「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

A reproduction part 204 reproduces the music piece of the attention-drawing character updated by the update part 203 at the reproduction pattern determined by the determination part 202.例文帳に追加

再生部２０４は更新部２０３が更新した注目キャラクターの楽曲を決定部２０２が決定した再生パターンで再生する。 - 特許庁

ABERRATION EVALUATION PATTERN, ABERRATION EVALUATION METHOD, ABERRATION CORRECTION METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS, ELECTRON MICROSCOPE, MASTER, STAMPER, RECORDING MEDIUM AND STRUCTURE例文帳に追加

収差評価用パターン、収差評価方法、収差補正方法、電子線描画装置、電子顕微鏡、原盤、スタンパ、記録媒体、及び構造物 - 特許庁

A CPU 31 of the control device 14 calculates the laser beam cumulative calorie in a drawing area on the basis of the irradiation parameter and the pattern data.例文帳に追加

制御装置１４のＣＰＵ３１は、照射パラメータと柄データとに基づいて描画領域におけるレーザ積算熱量を算出する。 - 特許庁

This display device is provide with an aperture pattern NAR for dummy pixels, which has a drawing stress absorption hole suppressing pattern precision deterioration due to deformation of an aperture pattern by absorbing stress in a process wherein a mask part MSS is fixed to a frame FLM by applying tension, outside an aperture pattern DRA for pixels.例文帳に追加

マスク部ＭＳＳをテンションを印加してフレームＦＬＭに固定する工程で生じる応力を吸収し、開孔パターンの変形によるパターン精度劣化を抑制する引っ張り応力吸収孔を有するダミー画素用開孔パターンＮＡＲを画素用開孔パターンＤＡＲの外側に設ける。 - 特許庁

When a prescribed stop form indicating that the result of winning/losing drawing is a losing is determined as the stop form of special patterns, the variation pattern determination means 115 sets a special pattern selection table wherein the selection frequency of a prescribed variation pattern is higher than the other tables as a pattern selection table to be referred to.例文帳に追加

変動パターン決定手段１１５は、特別図柄の停止態様として当否抽選の結果が外れであったことを示す所定の停止態様が決定された場合、参照すべきパターン選択テーブルとして、所定の変動パターンの選択頻度が他のテーブルより高い特殊パターン選択テーブルを設定する。 - 特許庁

The presentation display by special variation patterns tentatively stops the stopped pattern candidates, changes the blank patterns to stopped pattern candidates while maintaining the stopped stage, and shows the results of the win/lose drawing by the combination of the stopped pattern candidates already stopped and displayed and the stopped pattern candidates changed from the blank patterns.例文帳に追加

特殊変動パターンによる演出表示においては、停止図柄候補の暫定的に停止させ、その停止状態を維持しつつブランク図柄を停止図柄候補に変化させ、既に停止表示されている停止図柄候補とブランク図柄から変化した停止図柄候補との組合せにより当否抽選の結果を示す。 - 特許庁

When a pattern element or a point between two pattern elements is designated on a two-dimensional drawing (S4 or S8), a dimension which characterizes a feature is calculated (S5 or S9) based on the kind of feature related to the designated pattern element or point (S1 and S2).例文帳に追加

二次元図面上で図形要素又は２つの図形要素間の点を指定すると（Ｓ４又はＳ８）、指定された図形要素又は点に関連付けられたフィーチャの種類に基づいて（Ｓ１及びＳ２）、フィーチャを特徴付ける寸法が演算される（Ｓ５又はＳ９）。 - 特許庁

Next, a writing timing determination part extracts the evaluation pattern whose density is the lowest or the evaluation pattern whose density is the highest in the densities of the respective evaluation patterns, and determines the writing timing obtained when drawing such an evaluation pattern as the writing timing of respective laser diodes.例文帳に追加

次に、書き出しタイミング決定部は、各評価パターンの濃度のうち、最も低い濃度の評価パターン若しくは、最も濃度の高い評価パターンを抽出し、この評価パターンを描画したときの書き出しタイミングを各レーザダイオードの書き出しタイミングとして決定する。 - 特許庁

In a Pachinko game machine 1, design is executed so as to attain the big winning by a probability variable pattern when a random number value acquired from a counter for drawing a big winning pattern is 0 to 16383 (probability variable zone) and to attain the big winning by a probability non-variable pattern when it is 17383 to 32767 (probability non-variable zone).例文帳に追加

パチンコ遊技機１において、大当たり図柄抽選用カウンタから取得した乱数値が０〜１６３８３（確変ゾーン）なら確変図柄で大当たり、１６３８３〜３２７６７（非確変ゾーン）なら非確変図柄で大当たりするように設計される。 - 特許庁

To provide resist ink that is used for forming a resist pattern which can be peeled easily in a short time with an aqueous alkali solution by a direct resist drawing method, and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink.例文帳に追加

