「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a decorative board with excellent durability, which is capable of efficiently and precisely drawing a pattern printed layer on the surface of a base material.例文帳に追加

基材表面に模様印刷層を能率よく且つ精度よく描画でき、しかも耐久性に優れた化粧板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the pachinko ball enters the special pattern start port in the chance drawing mode established state, the presence/absence of the validation of the chance mode is judged and the chance mode is surely validated within 5 rotations within the limit of the chance drawing mode.例文帳に追加

このチャンス抽選モードの成立状態でパチンコ球が特別図柄始動口に入賞したときにはチャンスモードの有効化の有無が判定され、チャンス抽選モードの限度内の５回転以内にチャンスモードが必ず有効化される。 - 特許庁

In a pachinko game machine 1, a big winning drawing processing is performed in a main control board 100 corresponding to the entry of a ball to a start winning port 17 and the drawing result is displayed at a liquid crystal display part 11 by pattern variation.例文帳に追加

パチンコ遊技機１は、始動入賞口１７への玉の入賞に応じて主制御基板１００にて大当たり抽選処理が実行され、その抽選結果が図柄変動により液晶表示部１１に表示される。 - 特許庁

when indicating that an expectation degree is high, the chance symbol control part 622b provides a chance pattern from the respective chance symbols, when the respective identification symbols are stopped in a combination indicating the drawing result of big winning drawing.例文帳に追加

チャンス図柄制御部６２２ｂは、期待度が高いことを示す場合には、それぞれの識別図柄が大当たり抽選の抽選結果を示す組み合わせで停止されたときに、それぞれのチャンス図柄による出目がチャンス目となるようにする。 - 特許庁

To provide an image output device which can make drawing processing, using a mask pattern in an arbitrary rectangular shape, to a page memory fast by enabling fast word-by-word access to a memory when the drawing processing is carried out.例文帳に追加

任意の矩形状のマスクパターンを用いた描画処理を行う際に、ワード単位で高速にメモリにアクセスすることを可能とすることにより、ページメモリへの描画処理の高速化ができるような画像出力装置を提供する。 - 特許庁

On the drawing lines in the neighborhood of the contact holes, a pattern 12 of a semiconductor film which shuts off ongoing to the drawing line surface of residual moisture in the anisotropic conductive resin via a first inter-layer insulator film is formed.例文帳に追加

該コンタクトホール近傍の引き出し配線上に第１の層間絶縁膜を介して異方導電性樹脂中の残存水分の引き出し配線表面への進行を遮断する半導体膜のパターン１２が形成される。 - 特許庁

The nozzle 18 is provided to the lower end surface of the paste housing container 17 of a coating head part 13 and paste is discharged from the paste discharge orifices (not shown in a drawing) of the nozzle 18 to apply and draw a paste pattern on a substrate (not shown in a drawing).例文帳に追加

塗布ヘッド部１３のペースト収納容器１７の下端面にノズル１８が設けられ、このノズル１８の図示しないペースト吐出孔からペーストを吐出することにより、図示しない基板にペーストパターンが塗布描画される。 - 特許庁

When a pattern drawing device 100 scans an exposure unit 30 equipped with a mask 361 to the (+Y) side of the main scanning direction with respect to a substrate 9, the drawing device exposes a resist layer of a substrate 9 through the transmissive patterns SLG1, SLG2 at the same time.例文帳に追加

パターン描画装置１００は、マスク３６１を備えた露後部３０を、基板９に対して主走査方向の（＋Ｙ）側へ走査させる場合、透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２とを同時に介して基板９のレジスト層を露光する。 - 特許庁

The finally obtained feature of a mask pattern is classified into a portion where high accuracy is required and a portion where an error is relatively allowable, and the drawing data for the mask pattern is designed to give priority to the first portion.例文帳に追加

最終的に得られるマスクパターンの形状において、高い精度が要求される重要な箇所と、比較的誤差が許容できる箇所とを区別し、前者を優先するようにマスクパターンの描画データを設計する。 - 特許庁

