawing method and the apparatus for the charged particle beam lithography system.例文帳に追加

本発明は荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画方法及び装置に関し、パターンの周縁部分の近接効果補正を正確に行なうことができる荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the light quantity of each drawing unit while suppressing costs, in exposure using a digital exposure device with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a pattern drawing device directly forming a circuit pattern, a measuring plate on which a complete set of line sensors composed of a first line sensor along a secondary scanning direction and a second line sensor along a main scanning direction is disposed is placed on a drawing table in place of a print-circuit board.例文帳に追加

直接回路パターンを形成するパターン描画装置において、プリント基板の代わりに、副走査方向に沿った第１ラインセンサ、主走査方向に沿った第２ラインセンサから構成されるラインセンサ一式を配置した計測板を描画テーブルに設置する。 - 特許庁

To speedily and highly precisely draw a pattern by improving drawing quality without increasing the quantity of drawing data when a pattern is drawn on a substrate by performing a multiple exposure using a spatial optical modulator in which a plurality of mirrors are arrayed in two directions orthogonal to each other.例文帳に追加

複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing device and a method which are maintenance-free and capable of forming an optional pattern by each shot and drawing it on a specimen at a high speed without providing a stencil on which a cell pattern is previously formed in the optical path of an electron beam.例文帳に追加

予めセルパターン形成されたステンシルを電子ビームの光路中に設置することなく、任意のビームパターンをショットの都度に成形して、高速にメンテナンスフリーで試料上に描画することが可能な電子ビーム描画装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

The stage driving unit for a charged beam drawing device uses the charge beam drawing device for forming a circuit pattern of a semiconductor device on the surface of the substrate and positions a stage where the substrate is installed when forming a circuit pattern.例文帳に追加

本発明は，従来の問題に対処し、粒子線ビーム描画装置などにおいて基板上にパターンを描画するにあたり，ステージの振動低減による位置決め精度の向上を図ることにより、基板のパターン描画位置精度を向上させるようにしたものである。 - 特許庁

SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING METHOD AND ITS DEVICE, SOLID DATA, FILE FOR SOLID SHAPE CONTROL, SOLID SHAPE PROJECTION FILE, OR RECORDING MEDIUM WITH RECORDED LINE DRAWING RELIEF PATTERN GENERATING PROGRAM例文帳に追加

立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成方法とその装置、並びに立体データ、立体形状制御用ファイル、立体形状投影ファイル、又は線画レリーフ模様作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

Also, when it is determined that a left pattern to be a complete failure is identical to the determined selection pattern selected by the operation button 66 (S210: YES), drawing is performed to determine whether or not a final stop pattern is acquired again (S211).例文帳に追加

また、完全ハズレとなる左図柄が操作ボタン６６により選択された確定選択図柄と同じであると判断した場合には（Ｓ２１０：ＹＥＳ）、最終停止図柄を再取得するか否かの抽選を行う（Ｓ２１１）。 - 特許庁

The game control means 100 is provided with a game result drawing means 110, a presentation pattern selection means 120, a pattern variable display control means 130, a special game control means 140 and a stop pattern advance announcement means 150.例文帳に追加

遊技制御手段１００には、遊技結果抽選手段１１０と、演出パターン選択手段１２０と、図柄可変表示制御手段１３０と、特別遊技制御手段１４０と、停止図柄予告手段１５０とを備える。 - 特許庁

To provide a method for drawing a fine pattern on denim cloth by which the fine pattern such as Komon (a Japanese fine pattern) can clearly be drawn on the thick denim cloth having unevenness while keeping the feeling originally possessed by the denim cloth.例文帳に追加

小紋のような細かい模様を、凸凹があって厚手のデニム地に、デニム地本来の風合いを保ちつつ鮮明に描出することを可能にした、デニム地への繊細模様描出方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

When it is determined that a left pattern to become a complete failure is determined to be the same as a determined selection pattern selected by the operation button 66 (S210: YES), drawing is performed to determine whether or not to acquire a final stop pattern again (S211).例文帳に追加

そして、また、完全ハズレとなる左図柄が操作ボタン６６により選択された確定選択図柄と同じであると判断した場合には（Ｓ２１０：ＹＥＳ）、最終停止図柄を再取得するか否かの抽選を行う（Ｓ２１１）。 - 特許庁

The pattern drawing device controls, in a drawing process, the position of a stage on the basis of a position parameter measured by first and second interferometers and on the basis of a given environmental parameter (in a fixed value mode).例文帳に追加

パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。 - 特許庁

To provide a drawing device which allows high definition while sufficiently making use of the characteristic of photocurable ink to enable drawing with excellent desired color tone in that of a pattern or the like.例文帳に追加

光硬化型インクの特性を十分に活かして高精細化が可能になり、模様等の色調についても所望した通りの良好な色調で描画することができる描画装置を提供する。 - 特許庁