「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

In the pattern drawing device 100, two wavelength conversion type laser devices 104a and 104b are used as light sources.例文帳に追加

パターン描画装置１００では２台の波長変換型レーザ装置１０４ａ、及び１０４ｂが光源として用いられる。 - 特許庁

The detailed works such as drawing antennas of a butterfly, painting the eyes of a bird, or making gradation, are performed after peeling off the glue which covered the pattern. 例文帳に追加

蝶の触覚、鳥の目の書き入れ、ぼかし等細かい行程は文様を覆った糊を剥がした後に行う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

By this, a decoration ring 11 is raised and formed by drawing simultaneously as a decoration pattern part 13 is formed.例文帳に追加

これにより、加飾リング１１が絞り加工により隆起形成されると同時に、装飾パターン部１３が形成される。 - 特許庁

To accurately and automatically adjust a drawing pattern of a 2nd mask process to a desired angle of rotation for the orientation flat of a wafer.例文帳に追加

自動的に第２マスク工程の描画パターンをウェハのオリフラに対して所望の回転角に正確に合わせる。 - 特許庁

To provide a creating method and apparatus of drawing data for making short the movement distance of a stage that moves in a field unit in pattern drawing due to an electron beam, drawing data, a drawing method, a mask and its manufacturing method, a semiconductor device and its manufacturing method, a program for drawing data creation, and a computer readable record medium where the program is recorded.例文帳に追加

電子線によるパターン描画の際にフィールド単位に移動するステージの移動距離をより短くする描画データの作成方法及び装置、描画データ、描画方法、マスク及びこの作成方法、半導体装置及びこの製造方法、描画データ作成用プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The drawing position control system for a drawing apparatus having a circular pattern generator 21 comprises controlling the generator 21 so as to deviate the drawing start position of a circle from the drawing start position of another circle in proximity to the above circle in drawing a plurality of the circles having the same center and different radii by using the generator 21.例文帳に追加

この発明は、円パターン発生装置２１を有する描画装置の描画位置制御方式において、円パターン発生装置２１を用いて、同一の中心を持ち半径の異なる複数の円を描画する際に、円の描画開始位置を該円に近接する別の円の描画開始位置からずらすように円パターン発生装置２１を制御するものである。 - 特許庁

By stroke drawing means, drawing strokes, specified corresponding to movement of an electronic pen to a writing medium on which a dot pattern is printed, are drawn inside a page of a processing object.例文帳に追加

ストローク描画手段により、ドットパターンが印刷された書き込み媒体に対する電子ペンの移動に応じて特定される描画ストロークが、処理対象のページ内に描画される。 - 特許庁

To reduce difference between a drawing area of an input image and a graphic image included in a hatching pattern as small as possible when applying hatching to the drawing area of the input image.例文帳に追加

入力画像の描画領域にハッチング処理を施す際に、そのハッチングパターンに含まれる図形画像と入力画像の描画領域との間のずれをできるだけ小さくする。 - 特許庁

To provide an electron beam detector and an electron beam drawing technology using it wherein an effective range of an opening pattern on a scattered body is made large and drawing with a high precision is possible.例文帳に追加

散乱体上の開口パターンの有効な範囲を広くし、高精度な描画を可能にする電子ビーム検出器とそれを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁

When a different substrate needs to be transferred to a handling chamber while a pattern that does not require high drawing precision is drawn, the transfer process is performed concurrently with the drawing process continued.例文帳に追加

高い描画精度が必要とされないパターンの描画中に処理室への他の基板の搬送が必要となった場合、描画処理を続けた状態で搬送処理を並行して行う。 - 特許庁

An image processing unit 21 which provides the drawing data to the exposure part 17 changes the drawing data between the first period and the second period such that the same pattern is drawn on each substrate 11.例文帳に追加

露光部１７に描画データを与える画像処理ユニット２１は、各基板１１に同一パターンが描画されるように、第１期間と第２期間とで描画データを変更する。 - 特許庁

To provide a drawing pattern multiplexing apparatus or the like used in production of an anisotropic reflection medium which is formed by aggregate of cells having anisotropic reflection characteristics and in which a plurality of drawing patterns are multiplexed.例文帳に追加

異方性反射特性を有するセルの集合により形成され、複数の図柄が多重化される異方性反射媒体の作製に用いる図柄多重化装置等を提供する。 - 特許庁

To realize a game machine in which a player can have a feeling of drawing for himself by carrying out drawing and the start of the change display of a special figure pattern by operation of the player.例文帳に追加

抽選と、特別図柄の変動表示の開始とを遊技者の操作により実行することにより、遊技者が自らクジを引いた感覚になることができる遊技機を実現する。 - 特許庁

To provide a laser drawing device capable of drawing a pattern of submicron size on a cylindrical metal mold or a disk-like metal mold which can seamlessly perform printing, transcription faithfully to an original image.例文帳に追加

