「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

This fashion data management system is constructed over the Internet and pieces of information for a design drawing 211, a pattern drawing 212 and a 3D CG 213 are registered and managed by a seller 202 to operate a PC in a digital fashion market 201 as a Web site.例文帳に追加

本ファッションデータ管理システムはインターネット上に構築され、Ｗｅｂサイトであるデジタルファッションマーケット２０１では、ＰＣを操作する売り手２０２により、デザイン画２１１、型紙図２１２、３Ｄ ＣＧ２１３のための情報が、登録され管理される。 - 特許庁

To provide a mahjong ball game machine provided with an assisting function of showing a pattern of the tile which has to be drawn to establish a ready-for-winning hand before a player makes a tile-drawing operation when current thirteen tiles in the hand can establish the ready-for-winning hand by drawing the particular tile.例文帳に追加

現在の１３個の手牌に１個の牌を自摸操作により追加すると聴牌の状態になるとき、遊技者が自摸操作を行なう前にこの自摸すべき牌の図柄を表示する支援機能を備えた雀球遊技機を提供する。 - 特許庁

When a continuous announcement image Y2 expressing a second big win announcement in the first set is displayed and a losing pattern is defined and displayed, a drawing result image M1 showing the drawing result of whether to continuously perform the second set is displayed.例文帳に追加

１セット目の２回目の大当り予告を表した連続予告画像Ｙ２が表示され、ハズレ図柄が確定表示されると、２セット目を連続で継続して行うか否かの抽選結果を示す抽選結果画像Ｍ１が表示される。 - 特許庁

The control unit 20 includes: a drawing data reading unit 21 for reading drawing data 25 of a workpiece W; an input unit 22 for input of location region information 36; and a pattern accumulation unit 38 for accumulating a plurality of graphic route patterns 37 in advance.例文帳に追加

制御部２０は、加工対象Ｗの図面データ２５を読み込む図面データ読込部２１と、位置領域情報３６を入力する入力部２２と、予め複数の図形ルートパターン３７を蓄積させたパターン蓄積部３８とを有している。 - 特許庁

The projection means irradiates the subject with a projection pattern indicating at least the outline of the imaging region on the basis of the drawing data generated by the drawing data generation means when positioning the imaging object part of the subject.例文帳に追加

投光手段は、被検体の撮像対象部位を位置決めする際に、前記描画データ生成手段により生成された描画データに基づいて、前記被検体上に前記撮像領域の少なくとも外郭を表す投光パターンを照射する。 - 特許庁

The drawing apparatus 1 for drawing a pattern includes: a light splitting section 15 for splitting laser light by a reflection surface 150; spatial optical modulation devices 16, 17 equipped with a plurality of micro-mirrors; and a parallel flat plate 18 for inverting the phase by 1/4.例文帳に追加

パターンを描画する描画装置１に、反射面１５０によってレーザ光を分割する光分割部１５、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス１６，１７、１／４だけ位相を反転させる平行平面板１８を設ける。 - 特許庁

In the case of a ready-to-win state variation pattern in a special state A before reaching the defined number of times of variations, or in the case of a variation pattern in a special state B at which the defined number of times of the variations has been reached, mode fall drawing is performed.例文帳に追加

規定変動回数に達する前の特殊状態Ａにおいてリーチ変動パターンである場合、または規定変動回数に達した特殊状態Ｂの変動パターンである場合には、モード転落抽選をおこなう。 - 特許庁

(1) Resist ink having a swelling factor of ≥50% when a formed resist pattern is dipped in a 3% aqueous alkali solution for 40 seconds is used as the resist ink used for forming a resist pattern by the direct resist drawing method.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、形成されたレジストパターンを３％アルカリ水溶液中に４０秒間浸漬したときの膨潤率が５０％以上であるレジストインクを用いる。 - 特許庁

The method comprises feeding a construction plate 1 so as to make the plate 1 pass under an ink jet printer 3 and drawing a pattern on the surface of the plate 1 by carrying out ink jet printing on the basis of printing data on a pattern input into the printer 3.例文帳に追加

建築板１を送りながらインクジェットプリンター３の下方を通過させ、インクジェットプリンター３に入力された柄模様の印刷データに基づいて、インクジェット印刷することによって、建築板１の表面に柄模様を塗装する。 - 特許庁