レジスト直描方式を用いたレジストパターンの形成に用いられるレジストインクおいて、レジストパターンがアルカリ水溶液にて容易に短時間で剥離できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The drawing (c) indicates the second stage of the standstill variation and the pattern 'shell' in the display area 3b2 is enlarged following the state indicated in (b).例文帳に追加

図中（ｃ）は静止変動の第２段階を示した図であり、（ｂ）に示した状態に引き続いて、表示領域３ｂ２の図柄「貝」が拡大されている。 - 特許庁

To conduct demarcating processing only by a simple assigning operation, even in an image data in which a character and line drawing image is superposed with a pattern image.例文帳に追加

文字・線画画像と絵柄画像とが重畳した画像データであっても簡単な指定操作だけで各々を切り分けた処理を行えるようにすること。 - 特許庁

In case the pattern formation has not been completed, a stage 5 is transferred to a predetermined position under a drawing unit 3 by step S9 as a stage transfer process.例文帳に追加

パターンが完成していない場合は、ステージ移動工程としてのステップＳ９によって、ステージ５を描画ユニット３の下の所定の位置に移動する。 - 特許庁

The measuring method is for measuring the precision of drawing by writing a pattern for measurement by irradiating a beam upon a base material for measurement.例文帳に追加

測定用基材に対してビームを照射することにより測定用描画パターンを描画して描画の精度を測定する測定方法である。 - 特許庁

To provide a drawing device for inorganic EL which can produce an emission pattern of an inorganic EL freely at a low cost by a simple operation as compared with prior art.例文帳に追加

従来に比べて簡単な操作かつ低コストで無機ＥＬの発光パターンを自由に製造できる無機ＥＬ用描画装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor laser element is driven by the outputted image split pattern to emit laser beam to form a potential latent image on a photosensitive body not shown in a drawing.例文帳に追加

半導体レーザ素子は出力される画像分割パターンにより駆動されてレーザ光を発光し、不図示の感光体に電位潜像を形成する。 - 特許庁

At the time of start winning during variable display at a pattern display device, the shift drawing is looked ahead and a winning flag is stored in the case of winning.例文帳に追加

図柄表示装置で変動表示中に始動入賞すると、移行抽選の先読みが行われ、当たりとなる場合に当選フラグが記憶される。 - 特許庁

A changing means 85 changes a pattern of the definition data used when performing lot-drawing processing on the basis of the signal outputted by the random number value comparing means 84.例文帳に追加

変更手段８５は、乱数値比較手段８４が出力した信号に基づいて、抽選処理を行うときに用いる定義データのパターンを変更する。 - 特許庁

In addition, there is no need to prepare a conveyance route for the mask M outside the pattern drawing apparatus 1, thereby the work space for the total process flow can be decreased.例文帳に追加

また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 - 特許庁

To provide a line drawing device and method, capable of stably forming a linear pattern with a uniform width by suppressing bulge and jaggy.例文帳に追加

バルジ及びジャギーの発生を抑止し、均一な幅の線状パターンを安定的に形成することができる線描画装置及び線描画方法を提供する。 - 特許庁

Then, the frequency of replacing or washing the mask M is decreased, consequently, the production capacity of the pattern drawing device is improved.例文帳に追加

従って、マスクＭの交換や洗浄の頻度を低減させることができ、その結果、パターン描画装置の生産能力を向上させることができる。 - 特許庁

The drawing data are output by classifying them into pattern data based on the demanded properties for various patterns of the semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の各種パターンに要求される複数の要求特性に応じて、描画データを複数のパターンデータに分類して出力する。 - 特許庁

To secure securities without impairing productivity, and to prevent leakage of pattern data or the like, in a system for drawing an image on a substrate in order to manufacture an LCD or the like.例文帳に追加

ＬＣＤ等を製造するために基板に描画するシステムにおいて、生産性を損なうことなくセキュリティを確保して、パターンデータ等の漏洩を防ぐ。 - 特許庁

In a second re-drawing performance executed after a big winning game, a non probability variable pattern with the possibility of promotion is displayed at a variable display device 9.例文帳に追加

大当り遊技の後に実行される第２再抽選演出において、昇格の可能性がある非確変図柄を可変表示装置９に表示する。 - 特許庁

To provide a means for measuring the shot position of a beam which changes at about such frequency as shot cycle at a high speed, without performing pattern drawing.例文帳に追加

本発明は、パターン描画を行わずに、ショットサイクル程度の周波数で高速に変化するビームのショット位置を計測する手段を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device whose production capacity is improved by decreasing frequency of replacing or washing a mask.例文帳に追加

マスクの交換や洗浄の頻度を低減させ、それにより、パターン描画装置の生産能力を向上させることができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

To detect failure in a spatial light modulator modulating a light beam in an early stage, upon drawing a pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam.例文帳に追加

光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、光ビームを変調する空間的光変調器の不具合を早期に検出する。 - 特許庁

A calculation section 25a calculates the product of the area (S_N) and exposure time (t_N) of an N-th shot at a predetermined unit obtained from pattern drawing data.例文帳に追加