A drawing probability state, a variation shortening state and a game state by a performance mode are controlled on the basis of the kind of a pattern determined as a special pattern when a jackpot game to be imparted is drawn.例文帳に追加

抽選確率状態や変短状態や演出モードによる遊技状態は、付与される大当り遊技の当選時に特別図柄として決定した図柄の種類に基づいて制御されるようにした。 - 特許庁

A pattern matching game executing means 81 draws lots at random on the basis of the prize winning entry of a ball into a startup prize winning port 60 and proceeds with a pattern matching game on a variable display means 30 according to the lots drawing result.例文帳に追加

始動入賞口６０への球の入賞に基づいて図柄合わせゲーム実行手段８１は、無作為抽選を行い、抽選結果にしたがって可変表示手段３０上で図柄合わせゲームを進める。 - 特許庁

Accordingly, even if a certain pattern group is stained or gets defective, drawing processing is performed by using another pattern group having the same shape without replacing or washing the mask M itself.例文帳に追加

このため、あるパターン群に汚れまたは欠陥が発生した場合にも、マスクＭ自体を交換または洗浄することなく、同一の形状を有する他のパターン群を使用して描画処理を行うことができる。 - 特許庁

The drawing of the pattern and the formation of the unevenness corresponding to the pattern are performed at the same position in the feed direction of a long base film while feeding the base film in the longitudinal direction thereof.例文帳に追加

長尺なベースフィルムを長手方向に搬送しつつ、前記絵柄の描画、および、前記絵柄に応じた凹凸の形成を、前記ベースフィルムの搬送方向の同位置で行うことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A lottery means 140 is provided for drawing lots on the presence/absence of performance due to the first performance device 40 and the second performance device 50 corresponding to the result of the picture pattern lottery due to a picture pattern lottery means 110.例文帳に追加

演出抽選手段１４０は、図柄抽選手段１１０による図柄抽選の結果に応じて、第一演出装置４０及び第二演出装置５０による演出の有無を抽選するためのものである。 - 特許庁

To provide a drawing apparatus which can draw an intended pattern based on pattern data even if a light emitting element array is inclined, or light emitting elements are not normally located in the light emitting element array.例文帳に追加

発光素子アレイが傾いている場合や、発光素子アレイにおいて発光素子が正常に並んでいない場合でも、パターンデータに基づいて意図した通りのパターンを描画することのできる描画装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a linearity inspection method of a photomask for rapidly and easily judging the propriety of linearity correction of a pattern drawn on a photomask, and to provide a photomask drawing device which draws a pattern for linearity inspection on the photomask.例文帳に追加

フォトマスクに描画されたパターンのリニアリティ補正の適否を迅速かつ容易に判断できるリニアリティ検査方法、及びリニアリティ検査用パターンをフォトマスクに描画するフォトマスク描画装置を提供する。 - 特許庁

It is a dyeing technique of drawing a colorful pattern with multiple colors such as yellow, red, and green using a single pattern paper by an advanced technique of dyeing with patterns, and it became so popular in the mainland that it was used to make pouches and the like. 例文帳に追加

これは高度な型染め技術を用いて一つの型紙で黄色や赤、緑などの多色使いの鮮やかな文様を描く染物で、本土でも袋物などの生地として珍重されるなど人気を博した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a coloring matter for the production of a seal by drawing a pattern with the matter on a substrate having a flat surface such as a glass plate and drying the pattern to give a seal having high brightness and vivid color.例文帳に追加

ガラス板等の平滑面を有する基材に塗布描画した絵の具を乾燥させてシールを作成するにあたって、光輝性があり、かつ、色鮮やかに発色するシールを作成できる絵の具を提供する。 - 特許庁

The pattern drawing device includes n light sources 41 and m (m=n-1) optical units 32 that deform pulse beams emitting from the light sources 41 into a prescribed pattern to irradiate the surface of a substrate W with the deformed beams.例文帳に追加

パターン描画装置は、ｎ個の光源４１と、光源４１から入射されたパルス光を所定のパターン形状に変形して基板Ｗの表面に照射するｍ個（ｍ＝ｎ−１）の光学系ユニット３２とを備える。 - 特許庁