A line segment extraction means 8 selects all the line segments that match with the read line information from the CAD drawing, and extracts the line segment that matches with a member definition pattern stored beforehand in a member pattern storage means 7 from them.例文帳に追加

線分抽出手段８は、読み込まれた線情報と一致する線分をＣＡＤ図面から全て選択し、その中から部材パターン記憶手段７に予め記憶されている部材定義パターンと一致する線分を抽出する。 - 特許庁

The location of the base pattern in a substrate 1 is detected all over the substrate 1, and drawing data supplied to a drive circuit of a light beam irradiation apparatus 20 are created according to the location of the detected base pattern in the substrate 1.例文帳に追加

下地パターンの基板１内での位置を、基板１全体に渡って検出し、検出した下地パターンの基板１内での位置に応じて、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する描画データを作成する。 - 特許庁

The pattern drawing device 1 photographs at least a part of the alignment marks AM1 to AM4 by using alignment cameras 41 to 44 respectively, and calculates coordinates of an intersection of the cross pattern from a circular arc included in image data D1 to D4.例文帳に追加

パターン描画装置１は、アライメントカメラ４１〜４４によりそれぞれアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４の少なくとも一部を撮影し、画像データＤ１〜Ｄ４中に含まれる円弧から、十字パターンの交点の座標を算出する。 - 特許庁

RESIST PATTERN LINE WIDTH CALCULATING METHOD, MASK PATTERN LINE WIDTH CORRECTION METHOD, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK FABRICATING METHOD, ELECTRON DRAWING METHOD FOR FABRICATING THE EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

レジストパターン・ライン幅の算出方法、マスクパターン・ライン幅の補正方法、光近接効果補正方法、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

A circumscribing rectangular area securing means 61 secures a memory area developing a circumscribing rectangular 11 on the basis of character data and a rotation angle, and a character pattern drawing means 62 draws the rotated character pattern in the memory area.例文帳に追加

外接矩形領域確保手段６１が文字データと回転角度とに基づいて外接矩形１１を展開するメモリ領域を確保し、このメモリ領域に回転された文字パターンを文字パターン描画手段６２が描画する。 - 特許庁

To make possible to draw the high precision line pattern, increasing degree of freedom in drawing a high precision line pattern, determine a defect and measure a length, not only forming a linear beam to a X-axis and a Y-axis directions, but also forming a linear beam to a certain direction.例文帳に追加

Ｘ軸、Ｙ軸方向の線形ビームを形成するだけでなく、任意の方向の線形ビームは形成して、高精度なラインパターン描画の自由度を増し、高精度なパターン描画、欠陥検査、測長を可能する。 - 特許庁

The sub control means 60b performs control so as to select one performance pattern on the basis of information relating to the drawing result of a symbol combination received in an information reception means 70 and output a performance according to the performance pattern.例文帳に追加

サブ制御手段６０ｂは、情報受信手段７０で受信した役の抽選結果に係る情報に基づいていずかの演出パターンを選択し、その演出パターンに従って演出を出力するように制御する。 - 特許庁

When the operator selects a mask pattern having a desired shape out of displayed mask patterns by operating the buttons 171 of the unit 107 and presses the button 172, a mask pattern used for drawing the sticking picture is decided.例文帳に追加

操作者が、表示されたマスクパターンの中で所望の形状のマスクパターンをリモートコントロールユニット１０７の上下左右の４方向ボタン１７１で選択し、決定ボタン１７２を押すと、貼り付け画像を作成するためのマスクパターンが確定する。 - 特許庁

In the pinball game machine, two pattern start ports 15A and 15B are included, and when a game ball enters one of the pattern start ports 15A and 15B, a profit state advantageous to a player is generated through winning/losing drawing due to that.例文帳に追加

２つの図柄始動口１５Ａ，１５Ｂを設け、図柄始動口１５Ａ，１５Ｂの何れかに遊技球が入賞すると、これに起因する当否抽選を経て遊技者に有利な利益状態を発生させる弾球遊技機である。 - 特許庁

To provide a photomask blank which does not cause accumulation of charges on the blank coated with a resist when a pattern is drawn with electron beams using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and to provide a photomask with excellent pattern position accuracy.例文帳に追加