シームレスに印刷・転写可能な円筒状金型または円盤状金型にサブミクロンサイズのパターンを原画に忠実に描画することが出来るレーザー描画装置を提供すること。 - 特許庁

Then block run length data is corrected with drawing data corresponding to a correction amount for correcting a position shift of each block pattern, and drawing processing is executed based upon the block run length data.例文帳に追加

そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。 - 特許庁

Drawing is performed when a game ball enters a start port, and the drawing result is indicated to a player by the variable display of an identification pattern 1153 appearing on a performance image display device.例文帳に追加

始動口に入賞すると抽選が行われ、この抽選結果は、演出画像表示装置に現れる識別図柄１１５３の変動表示によって遊技者に教示される。 - 特許庁

A pattern of projecting section 12 is formed on an edge section of each of signal terminals 8, 9 and 10, and a corner part in a drawing pattern of each of the signal terminals 8, 9 and 10 is made into a curved pattern shape.例文帳に追加

各信号端子８、９、１０の先端部に尖状部１２をパターン形成するとともに、前記各信号端子８、９、１０の引き廻しパターンにおけるコーナー部を曲線状のパターン形状とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which are capable of improving the uniformity of pattern sizes independent of a position within the surface of a substrate to be processed and inhibiting variations in pattern sizes due to a pattern drawing density.例文帳に追加

被処理基板の面内位置によるパターン寸法の均一性向上及びパターン描画密度によるパターン寸法のバラツキを抑制することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

A data control unit 8 reads the drawing pattern data, supplies the pattern position data Xn included in the pattern data to an adder 14 in a position correcting circuit 15, and supplies the shot time data Tn to a correcting table 13.例文帳に追加

データコントロール部８は描画パターンデータを読み出し、そのパターンデータに含まれているパターン位置データＸｎを位置補正回路１５内の加算器１４に供給し、ショット時間データＴｎを補正テーブル１３に供給する。 - 特許庁

To provide a length measuring instrument and length measuring method capable of measuring the slippage of a connection part in an actual pattern without requiring a measuring pattern in the measurement and inspection of the slippage of the connection part generated in the drawing or transfer of a pattern.例文帳に追加

パターンの描画あるいは転写時に発生した接続部のズレの測定・検査に際して、測定用のパターンを必要とせず、実パターンで接続部のズレが計測できる測長器および測長法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, since the first bank pattern and the second bank pattern are electrically insulated, effect of enlarging applications of the concave portion such as drawing out of an inner layer wiring pattern to the concave portion side is achieved.例文帳に追加

さらに、第１堰堤パターン及び第２堰堤パターンが、電気絶縁性に構成されているので、例えば、凹部側への内層配線パターンの引き出しが可能になるなど、凹部の用途を拡大できるという効果がある。 - 特許庁

For example, the pattern 8c is composed of characters of 'a big prize', and the pattern 8d is composed of characters of 'a miss', and when indicating a tip part of a rotary body 22 toward the pattern 8c, the lot-drawing result means the big prize, and becomes clear.例文帳に追加

例えば図柄８ｃは『大当り』の文字からなり、図柄８ｄは『ハズレ』の文字からなるが、回転体２２の先端部を図柄８ｃに向けて指示すれば抽選結果が大当たりを意味するので明確になる。 - 特許庁

A display configuration determining unit 26a determines a pattern combination for drawing which is stop-displayed by a pattern displaying device 12 by using a pattern data table based on the winning judgement result.例文帳に追加

表示態様決定部２６ａは、当り判定結果に基づく図柄データテーブルを用いて、図柄表示装置１２で停止表示させる抽選用図柄の組み合わせ及びリーチ演出として表示させるアニメーションを決定する。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 uses a plurality of low-output short arc lamps for the light source, and beams from the plurality of light sources in the lamp house 6 are combined into a single path by the bundle fiber 41 and are guided to the drawing heads 40, which simplifies the device structure and results in an inexpensive pattern drawing device.例文帳に追加

パターン描画装置１では、光源に複数の小出力ショートアークランプを使用し、ランプハウス６内の複数の光源からの光をバンドルファイバ４１により１つの経路に合成して描画ヘッド４０に光を導くことで、装置構造を簡素化して安価なパターン描画装置を提供することができる。 - 特許庁

An inexpensive pattern drawing device is provided by using an extra-high pressure mercury lamp as a light source in the pattern drawing device 1, guiding light from the light source to the plurality of drawing heads 40 while branching a path of the light from the light source in the lamp house 6 into a plurality of paths with the bundle fiber 41, and consequently simplifying the device structure.例文帳に追加