The electron beam lithography device includes: a mode selection means for selecting a mask drawing mode for superposition exposure as a drawing mode; and a shape selection means for selecting substrates having the same shape from a plurality of substrates used by the mask drawing for superposition exposure in the registration of a drawing pattern when the superposition exposure mode is selected.例文帳に追加

描画モードとして、前記重ね合わせ露光用マスク描画モードを選択するモード選択手段と、この重ね合わせ露光モードが選択されると、描画パターンの登録時に、この重ね合わせ露光用マスク描画で使用される複数の基板のうち、同種の形状を有するものを選定する形状選定手段とを備えた電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

To provide a line drawing and/or dot pattern printed product with a fine slit pattern structure for developing a specific warning message to an illegal copy utilizing an image input/output unit for a digital copier or the peripheral equipment of a personal computer and a discriminating screen capable of visualizing the message and easily discriminating a truth or a falsehood merely by superposing on the line drawing pattern printed product.例文帳に追加

デジタルカラーコピー機やパソコンの周辺機器等の画像入出力装置を利用した違法なコピーに対し、特定の警告メッセージが発現する微小スリットパターン構造入り線画及び／又はドットパターン印刷物、また、上記線画パターン印刷物に対して重ね合わせるだけで警告メッセージを顕像化し、容易に真偽判別が可能な判別スクリーンを提供する。 - 特許庁

This image display device of the pachinko machine having a function of drawing a mosaic pattern within the prescribed rectangular region of a plurality of the pixels is provided with a mosaic pattern drawing device 7 for filling the rectangular region with the color obtained by averaging the colors of any two pixels in the rectangular region to be made into mosaic.例文帳に追加

複数のピクセルからなる所定の矩形領域内をモザイク模様に描画する機能を備えたパチンコ機の画像表示装置において、モザイク化する矩形領域内の任意の２つのピクセルの色を平均化した色で、矩形領域内を埋めるモザイク模様描画装置７を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

A selecting part 505 selects a special variation pattern having a variation time which is different from a normal variation pattern when the drawing based on the special second reserved ball is performed by the drawing part 502 in the first normal game state prior to the change to the second normal game state by the changing part 503.例文帳に追加

選択部５０５は、変更部５０３によって第２通常遊技状態に変更される前の第１通常遊技状態において、抽選部５０２によって特２保留球に基づく抽選がおこなわれた場合、通常の変動パターンとは異なる変動時間を有する特殊変動パターンを選択する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

At the special time based on the drawing result of a drawing means, a drive control means gives commands to the movement driving means, the first, second and third pattern display plates 81, 82 and 83 are slidably moved upwards, and thus the fourth, fifth and sixth pattern display plates 91, 92 and 93 are exposed and the second stop column L2 appears.例文帳に追加

抽選手段の抽選結果に基づく特別時に、駆動制御手段が移動駆動手段に指令し、第１、第２、及び第３図柄表示板８１，８２，８３が上方にスライド移動することで、第４、第５、及び第６図柄表示板９１，９２，９３が露出され、第２停止列Ｌ２が出現する。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which fine permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A distance calculating means 311 calculates the start-to-end point distance L of a drawing pattern, and a number-of-scan-clocks calculating means 312 calculates the number of scan clocks required to write the drawing pattern based on the distance L and a unit distance corresponding to the minimum resolution of a high-speed D/A converter 306.例文帳に追加

距離算出手段３１１が描画パターンの始点終点間距離Ｌを算出し、走査クロック数算出手段３１２が距離Ｌと高速Ｄ／Ａ変換器３０６の最小分解能に相当する単位距離とに基づいて、描画パターンを描画するために必要な走査クロック数を算出する。 - 特許庁

The shift pattern selection part 323 has a plurality of shift patterns including a first shift pattern defining shift contents between the respective performance modes in the plurality of performance modes and a second shift pattern defining shift contents partially different from the shift contents defined by the first shift pattern, and selects one of the shift patterns when a big winning or a small winning is won in big winning drawing by the big winning drawing part 314a.例文帳に追加