高加速電圧の電子ビーム描画機を用いて電子ビーム描画する際レジストコートしたブランクス上で電荷のチャージアップをおこさないフォトマスク用ブランクス及びパターン位置精度の優れたフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a game machine accurately displaying pattern information or the like based on an internal drawing result even in the case that an error is generated, and a game error processing method.例文帳に追加

エラーが発生した場合でも内部抽選結果に基づく図柄情報等を正確に表示することができる遊技機及び遊技エラー処理方法を提供する。 - 特許庁

A drawing circuit 14 draws the main pattern and alter ego patterns on the basis of the information stored in the first storage circuit 11 and the second storage circuit 12.例文帳に追加

描画回路１４は、第１の格納回路１１および第２の格納回路１２に格納されている情報に基づいて、本体図形および分身図形を描画する。 - 特許庁

When displacement is detected in the scanning band S3, the division pattern data is shifted in accordance with the displacement amount and the drawing area by the DMD is shifted in accordance with the displacement amount.例文帳に追加

走査バンドＳ３において変位量を検出した場合、分割パターンデータを変位量に応じてデータシフトさせ、ＤＭＤの描画エリアを変位量に応じてシフトさせる。 - 特許庁

A DMD control unit controls micromirrors in a drawing area as a portion area in the entire DMD based on the raster data DB'm to form a pattern.例文帳に追加

ＤＭＤ制御部では、このラスタデータＤＢ’ｍに基づき、ＤＭＤ全体のうち一部領域である描画領域内にあるマイクロミラーを制御してパターンを形成する。 - 特許庁

By acquiring the pattern variation time of respective drawing values included in the read ahead information, the duration in case shifted to a time shortening game is calculated.例文帳に追加

この先読み情報に含まれる各抽選値の図柄変動時間を取得することで、仮に時短遊技へ移行した場合のその継続時間を算出することができる。 - 特許庁

To provide a pattern size measuring method and an electrically-charged beam drawing method capable of simply and accurately measuring a size between adjacent resist patterns.例文帳に追加

隣接するレジストパターン間の寸法を簡便に且つ精度良く測定することが可能なパターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

The drop drawing is performed only in start opening prize winning where the number of variation display times of a performance pattern reaches m (m>1) in a probability variable game state.例文帳に追加

確変遊技状態において演出図柄の変動表示回数がｍ回（ｍ＞１）に達した以降の始動口入賞時にのみ転落抽選を行うようにする。 - 特許庁

By correcting the stage position and a starting position of drawing based on the obtained displacement amounts, displacement of the mounting position is corrected to draw a pattern at an accurate position.例文帳に追加

取得されたずれ量に基づいてステージ位置および描画開始位置を補正することによって、載置位置のずれを補正して正確な位置に描画を行うことができる。 - 特許庁

When the positive electrode layer is applied with drawing the intermittent pattern of a stripe, the following formula is satisfied: W1>n×W2 (where n (n≥2) is the number of stripes).例文帳に追加

正極層をストライプの間欠パターンで塗布形成する場合には、ストライプの条数をｎ（ｎ≧２）としたとき、Ｗ１＞ｎ×Ｗ２を満たすように構成する。 - 特許庁

The overlap sections 88 and 810 are displayed in a stripe pattern by display color components of the search routes 84, 85 and 86 by the overlap section drawing processing of step S700.例文帳に追加

重複区間８８，８１０は、ステップＳ７００の重複部分描画処理により、探索経路８４，８５，８６の表示色成分による縞模様で表示される。 - 特許庁

This means no adjustment is required for the plurality of optical components on the device, and the time required for assembling and maintenance of a pattern drawing device 1 can be reduced.例文帳に追加

このため、装置上において複数の光学部品の調整を行う必要はなく、パターン描画装置１の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できる。 - 特許庁

To provide a laser processing device capable of unifying two respective patterns of a processing laser beam and a guide laser beam, and drawing the unified pattern on a material to be processed, and to provide a laser processing method using the same.例文帳に追加

加工用レーザ光線及び案内レーザ用光線のそれぞれのパターンを統一して加工用素材上に描画するできるレーザ加工装置及び方法の提供。 - 特許庁

Also, at the time, "time shortening" for the variation time of normal pattern drawing of opening a motor-driven tulip 136 is imparted (3 times during a normal game and 15 times during time shortening).例文帳に追加