描画データから得られた所定単位におけるＮ番目のショットの面積（Ｓ_Ｎ）と照射時間（ｔ_Ｎ）の積を演算部２５ａにて演算する。 - 特許庁

The semiconductor chips 14, 15 are each formed in an elongated shape and mounted with their long sides directed approximately perpendicularly to the drawing direction of a Cu wiring pattern 12.例文帳に追加

前記半導体チップ１４，１５を長手状とし、それらの長辺がＣｕ配線パターン１２の引出し方向と略垂直となるように実装する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a laser exposure device which can form a drawing for manufacturing a large-sized photomask with good edge quality whatever a pattern is.例文帳に追加

大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置で、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光装置を提供する。 - 特許庁

As a result, when an amount of variable data increases and the form is expanded downward in a drawing, the pattern is expanded with the same margin 601 interlocked with expansion of the form.例文帳に追加

その結果、帳票が可変データの量が増して図中下方に拡大すると、それに連動して地紋画像も同じマージン６０１を持って拡大する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LASER DIRECT DRAWING EXPOSURE, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

レーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a shape correcting charged particle beam pattern drawing device removing an influence of scan rounding of oblique side parts of a trapezoid and a triangle.例文帳に追加

本発明は形状補正荷電粒子ビームパターン描画装置に関し、台形、三角形の斜辺部分の走査丸めの影響を除去できるようにすること。 - 特許庁

The pulse lights PL irradiation position to the substrate is thereby corrected quickly by the pattern drawing device independently without using other device.例文帳に追加

これにより、他装置を使用することなく、パターン描画装置単独で、基板に対するパルス光ＰＬの照射位置を迅速に補正することができる。 - 特許庁

PRODUCING METHOD FOR MOLDED ARTICLE PREVENTING BREAK AND WHITENING OF SURFACE PATTERN LAYER IN THERMOFORMING DRAWING PART, PLASTIC SHEET FOR MOLDING, AND MOLDED PLASTIC ARTICLE例文帳に追加

加熱成形延伸部における表面模様層の割れ及び白化を防止する成形体の製造方法、成形用プラスチックシート、プラスチック成形体 - 特許庁

To solve the problem of the conventional stereogram in which: planar projection drawing cannot be a stereoscopic vision when producing a utensil having a pattern of single image random dot stereogram.例文帳に追加

シングルイメージ・ランダムドット・ステレオグラムの模様を持った器物を作成する場合、従来の平面投影を描画したステレオグラムでは立体視できない。 - 特許庁

When each rotating reel stops and the pattern display window displays the specific symbol, drawing is performed over whether or not an assisting time is started.例文帳に追加

各回転リールが回転を停止した場合に、図柄表示窓に特定の出目を表示しているときには、アシストタイムを開始するか否かの抽選を行う。 - 特許庁

The drawing result is reported by the arrangement way of the special patterns 8a tentatively matched and then displayed at a pattern display part 10 after being varied again and stopped.例文帳に追加

前記抽選結果は、特定図柄８ａが一旦揃った後、再変動および停止後の図柄表示部１０に表示される並び方を以て報知される。 - 特許庁

If a period for an image pattern in a selected image processing mode interferes with the number of beams from the light source, the number of beams used for drawing is changed.例文帳に追加

選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、描画に使用するビーム数を変更する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of surely drawing a pattern, without causing significant defocusing, and to provide a method for controlling the charged particle beam.例文帳に追加

顕著なフォーカスずれを起こさずにパターンを確実に描画することのできる荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの制御方法を提供する。 - 特許庁

At the solid line position and the virtual line position A, C, discharge is performed from the drawing pattern data at the timing synchronized to the scanning position of the discharge head 103.例文帳に追加

実線位置および仮想線位置Ａ，Ｃにおいては、吐出ヘッド１０３の走査位置に同期したタイミングで、描画パターンデータに基づいた吐出が行われる。 - 特許庁

An edge correcting circuit irregularly changes positions for changing coordinates of the drawing data to irregularly change edges of a pattern to be drawn on a substrate 1.例文帳に追加

エッジ修正回路は、描画データの座標を変更する位置を不規則に変動させて、基板１に描画されるパターンのエッジの変化を不規則にする。 - 特許庁

The screen processing part 12A reads a drawing matrix stored in a pattern storing part 12M and applies screen processing (binarization) to inputted image information.例文帳に追加

スクリーン処理部１２Ａは、入力された画像情報に対して、パターン格納部１２Ｍに格納された描画マトリクスを読み出してスクリーン処理（二値化）を行う。 - 特許庁

The game machine is provided with a plurality of reels, a reel driving means, a reel stopping means, a drawing means, a pattern stop control means, and a control means.例文帳に追加

本発明は、複数のリールと、リール駆動手段と、リール停止手段と、抽選手段と、図柄停止制御手段と、制御手段と、を備える遊技機である。 - 特許庁