移行パターン選択部３２３は、複数の演出モードにおける各演出モード間の移行内容を定義した第１移行パターンと、第１移行パターンが定義する移行内容と一部が異なる移行内容を定義した第２移行パターンとを含む複数の移行パターンを有し、大当たり抽選部３１４ａによる大当たり抽選で大当たりまたは小当たりに当選した場合に、いずれかの移行パターンを選択する。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus to form patterns in mirror image relation with respect to the substrate on both faces of the substrate, the patterns are formed on both faces of the substrate by direct drawing on the basis of specified data by using a direct drawing means such as a maskless exposure means or an ink jet patterning means.例文帳に追加

基板に関して鏡像関係となるパターンを基板の両面に形成するパターン描画装置は、マスクレス露光手段もしくはインクジェットパターニング手段などの直接描画手段を用いて、所定のデータに基づき基板の両面を直接描画することでパターンを基板の両面に形成する。 - 特許庁

The stop control means 120 is capable of stopping and controlling a plurality of stop control patterns and stops and controls one stop control pattern selected from the plurality of stop control patterns based on the result in the draw of the win drawing means 110 and the type of the finish drawing tables 153 being used by the finish drawing means 150.例文帳に追加

停止制御手段１２０は、複数パターンの停止制御を実行可能とされ、かつ、当選抽選手段１１０の抽選結果と、終了抽選手段１５０が使用中の終了抽選テーブル１５３の種類とに基づいて、複数パターンの停止制御の中から一の停止制御を選択して実行する。 - 特許庁

The stacked three-dimensional drawing is characterized in that plane part drawings (2) comprising a plurality of transparent thin plates relevant to the single plane drawing (1) are stacked and assembled via space members (3) at proper intervals to represent and form a three-dimensional pattern drawing (5).例文帳に追加

単体の平面絵図（１）に対し関連性を有した複数枚の透明薄板による平面部分絵図（２）を、間隔部材（３）を介し適宜間隔開け組付け部材（４）によって積層組付けを行うことにより立体模様絵図（５）として表現形成させることを特徴とした積層立体絵図の構成とする。 - 特許庁

To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

An irradiation position on a substrate 9 is moved to scan with a light beam from a light beam exiting unit 411 by a stage moving mechanism 31 and a head unit moving mechanism 32 so as to draw the expanded drawing pattern including the information pattern on a resist for forming a wiring pattern on the substrate 9.例文帳に追加

そして、ステージ移動機構３１およびヘッドユニット移動機構３２により光ビーム出射部４１１からの光ビームの基板９上における照射位置が走査され、情報パターンを含む拡張描画パターンが基板９上の配線パターン形成用のレジストに描画される。 - 特許庁

The control circuit generates draw data for drawing a predetermined pattern on the workpiece through formation of a plurality of penetrations, and cut data for cutting the outline of the pattern created on the workpiece by sequentially forming penetrations along the outline of the pattern, and further modifies the data.例文帳に追加

制御回路は、被加工物に対し複数の小孔により所定の模様を描画するための描画データ、被加工物に対し模様の輪郭に沿って複数の小孔を連続的に形成することにより輪郭を切断するためのカットデータを作成し、更にそれらデータを補正する。 - 特許庁

The step of correcting the defect portion includes forming a resist film on the photomask again, performing prescribed pattern drawing on a prescribed region including the defect portion, developing it to form a correction resist pattern, and removing the residual substance at the defect portion by performing etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

欠陥部分を修正する工程は、フォトマスク上に再度レジスト膜を形成し、欠陥部分を含む所定領域に所定のパターン描画を行い、現像して修正用レジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとしてエッチングを施して欠陥部分の余剰物を除去する。 - 特許庁

Based on predetermined specific pattern representing an intrinsic number of the device, a tracking pattern generation part 410 outputs direction signals MKON or MKOFF to change the pulse width of a pulse corresponding to the drawing position of a specific pattern in the pulse train signals VDO.例文帳に追加

追跡パターン発生部４１０は、予め決められた、当該装置の固有番号を表す特定パターンに基づいて、パルス列信号ＶＤＯのうちの特定パターンの描画位置に対応するパルスのパルス幅を変更するための指示信号ＭＫＯＮ，ＭＫＯＦＦを出力する。 - 特許庁