また、このとき、電動チューリップ１３６を開放させる普図抽選の変動時間を対象とした「時短」を付与する（通常遊技中は３回、時短中は１５回）。 - 特許庁

To provide a method for forming a smooth pattern without a defect entirely from the start to the end of drawing without using a complicated configuration.例文帳に追加

複雑な構成を用いることない、描画開始から終了に至るまでの全体にわたって欠陥のない滑らかなパターン形成方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

The game machine is provided with a plurality of reels, a reel driving means, a plurality of reel stopping means, a drawing means, a pattern stop control means, and a control means.例文帳に追加

本発明は、複数のリールと、リール駆動手段と、複数のリール停止手段と、抽選手段と、図柄停止制御手段と、制御手段と、を備える遊技機である。 - 特許庁

To provide interior trim components for vehicle capable of obtaining the texture of fibrous woven fabric by drawing a pattern of the stereoscopic effect resembling the fibrous woven fabric on a surface of components inexpensively.例文帳に追加

部品表面に繊維織布を模した立体感のある絵柄を描画し、繊維織布の質感を低コストで得ることができる車両用内装部品を提供すること。 - 特許庁

Each of a series of divided pattern data is generated to overlap part of adjacent scan data, independently converted into raster data, and outputted as drawing data.例文帳に追加

一連の分割パターンデータそれぞれを、隣接する走査バンドのデータを一部オーバラップするように生成し、独立してラスタデータに変換するとともに、描画データとして出力する。 - 特許庁

In the case of drawing that transition to a bonus game is not to be performed in a big bonus game, the probability of selecting a specified pattern among plural slave role patterns is raised.例文帳に追加

ビックボーナスゲームにおいてボーナスゲームへ移項させないと抽選された場合、複数の子役の図柄の内の特定の図柄の選択される確率を高くする。 - 特許庁

To generate encoded data at a high compression rate for an image containing much continuations of the same pixel value or of the same pattern such as a character, a drawing and a CG image.例文帳に追加

文字、線画、ＣＧ画像など、同一画素値の連続、または、同一パターンの連続を多く含む画像に対して高い圧縮率で符号化データを生成する。 - 特許庁

In the stage of printing the solder resist pattern, information on a product using the tape base material, e.g. print data converted according to a tape drawing in designing are acquired.例文帳に追加

ソルダーレジストパターンを印刷する工程は、テープ基材を使用する製品の情報、例えば設計時のテープ図面に応じて変換された印刷データを取得する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic substrate which can draw a highly precise pattern on a drawing surface even using droplets of a conductive ink, and to provide a method of manufacturing the thermoplastic substrate.例文帳に追加

導電性インクの液滴を用いても描画面に高精細のパターン描画できる熱可塑性基板及び熱可塑性基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device which is capable of early finding out a defect having a high urgency level on a mask and of shortening the inspection time of the mask.例文帳に追加

マスク上の緊急性の高い欠陥を早期に発見することができるとともに、マスクの検査時間を短縮することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of patterns with different area densities are drawn changing an amount of irradiation of charged particle beam, and a relation with the amount of irradiation is found by measuring the dimension of the pattern after drawing.例文帳に追加

面積密度の異なる複数のパターンを荷電粒子ビームの照射量を変えて描画し、描画後のパターンの寸法を測定して照射量との関係を求める。 - 特許庁

To provide an image processor capable of realizing a fine shape and pattern on an object drawing attention of a game player even in a display object existing at the distance from a view point.例文帳に追加

視点より遠くにある表示対象物であっても遊技者の注目が注がれるものに微細な形状、模様を実現できる画像処理装置を提洪する。 - 特許庁

The drawing device irradiates the object moving relatively to an optical head part (a substrate, for instance) with lights from the optical head part to draw a pattern on a substrate W.例文帳に追加

描画装置は、光学ヘッド部から、光学ヘッド部に対して相対的に移動する対象物（例えば、基板）に対して光を照射して、基板Ｗにパターンを描画する。 - 特許庁

In the setting of a re-drawing performance pattern determination table 164B, a promotion success is easily determined as the count value of the jackpot continuation number-of-times counter is larger.例文帳に追加

再抽選演出パターン決定テーブル１６４Ｂの設定では、大当り継続回数カウンタのカウント値が大きいほど昇格成功に決定されやすくなっている。 - 特許庁