パターン描画装置１では、光源に超高圧水銀ランプを使用し、ランプハウス６内の光源からの光の経路をバンドルファイバ４１により複数の経路に分岐して複数の描画ヘッド４０に光を導くことで、装置構造を簡素化して安価なパターン描画装置を提供することができる。 - 特許庁

In the fine line drawing method, a fine pattern is formed on a substrate by prior drawing of flying and adhering a fine fluid composed of a material capable of generating electric field concentration to the substrate with the use of an electric field, and subsequently, main drawing of flying and adhering a fine fluid onto the fine pattern with the use of an electric field is carried out.例文帳に追加

電界を用いて、電界集中を起こすことが可能な材料からなる微細流体を基板へ飛翔付着させる先描画によって基板上に微細パターンを形成し、続いて、該微細パターン上に、電界を用いて、微細流体を飛翔付着させる本描写を行う微細線描写方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for adjusting a drawing condition to reliably decrease changes in the line width of an image pattern when the image pattern is drawn on an image recording medium by using a plurality of two-dimensionally arranged drawing elements.例文帳に追加

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じる線幅変動を確実に低減させることのできる描画状態調整方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Next, the drawing pattern multiplexing apparatus 1 projects the three-dimensional shape relating to the drawing pattern onto a projection plane by a normal information recording means 25, and records the elevation and azimuthal angle relating to the normal direction of each projected pixel as normal information.例文帳に追加

次に、図柄多重化装置１は、法線情報記録手段２５によって、図柄に係る三次元形状を投影面に投影し、投影された各画素の法線方向に係る仰角および方位角を法線情報として記録する。 - 特許庁

Thus, an increase in a communication load and a processing load between the main control device and the performance pattern control device is restrained, and a performance based on read-ahead determination for the drop drawing and jackpot drawing is performed by the performance pattern control device.例文帳に追加

これにより、主制御装置と演出図柄制御装置との間の通信負荷や処理負荷の増加を抑えつつ、演出図柄制御装置にて転落抽選と大当り抽選についての先読み判定に基づく演出を行う。 - 特許庁

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5.例文帳に追加

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。 - 特許庁

When the prescribed result is attained by the second drawing, a second display control means variably displays a second pattern in long-term variation time including at least two or more times of the variation time of a first pattern based on the result of first drawing.例文帳に追加

第２表示制御手段は、第２抽選により所定結果となったときに、少なくとも第１抽選の結果に基づく第１図柄の変動時間が複数回包含される長期変動時間にて第２図柄を変動表示させる。 - 特許庁

For this purpose, the drawing data of the basic pattern consisting of one recessed groove 26 and one projected line 27 is formed as a basis, and the patterns consisting of the recessed grooves 26 and the projected lines 27 varying in the pitches are continuously drawn by changing the scale of the drawing data of the basic pattern.例文帳に追加

そのために、１つの凹溝２６と凸条２７からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えてピッチが異なる凹溝２６と凸条２７からなるパターンを連続的に描画する。 - 特許庁

A center accessory 22 provided in a Pachinko machine 1 has a special game state drawing part S_1 and a continuation pattern drawing part S_2, and thus it is possible to make a player playing while looking at the flow of game balls inside the center accessory realize the conditions of mechanically performing the drawing of the special game state and the drawing of a continuation pattern by the game ball.例文帳に追加

パチンコ機１に備えたセンター役物２２が、特別遊技状態抽選部Ｓ_１と継続パターン抽選部Ｓ_２とを有することにより、センター役物２２内の遊技球の流れを見ながら遊技している遊技者に、当該遊技球により特別遊技状態の抽選と継続パターンの抽選とが機械的に行われる状況を実感させることができる。 - 特許庁

A signal pattern creating device includes an edition region setting means for setting a region specified in a region where a signal pattern can be edited, a signal pattern list display means for displaying a list of component signal patterns on a screen, and a signal pattern drawing means for drawing a signal pattern selected from among the signal pattern list, displayed on the screen in the edition region set by the setting means.例文帳に追加

信号パターンの編集可能領域内で指定された領域を編集領域として設定する編集領域設定手段と、部品化された信号パターンのリストを画面に表示させる信号パターンリスト表示手段と、画面に表示された信号パターンリストの中から選択された信号パターンを前記編集領域設定手段により設定された編集領域に描画する信号パターン描画手段とを装備する。 - 特許庁

Thus, metal ink droplets jetted to the drawing region of the drawing surface 18a do not wetly expand to the outside from the drawing region having affinity for liquid, but remain in a region Z1 having affinity for liquid, and a highly precise wiring pattern can be formed.例文帳に追加