The sub control means 60b performs control so as to select one performance pattern stored in a performance pattern storage means 71 on the basis of information relating to the drawing result of a symbol combination received in an information reception means 70 and output a performance according to the performance pattern.例文帳に追加

サブ制御手段６０ｂは、情報受信手段７０で受信した役の抽選結果に係る情報に基づいて、演出パターン記憶手段７１に記憶されたいずかの演出パターンを選択し、その演出パターンに従って演出を出力するように制御する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask, which can prevent the occurrence of positional deviation error of a drawing pattern due to electron beam in a mask manufacturing step and the deterioration in yield due to the occurrence of the positional deviation of the pattern when a circuit pattern is transferred to a semiconductor wafer by using a photomask deflected by distortion of a glass substrate of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのガラス基板の歪みなどにより撓んだフォトマスクを使用することにより、マスク製造工程での電子ビームによる描画パターンの位置ズレ誤差の発生や、回路パターンが半導体ウエハに転写される際のパターンの位置ズレ発生による歩留まりが低下するのを防ぐ。 - 特許庁

At the timing when encountering downfall by a drawing and completing the execution of N symbol variation operations after the termination of the probability variation game, a variation pattern selection table for reference is changed to a second variation pattern selection table 33B or a fourth variation pattern selection table 33D.例文帳に追加

そして、転落抽選に当選し、確率変動遊技が終了してからＮ回の図柄変動動作の実行が終了したタイミングで、参照用の変動パターン選択テーブルが、第２変動パターン選択テーブル３３Ｂまたは第４変動パターン選択テーブル３３Ｄに変更される。 - 特許庁

The game machine includes a variation pattern setting means for setting a variation pattern for executing a variable display game corresponding to a special pattern winning drawing result, and a game state reporting means capable of reporting which of a normal state and a probability variable state it is in to a player.例文帳に追加

遊技機は、特図当たり抽選結果に対応する変動表示ゲームを実行させるための変動パターンを設定する変動パターン設定手段と、通常状態又は確変状態の何れに滞在しているかを遊技者に報知可能な遊技状態報知手段と、を備える。 - 特許庁

To provide novel leather having a concave-convex pattern, which is three-dimensionally shaped as a whole pattern formed, by deforming the leather body itself by freely drawing a picture or a design on the surface of the leather, painting the picture or the design and forming a concave-convex pattern of the leather.例文帳に追加

皮革表面に自由に描画や図柄をすること、描画や図柄に彩色を行うこと、皮革凹凸模様を形成すること、得られる凹凸模様は、皮革本体を変化させて形成されるものであり、模様全体に立体化が図られている新規な皮革の提供。 - 特許庁

The Mushiro for warps and a splashed pattern yarn is obtained by arranging warps and a cotton thread on both sides of a splashed pattern Mushiro surface formed of warps and a splashed pattern yarn to form a Mushiro surface, drawing out only a body part of divided Mushiro surface and binding shoulders, breast parts, hem parts, warps and a cotton thread of the Mushiro surface with wefts and a cotton thread.例文帳に追加

このため、縦・絣糸用むしろは、縦・絣糸からなる絣むしろ面の両側に縦・木綿糸を配置してむしろ面とし、区画したむしろ面の胴部分のみを引き出し、むしろ面の肩・胸部分及び裾部分と縦・木綿糸とを横・木綿糸にて縛って形成した。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes: a cooling step of irradiating a coating film containing inorganic powder formed on a substrate with a laser beam for drawing a pattern and simultaneously cooling the portion irradiated with the laser beam; and a step of removing a portion except for the pattern.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A drawing means 4 draws the pattern on the region 6 according to the drawing order decided by the means 2 and by the settling time decided by the means 3 using the electron beam.例文帳に追加

描画手段４は、描画順序決定手段２によって決定された描画順序に従って、また、整定時間決定手段３によって決定された整定時間にて偏向領域６に対して描画パターンを電子線により描画する。 - 特許庁