従って、描画面１８ａの描画領域に吐出された金属インクの液滴は、親液性の描画領域から外へ濡れ広がらず親液性の領域Ｚ１内に留まることから、高精細な配線パターンを形成することができる。 - 特許庁

Copper foil and resist are laminated on a substrate, drawing is directly performed by using the width of the pattern line specified by pattern data for machining for exposure, the exposed resist is developed for forming a resist pattern, and the copper foil on the substrate is etched for forming a formation pattern.例文帳に追加

基板上に銅箔およびレジストを積層し、加工用パターンデータにより指定されたパターン線の線幅を用いて直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、基板上の銅箔をエッチングして形成パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern shape prediction program and a pattern shape prediction system, capable of confirming a pattern shape, with no actual electron beam lithography, when manufacturing a mask pattern by utilizing a shot shape arrangement drawing data in which a dose amount is corresponded for each shot shape.例文帳に追加

ショット形状毎にドーズ量を対応付けたショット形状配列描画データを利用してマスクパターン等を製造する場合に、実際に電子線描画することなく、パターンの形状を確認できるパターン形状予測プログラム、パターン形状予測システムを提供する。 - 特許庁

At the time of deciding that prescribed pattern fluctuation is to be displayed at the pattern display device 23 by drawing, the drawn pattern fluctuation is displayed in the first display area 23a and the pattern fluctuation selected by the player is displayed in the second display area 23b.例文帳に追加

抽選で所定の図柄変動を図柄表示器２３に表示することを決定すると、第１表示領域２３ａには抽選された図柄変動が表示され、第２表示領域２３ｂには遊技者によって選択された図柄変動が表示される。 - 特許庁

In the pattern piece group determination part 19, the division pattern piece group table corresponding to the number of holding balls and the result of discriminating whether or not it is winning in a winning determination part 18 is selected and a pattern piece group to be displayed at a pattern display device 4 is determined by drawing.例文帳に追加

図柄片群決定部１９では、保留球の個数と、当たり決定部１８での当たりか否かの判定結果とに対応する分割図柄片群テーブルが選択され、図柄表示装置４に表示させる図柄片群が抽選によって決定される。 - 特許庁

The apparatus for checking the drawing of the exposure pattern obtained from exposure pattern data formed by data conversion of the layout design data of a semiconductor device has a hierarchical structure information extraction section 102, an exposure pattern data hierarchy section 106 and an exposure pattern data display section 109.例文帳に追加

半導体装置のレイアウト設計データをデータ変換してなる露光パターンデータから得られる露光パターンの検図装置であり、階層構造情報抽出部１０２、露光パターンデータ階層化部１０６及び露光パターンデータ表示部１０９を備えている。 - 特許庁

Then, the CPU temporarily stops a specific special pattern constituting a second special pattern array in a big winning display form, then displays the specific special pattern and a normal special pattern at the variable display device and executes the re-drawing performance of selecting either one of the displayed specific special pattern and normal special pattern.例文帳に追加

続いて、ＣＰＵは、第２の特別図柄配列を構成する特殊特別図柄が大当たり表示態様で一旦停止させた後、可変表示装置に特殊特別図柄と通常特別図柄とを表示し、表示した特殊特別図柄と通常特別図柄とのいずれか一方を選択する再抽選演出を実行する。 - 特許庁

When a prescribed variation pattern command is transmitted to a sub-control part 300 according to the jackpot drawing result of the main control part 200, the sub control part 300 draws one variation pattern command from the variation pattern command and the other variation pattern commands corresponding to the variation pattern command and transmits it to a performance pattern control part 400.例文帳に追加

主制御部２００の大当たり抽選結果に応じて所定の変動パターンコマンドがサブ制御部３００に送信されてきたときは、サブ制御部３００は、この変動パターンコマンドとこの変動パターンコマンドに対応する他の変動パターンコマンドのなかから１つの変動パターンコマンドを抽選して演出図柄制御部４００に送信する。 - 特許庁

A drawing pattern of the second touch pen 51 is set by using a sub-operation panel 52 arranged on the right of the main image plane 31.例文帳に追加

一方、第２のタッチペン４２の描画パターンは、メイン画面３１の右に配置されたサブ操作パネル５２を用いて設定される。 - 特許庁

When the player is not skilled, the operation for stopping the desired pattern becomes simple but the drawing probability is made to be low in stead.例文帳に追加

遊技者の技量が低い場合は目押しのための操作を簡便とするとが、その代わりに抽選確率を低くする。 - 特許庁

To accurately regulate a focus of a light beam radiated from a light beam radiation device, thereby performing pattern drawing with high accuracy.例文帳に追加

光ビーム照射装置から照射される光ビームの焦点を精度良く調節して、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